Zaprezentowano system regulacji temperatury powierzchni membrany krzemowej w higrometrze, w którym do detekcji punktu rosy wykorzystano czujnik z ultradźwiękową falą płytową.
Zaprezentowano metody: stykową i bezstykowe (optyczne) do pomiaru grubości membran krzemowych. W metodach optycznych wykorzystano pomiary natężenia strumienia światła przechodzącego przez mikrostrukturę krzemową. Omówione metody pomiarowe znajdują zastosowanie przy sprawdzaniu grubości membran krzemowych podczas procesu ich dotrawiania. Proces ten ma na celu uzyskanie membran o założonej grubości. Często przy zbyt cienkiej membranie następuje jej przetrawienie i uszkodzenie. Pomiar grubości pozwala na uniknięcie uszkodzenia membrany i określenie czasu dotrawiania.
EN
Contact and off-contact (optical) methods to measure silicon membranes' thickness are shown in the article. In optical methods the measurement of lights stream intensity coming across the silicon microstructure was used. The methods presented apply to checking the silicon membranes thickness during the process of etching. The goal of this process is to obtain membranes of assumed thickness. When the membrane is too thin it effects with over-etching and damaging the membrane. The measurement of thickness can avoid damaging the membrane and can determine time of etching as well.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.