Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

1 Electron Technology

1 2000

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Fabrication of microstructures in thin niobium films by reactive ion etching

100%

Piotrowska A. , Piotrowski T. T. , Kamińska E. , Szopniewski Z. , Gierłowski P. , Lewandowski S.

2000

tom Vol. 33, No. 3

387-392

Dry rtching of thin niobium films using CCl₂ F₂ /H₂ plasma has been investigated. The efect of rf power, gas flow ratio, and total pressure on the etching characteristics of Nb was examined with special attetion paid to surface quality, etching rate and etching profiles. The morphology of etched surfaces was examined using both optical Nomarski and scanning electron microscopy; the etch depth was measured on patterned substrates by means of a Tencor Alpha-step profilometer. By adjusting RIE parameters: P = 30 W, CCl₂ F₂/H₂ = 1.12, p= 185 µbar, submicron size features with vertical side walls have been obtained in niobium films.