The paper describes the processes that produce alumina oxide layers on titanium by the PACVD method with the use of trimethyloaluminum as the donor. By dosing the metal-organic compound at 400°C and oxidizing the Al coating being formed under glow discharge conditions at a temperature of the order of 550°C, we obtain a nano-crystalline AI2O3 layer. An increase in the glow discharge oxidizing temperature to about 600°C, enables the intermetallic phases of the Ti3Al type to be formed.
PL
W artykule omówiono procesy prowadzące do wytworzenia warstw tlenku glinu na tytanie metodą PACVD stosując jako donor glinu- trimetyloglin. Dozując związek metaloorganiczny w 400°C i utleniając w warunkach wyładowania jarzeniowego tworzącą się powłokę Al w temperaturze rzędu 55O°C uzyskuje się nanokrystaliczną warstwą Al2O3. Kolejne podwyższenie temperatury procesu utleniania jarzeniowego do około 600°C pozwala na wytworzenie faz międzymetalicznych typu TiAl3.
W artykule przedstawiono wyniki badań struktury i składu chemicznego warstw Al2O3, Al2O3 + AlN otrzymanych na podłożach wykonanych z Niklu 200 metodą PACVD z użyciem związku metaloorganicznego trimetyloglinu. Warstwy te charakteryzuje duża twardość, wysoka odporność na ścieranie, chemiczna stabilność. Stosowano następujące techniki badawcze: mikroskopia świetlna SEM + EDS, AES, XRD, badania mikrotwardości, badania korozyjne.
EN
The structure and chemical composition of composite oxynitrided layers obtained on Nickel 200 by PACVD method using metaloorganic compound (trimethylaluminium Al(CH3)3) are described. X-ray microanalysis examinations, confirmed by X-ray diffraction and Auger electron spectroscopy, shows that obtained layer contains Al2O3 and AlN phases.The obtained layer shows high hardness (1300 HV0,05) and good corrosion resistance.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.