Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2013

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: wielotargetowe stanowisko do rozpylania magnetronowego

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wytwarzanie warstw wieloskładnikowych metodą rozpylania magnetronowego

100%

Adamiak B. , Domaradzki J. , Kaczmarek D. , Mazur M. , Wojcieszak D. , Szatkowski A. , Lis M. , Kurnatowska M. , Kępiński L. , Mazur P.

tom Vol. 54, nr 1

7-9

W pracy przedyskutowano sposoby wytwarzania warstw wieloskładnikowych z zastosowaniem metody rozpylania magnetronowego przykładzie cienkich warstw Ti-Cu. Tytan oraz miedź wybrano ze względu na całkowicie różne mechaniczne i termiczne właściwości tych materiałów. Warstwy wytworzono z zastosowaniem targetów stopowych oraz proszkowych o odpowiednio dobranych proporcjach składników. Na podstawie badań składu materiałowego stwierdzono znacznie większą zawartość miedzi w wytworzonych warstwach w porównaniu z wyjściowym składem rozpylanych targetów.

In this paper various methods of deposition of multicomponent films by magnetron sputtering method have been discussed on the example of Ti-Cu thin films. Titanium and copper were chosen due to different (mechanical and thermal) properties of these materials. Thin films were deposited using alloy and powder targets with selected component ratio. Based on measurements of material composition it was found, that the amount of copper in manufactured thin films is much greater as compared to initial composition of sputtered targets in both cases.