Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 2000

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: warstwa półprzewodnikowa

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wybrane problemy materiałowe w przemyśle elektronicznym: wpływ grubości warstwy epitaksjalnej InAs na podłożu GaAs <100> na jej jakość krystaliczną i półprzewodnikową : miniaturyzacja w technologii krzemowej

Wolkenberg A., Przesławski T., Regiński K., Bąk-Misiuk J., Kaniewski J.

Inżynieria Materiałowa

2000

R. XXI, nr 4

137-141

Celem pracy jest przedstawienie wybranych problemów materiałowych przemysłu elektronicznego związanych z wykorzystywaniem bardzo cienkich monokrystalicznych warstw półprzewodnikowych (InAs) i ogromnego w ostatnich latach zmniejszenia rozmiarów struktur półprzewodnikowych (tranzystorów, pamięci) wykonywanych w technologii krzemowej. Omówiono właściwości krystalograficzne i elektroniczne warstw epitaksjalnych InAs osadzanych przy pomocy metody MBE na podłożach z GaAs <100>, zaproponowano model dwuwarstwowy dla cienkich warstw InAs pozwalający obliczać FWHM i koncentrację nośników w nie domieszkowanym materiale w funkcji grubości. Przeprowadzono analizę własnych wyników i danych literaturowych. Zwrócono uwagę na zmniejszenie wymiarów geometrycznych struktur w technologii krzemowej podstawowej dla bieżących konstrukcji mikroukładów pamięciowych i procesorowych.

The aim of paper was to present some problems in materials engineering connected with miniaturization of geometric dimensions of electronic structures. The examples are taken from InAs epitaxial layers and silicon technology. There are described crystallographic and electronic properties of InAs epitaxial layers deposited on insulating GaAs <100> wafers by MBE method after our results and from literature. It is proposed a novel two layer model after Petritz which allow to calculate crystalline (FWHM) and electronic (concentration, mobility) properties of any one undoped InAs layer with any one thickness. It was performed a comparative analysis of our results and those from literature. There is described the surprising decrease of semiconductor structures dimensions on silicon during last years. The problem was demonstrated on DRAM memories increase and transistors decrease as the components of microprocessor chips. Further development is concerned to silicon dioxide quality in very thin layers 1.2 nm thick.

Fizyczne własności epitaksjalnych warstw PbTe otrzymywanych przez odparowywanie laserowe.

Piotrowski T.

Inżynieria Materiałowa

2000

R. XXI, nr 6

392-394

Przedstawiono metodykę uzyskiwania warstw epitaksjalnych ze związków AIVBVI z wykorzystaniem modulowanej wiązki lasera dużej mocy (10 do potęgi piątej W/cm kwadratowy) o długości fali 10,6 mm. Badano, w funkcji temperatury, zmiany współczynnika Halla warstw epitaksjalnych PbTe otrzymywanych przez laserowe odparowanie krystalicznego źródła, dla różnych temperatur (160-380 stopni Celsjusza) krystalicznego podłoża z BaF2(111). Zaobserwowano zmianę typu przewodności warstw z przewodności typu p na przewodność typu n, przy podwyższaniu temperatury podłoży, począwszy od 210 stopni Celsjusza. Wykorzystując pomiary STM badano topografię powierzchni warstw, określono wielkości ziaren na około 20-30 nm i po nałożeniu cienkiej warstwy złoża chropowatość powierzchni (<5 nm). Metoda epitaksji laserowej pozwoliła uzyskać warstwy o nietypowych elektrofizycznych właściwościach i koncentracjach elektronów w zakresie nie osiągalnym innymi metodami.

In this report the investigation of PbTe layers are presented. The layers have been grown by source evaporation technique using a modulated infrared (10,6 micrometer) large power (10 to the 5th W/square centimetres) laser beam. Tempearture dependence of the Hall coefficient of PbTe layers has been investigated. The PbTe layers have been grown on monocrystal BaF2(111) substrate, using the laser beam assisted evaporation for various substrate temperatures in the range 160-380 degrees centigrade. During the increase of substrate temperature beginning from the temperature approximately 210 degrees centigrade the layer conductivity changed from p to n type. The topographic measurements with the STM for the determination of the surface roughness (after gold covering) and grain dimensions have been presented. The grain size (20-30 nm) and the surface roughness (<5nm) of layers were determined. Using the laser evaporation technique it is possible to obtain the non-typical electrophysical properties of epitaxial PbTe films and electron concentration in the range which is impossible to reach with other methods.