Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 7

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
|
|
tom nr 3
1343--1350
PL
Przykład MPL Katowice w Pyrzowicach potwierdza znaczącą rolę portów regionalnych w rozwoju województw. Przedstawione wyniki badań wykazały, że większość użytkowników portu pozytywnie ocenia działalność lotniska. W opinii badanych respondentów Port Lotniczy w Katowicach wzmacnia potencjał gospodarczy regionu. Partnerzy biznesowi dostrzegają także kluczową rolę portu w tworzeniu przewagi konkurencyjnej. Z kolei duża aktywność lotniska w zakresie liczby obsłużonych pasażerów i ładunków wyróżnia ten obiekt na tle działań konkurencji.
EN
The example of Katowice Airport confirms the crucial importance of regional airports in the development of voivodeships. According to the presented study results, the majority of users provide a positive evaluation of the airport. The study population claims that Katowice Airport enhances the economic potential of the region. Moreover, business partners perceive the key role of the port in creating competitive advantage. On the other hand, the considerable activity of the airport as far as passenger and load service is concerned make the facility distinguishing in comparison with the competitive actions.
EN
This paper presents the results of nanohardness measurements of silicon nitride (SiNx) and two types of diamond-like carbon films (DLC) deposited by radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD) method. In order to accurately determine hardness of SiNx and DLC films two approximation methods have been applied, where first includes an effect of the substrate (layer/substrate system), and the second takes into account an additional silicon dioxide (SiO2) interlayer (layer/SiO2/substrate system). In this work thickness and roughness of the films has also been investigated. The study has shown that the DLC films are slightly harder than SiNx films.
PL
Praca ta dotyczy badań twardości warstw azotku krzemu (SiNx) oraz warstw diamentopodobnych (DLC, ang, diamond-like carbon films) osadzanych metodą chemicznego osadzania z fazy lotnej wspomaganego plazmą. W celu dokładnego wyznaczenia twardości warstw SiNx i DLC zastosowano dwa rodzaje metod aproksymacji wyników pomiarów metodą nanoindentacji. Pierwsza z nich uwzględniała jedynie wpływ podłoża (warstwa/podłoże) natomiast w drugiej metodzie uwzględniono także wpływ dodatkowej warstwy SiO2 (tlenku krzemu) (warstwa/SiO2/podłoże). W niniejszej pracy badane były również grubość oraz chropowatość warstw. Badania wykazały, że warstwy DLC są nieco twardsze od warstw SiNx.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.