PL
 |
EN
Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  warstwa zapobiegająca zabrudzeniom
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Wpływ dawki prekursora procesu ALD w na jakość warstw AR i AS wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych
100%
Kwaśnicki P.
|
|
tom Vol. 65, Nr 7
30--33
PL
W pracy skupiono się na optymalizacji kluczowych parametrów procesu ALD w wielkoskalowym reaktorze produkcyjnym o rozmiarze 2200 × 1200 mm pozwalającym na jednoczesne pokrywanie warstwą tlenkową 10 tafli szklanych o grubości 4 mm. Optymalizacji poddano procesy wzrostu warstwy Al₂O₃ oraz TiO₂ jako materiałów charakteryzujących się wysoką odpornością na czynniki środowiskowo klimatyczne.
EN
The influence of the precursor dose of the ALD process on the quality of AR and AS layers used in photovoltaic technologies. The focus of the work was on optimizing key parameters of the ALD process in a large-scale production reactor measuring 2200 × 1200 mm, allowing simultaneous coating of 10 glass sheets, each with a thickness of 4 mm, with an oxide layer. The optimization involved the growth processes of Al₂O₃ and TiO₂ layers as materials characterized by high resistance to environmental factors.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.