Badano wpływ stężenia puryny lub adeniny na proces anodowego roztwarzania miedzi w kwaśnych 1,0 M roztworach chlorków (pH 3,0 i 1,0). Do pomiarów prowadzonych metodą woltamperometrii stosowano stacjonarną elektrodę dyskową (SDE). Dysk wykonany był z elektrolitycznie czystej miedzi (99,99% Cu). Wydajność (skuteczność) inhibitowania (IE) korozji miedzi wzrasta ze wzrostem stężenia PU lub AD (pH 3,0). Działanie inhibitorów polega na utworzeniu dobrze przylegającej warstwy ochronnej. Adsorpcję PU i AD opisuje izoterma Langmuira. Puryna i adenina ulegają chemisorpcji na powierzchni miedzi.
EN
The influence of the concentration of purine (PU) or of adenine (AD) on the anodic dissolution of copper in 1.0 M acidic chloride solutions (pH 3.0 and 1.0) has been studied by means of the voltammetry method, for which a stationary disk electrode (SDE) was used. The disk was made of copper (99.99% Cu). The tests showed that the inhibiting effi ciency (IE) of the corrosion of copper increases together with a rise in the concentration of PU or AD (pH 3.0). Inhibitors create a well adhering protective layer which is postulated to account for their protective effect. The adsorption of PU and AD has been found to occur on the surface of copper according to the Langmuir isotherm. Purine and adenine are chemically adsorbed on the copper surface.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.