PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 10

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  technologia krzemowa
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Modelowanie syntezy metanolu w mikroreaktorze płytowym
Wodołażski A.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2014
|
R. 90, nr 1
76--79
PL
W artykule przedstawiono wyniki symulacji numerycznej procesu syntezy metanolu z gazu syntezowego na katalizatorze Cu/ZnO/Al₂O₃ w reaktorze mikropłytowym. Zaprezentowano opis modelowy wymiany ciepła oraz masy syntezy metanolu w dwufazowym układzie gaz-ciało stałe z wykorzystaniem pseudojednorodnych modeli dyspersji. Do symulacji wykorzystano oprogramowanie COMSOL Multiphysics. Określono stopień konwersji CO oraz dezaktywacji katalizatora. Weryfikację wyników przeprowadzono w oparciu o prace literaturowe.
EN
This paper presents results of numerical simulation of the synthesis of methanol from syngas in plate microreactor over a catalyst Cu/ZnO/Al₂O₃. It presents a description of a model of heat transfer and mass of the methanol synthesis in a two phase gas-solid using pseudo-homogeneus dispersion models. The simulation used the software COMSOL Multiphysics. The conversion of CO and catalyst deactivation was described. Verification of the results was based on the works of literature.
2
Content available remote Microfluidic devices for biomedical applications
Łysko J. M., Baraniecka A., Nieprzecki M., Grabiec P.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2012
|
R. 88, nr 3a
212-214
EN
Two types of microfluidic devices demonstrators designed for biomedical applications are presented. The first one is modular lab-on-achip (LOC) system, intended for the electrochemical detection of psychotropic drug presence and content in the human saliva. The second device was an optical and microfluidic system for bacteria detection and recognition.
PL
W niniejszym artykule przedstawiono zastosowania dwóch układów mikrofluidycznych w diagnostyce biomedycznej. Pierwszy lab-ona- chip (LOC) przeznaczony jest do elektrochemicznego oznaczania leków psychotropowych w ślinie, natomiast drugi do optycznego wykrywania oraz rozpoznawania bakterii.
3
Elementy MEMS - problemy technologii krzemowej na przykładzie procesu projektowania i realizacji mikrourządzenia skanującego
Zarzycki A., Gambin W.
Przegląd Mechaniczny
|
2010
|
nr 9
24-29
4
Content available remote Modelowanie i wytwarzanie mikrosystemów dla zastosowań w chemii i diagnostyce biomedycznej
Domański K., Baraniecka A., Ekwińska M., Janus P., Prokaryn P., Sierakowski A., Szmigiel D., Zaborowski M., Grabiec P.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 10
17-20
PL
W artykule przedstawiono procesy technologiczne mikroinżynierii krzemowej wykorzystane do wytwarzania przyrządów opracowywanych w ramach projektu MNS-DIAG. Kluczowymi procesami dla wytwarzania opracowywanych w ramach tego projektu demonstratorów są: głębokie plazmowe trawienie podłoża krzemowego, procesy łączenia płytek podłożowych z innymi płytkami krzemowymi, ceramicznymi lub szklanymi, procesy elektrochemicznego osadzania metali szlachetnych oraz procesy nakładania i kształtowania warstw polimerowych.
EN
The development of silicon technology over the last few decades has enabled production of complex integrated circuits and has also contributed to the development of microsystems containing sensors, actuators, and signal processing circuits. Currently, microsystems based on silicon technology, complemented by processes specific to MEMS technology, are widely used in both automotive as well as in chemistry, biology or medicine. The paper presents processes used to manufacture silicon microsystems developed in the fame of the project “Microsystems for biology, chemistry and medical applications”. The project goal is to develop a range of biomedical devices and chemical sensors: lab on a chip for determination of psychotropic drugs in saliva samples, diagnostic instruments for analysis of body secretion for fertility and pathological states monitoring, diagnostic instruments for evaluation of bovine embryos, microreactors for cell culture, arrays of chemical sensors for detection of Gramnegative bacteria and MEMS for medical diagnostic equipment. Key manufacturing processes used for fabrication of these devices are: deep plasma etching of silicon substrate, bonding of silicon, ceramic or glass substrates, electrochemical deposition and patterning of noble metals and coating and patterning of polymer layers on silicon and glass substrates.
