Zbadano wpływ parametrów procesu osadzania powłoki TiN (polaryzacji podłoża i czasu procesu), na obciążenie krytyczne, mierzone podczas próby zarysowania. Powłoki osadzano przy czterech różnych wartościach polaryzacji podłoża: -50, -100, -200, -400 V, w ciągu 5 minut oraz dodatkowo dla polaryzacji -50 V i -200 V, w czasie 10 i 15 minut. Topografię powierzchni powłok analizowano przy użyciu mikroskopu skaningowego i profilometru. Obciążenie krytyczne zmniejsza się przy wzroście polaryzacji i wzrasta ze wzrostem grubości powłok. Obciążenie krytyczne, często określane jako adhezja powłoki do podłoża, jest zmierzoną odpornością powłoki na odkształcenia. Mierzona głębokość rys w miejscu uszkodzenia ma stałą wartość, można przypuszczać, że istnieje odkształcenie krytyczne, po przekroczeniu którego w powłoce inicjowane są pęknięcia. Wyniki zostały sprawdzone dla powłok o jednakowej grubości.
EN
The influence of TiN deposition parameters (substrate bias and coating thickness) on the critical normal force, obtained during scratch testing has been studied. Four different values of substrate bias (-50, -100, -200, -400 V), during five minutes were used. Additionally, for substrate bias -50 V and -200 V, coatings were deposited during 10 and 15 minutes. The surface topographies were characterised using scanning electron microscopy and 3D profilometry. The critical normal force decreases with increasing substrate bias and increase with increasing coatings thickness. The critical normal force, frequently defined as adhesion between coating and substrate, there is a measure of ability of the coating to resist deformation. Measured depth of scratches in the damage places, have constant value, so the presumption is that, exist critical deformation which generate coating cracks. Results were obtained for equal coatings thickness.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.