PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Apparatus for the measurement of critical temperature in metallic quantum wells
Orłowski M., Paprocki K., Korczak Z., Jałochowski M.
Electron Technology
|
1998
|
Vol. 31, No. 3/4
516-519
EN
The apper describes construction of UHV apparatus and the method of critical temperature measurement of thin Pb layers. Electronic setup for specific resistivity measurement Pb layers during thier deposition on Si(111) substrate is presented. The results obtained during specific resistivity measurements of Pb layers at temperatures above Tc illustrates the accuracy of proposed measuremement method.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.