5
Design and manufacturing of heterogeneous microsystems for micro- and nanotechnology applications
Janus P., Domański K., Ekwińska M., Bieniek T., Kaliciński S., Sierakowski A., Dobrowolski R., Szmigiel D., Prokaryn P., Grabiec P.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2010
|
Vol. 51, nr 4
62-71
EN
Tremendous progress of microelectronic technology observed within last 40 years is closely related to even more remarkable progress of technological tools. However it is important to note, that these new tools may be used for fabrication of diverse multifunctional, integrated structures as well. Such devices, called MEMS (Micro-Electro-Mechanical-System) and MOEMS (Micro-Electro-Opto-Mechanical-System) integrate microelectronic and micromechanical structures in one system enabling interdisciplinary application, with most interesting and prospective being micro- and nanoscale investigations. In this paper, authors present some issues on heterogeneous microsystems design and manufacturing. Examples of various applications of microelectronic technology for fabrication of microsystems which may be used for micro- and nanoscale application are also presented.
PL
Obserwowany na przestrzeni ostatnich 40 lat postęp w dziedzinie technologii mikroelektronicznych związany jest bezpośrednio z rozwojem i powstawaniem nowych narzędzi technologicznych. Należy zaznaczyć, iż narzędzia te przyczyniły się również do powstania szeregu różnorodnych, wielofunkcyjnych, zintegrowanych struktur. Struktury (przyrządy) te, nazywane MEMS (ang. Micro-Electro-Mechanical-System) lub MOEMS (ang. Micro-Electro-Opto-Mechanical-System integrują w ramach jednego systemu elementy mikromechaniczne i mikroelektroniczne, co otwiera wiele nowych interdyscyplinarnych zastosowań jak np. badania w mikro- i nanoskali. W artykule autorzy przedstawiają wybrane zagadnienia związane z projektowaniem i wytwarzaniem tego typu heterogenicznych mikrosystemów. Ponadto w artykule przedstawione zostały przykłady wykorzystania technologii krzemowej do wytworzenia mikrosystemów oraz ich zastosowania w mikro- i nanoskali.
6
Rozwój fotowoltaiki w okresie ogólnoświatowego kryzysu
Klugmann-Radziemska E.
Czysta Energia
|
2009
|
Nr 2
18-19
7
Content available Od mikroelektroniki do mikrosystemów, czyli o roli i znaczeniu krzemu
Gniazdowski Z.
Zeszyty Naukowe Warszawskiej Wyższej Szkoły Informatyki
|
2006
|
nr 1
125--137
PL
W artykule zwrócono uwagę na znaczenie krzemu i technologii krzemowej zarówno w rozwoju mikroelektroniki – a co za tym idzie – także informatyki, a także w rozwoju mikrosystemów (ang.: MEMS – Micro- Electromechanical System), gdzie łączy się elektronikę z mikromechaniką, oraz w rozwoju zminiaturyzowanych systemów do całkowitych analiz chemicznych (ang.: μTas – Micro Total Analysis System).
EN
In this paper, the role of silicon for development of computer technology is emphasized. It is noticed that Micro-System Technology (MST) as well as Technology of Micro Total Analysis System (μTAS) are also derived from silicon technology. Hence, the importance of silicon in many modern human activities is concluded.
8
Wykorzystanie szkliw domieszkowo-krzemowych w technologii półprzewodnikowych struktur fotowoltaicznych
Wróbel E., Waczyński K., Mazur M., Filipowski W., Drabczyk K.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2005
|
Vol. 46, nr 11
32-34
PL
Przedstawiono badania nad przydatnością szkliw domieszkowo-krzemowych w technologii półprzewodnikowych struktur fotowoltaicznych oraz nad określeniem wpływu parametrów procesu dyfuzji na właściwości ogniw słonecznych. W trakcie badań przeprowadzono szereg testowych procesów dyfuzji z szkliw domieszkowo-krzemowych, a następnie wykorzystując uzyskane warstwy dyfuzyjne wytworzono serię ogniw słonecznych i poddano je pomiarom za pomocą specjalistycznej aparatury.
