W pracy przedstawiono sposób odchylania oraz modelowania rozkładu energii WE w urządzeniu EB-PVD pozwalający na precyzyjne pozycjonowanie wiązki na omiatanej powierzchni. Dzięki temu uzyskano równomierny rozkład temperatury na całej powierzchni materiału, który podgrzewany przez WE paruje na przygotowane podłoże.
EN
The articles present the method of deflection and modeling of an electron beam energy distribution in EB-PVD device that enables precise positioning of the beam on the scanning surface. Hence an even temperature distribution on the whole surface of the material is achieved. The material heated by the electron beam vaporizes on the prepared substrate.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.