Celem pracy było opracowanie metody wytwarzania bioaktywnego materiału implantacyjnego przeznaczonego dla chirurgii kostnej. Bioceramiczne tworzywo otrzymano drogą obróbki termicznej prekursora krzemoorganicznego, zawierającego aktywne dodatki. Skład fazowy materiału ceramicznego badano za pomocą spektroskopii w podczerwieni (FTIR) oraz dyfrakcji rentgenowskiej (XRD). Mikrostrukturę otrzymanego materiału analizowano za pomocą skaningowej mikroskopii elektronowej (SEM) połączonej z mikroanalizą rentgenowską (EDS). Przeprowadzono test bioaktywności w warunkach "in vitro" poprzez przetrzymywanie materiałów ceramicznych w SBF-ie. Badania wykazały, że obróbka termiczna prekursora krzemoorganicznego zawierającego aktywne wypełniacze prowadzić może do otrzymania tworzywa ceramicznego zawierającego wolastonit, charakteryzującego się bioaktywnością w warunkach "in vitro".
EN
The aim of this work was to elaborate the preparation method of bioactive implant material for bone surgery applications. The bioceramic material was obtained by thermal treatment of active fillers-containing organosilicon precursor. The phase composition of ceramic material was analysed by means of infrared spectroscopy (FTIR) and XRD analysis (XRD). The microstructure of the obtained material was studied by scanning electron microscopy (SEM) with EDS point analysis. The bioactivity test in "in vitro"conditions was determined by immersing of ceramic samples in SBF. It was found that thermal treatment of active filters-containing organosilicon precursor leads to formation of wollastonite-containing ceramic material. The ceramic material demonstrates bioactivity in "in vitro" conditions.
Amorficzne uwodornione cienkie warstwy węglikoazotku krzemu były wytwarzane z tetrametylodisilazanu w selektywnym procesie plazmowym CVD, w którym do generowania plazmy stosowano mieszaninę wodór-azot. Przedstawiono rezultaty badań nad wpływem stężenia azotu w zasilającej plazmę mieszaninie wodór-azot na strukturę chemiczną, morfologię powierzchni i właściwości warstwy (gęstość, twardość, moduł sprężystości, współczynnik tarcia).
EN
Amorphous hydrogenated silicon carbonitride thin films were produced from tetramethyldisilazane by remote plasma chemical vapor deposition using the hydrogen-nitrogen mixture for plasma generation. The results of studies of the effect of the nitrogen content in the plasma feeding hydrogen-nitrogen mixture on chemical structure, surface morphology, and properties (density, hardness, elastic modulus, friction coefficient) of resulting film is reported.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.