EN
In the article there are presented usability researches on the silica gasses, made of semiconductor photovoltaic cells, as well as the analysis of an influence of the diffusion process parameters on the photo cells' properties. During the research there were testing processes of the silica glasses diffusion performed, and with the use of the diffusion layers, a series of photo cells was generated to put them on measurements taking advantage of specialized apparatus.
9
Wybrane problemy materiałowe w przemyśle elektronicznym: wpływ grubości warstwy epitaksjalnej InAs na podłożu GaAs <100> na jej jakość krystaliczną i półprzewodnikową : miniaturyzacja w technologii krzemowej
Wolkenberg A., Przesławski T., Regiński K., Bąk-Misiuk J., Kaniewski J.
Inżynieria Materiałowa
|
2000
|
R. XXI, nr 4
137-141
PL
Celem pracy jest przedstawienie wybranych problemów materiałowych przemysłu elektronicznego związanych z wykorzystywaniem bardzo cienkich monokrystalicznych warstw półprzewodnikowych (InAs) i ogromnego w ostatnich latach zmniejszenia rozmiarów struktur półprzewodnikowych (tranzystorów, pamięci) wykonywanych w technologii krzemowej. Omówiono właściwości krystalograficzne i elektroniczne warstw epitaksjalnych InAs osadzanych przy pomocy metody MBE na podłożach z GaAs <100>, zaproponowano model dwuwarstwowy dla cienkich warstw InAs pozwalający obliczać FWHM i koncentrację nośników w nie domieszkowanym materiale w funkcji grubości. Przeprowadzono analizę własnych wyników i danych literaturowych. Zwrócono uwagę na zmniejszenie wymiarów geometrycznych struktur w technologii krzemowej podstawowej dla bieżących konstrukcji mikroukładów pamięciowych i procesorowych.
EN
The aim of paper was to present some problems in materials engineering connected with miniaturization of geometric dimensions of electronic structures. The examples are taken from InAs epitaxial layers and silicon technology. There are described crystallographic and electronic properties of InAs epitaxial layers deposited on insulating GaAs <100> wafers by MBE method after our results and from literature. It is proposed a novel two layer model after Petritz which allow to calculate crystalline (FWHM) and electronic (concentration, mobility) properties of any one undoped InAs layer with any one thickness. It was performed a comparative analysis of our results and those from literature. There is described the surprising decrease of semiconductor structures dimensions on silicon during last years. The problem was demonstrated on DRAM memories increase and transistors decrease as the components of microprocessor chips. Further development is concerned to silicon dioxide quality in very thin layers 1.2 nm thick.
10
Zastosowanie organizacji połączeń tytanu i krzemu w technologii krzemowej
Krompiec S., Majewski J., Matysek-Majewska D., Waczyński K.
Zeszyty Naukowe. Chemia / Politechnika Śląska
|
1998
|
z. 137
227-234
PL
Przedstawiono badania z zastosowaniem organicznych kompleksów tytanu oraz wybranych związków fosforu, boru, arsenu i antymonu do modyfikacji powierzchni płytek krzemowych, stosowanych w elektronice. Z szeregu przetestowanych kompleksów tytanu najlepsze właściwości dla otrzymania antyrefleksyjnych powłok tlenku tytanu (IV) wykazał diizopropoxy-bis(2,4-pentanodioniano)tytan(IV). Do wytwarzania szkliw domieszkowych wytypowano tetraetoksysilan, kwas borowy(III), kwas fosforowy(V), chlorek antymonu(III) i kwas arsenowy(V).
EN
The investigations on the application of complexes of titanium and selected phosphorus, boron, arsenic and antimony compounds for the modification of the obtaining thesurface of silicone plates for electronic purposes have been presented. The best properties for obtaining the titanium dioxide antireflective coatings performs, among number of examined titanium complexes, diizopropoxobis(2,4-pentanedionato)titanium. Tetraethoxysilane, boric acidphosphoric acid, antimonium (III) chloride and arsenic acid were chosen for the preparation of doping glazes.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.