Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

2 2002

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: potencjał osadzania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Zastosowanie metody elektrochemicznej do wytwarzania wielowarstw metalicznych.

100%

Tokarz A. , Wolkenberg A.

tom R. XXIII, nr 5

458-460

W pracy przedstawiono możliwość wykorzystania elektrochemicznej metody otrzymywania supersieci metalicznych Cu/Ni i Cu/Co. Zastosowano elektrochemiczną metodę potencjostatyczną (stałoprądową) z jednego roztworu, zawierającego jony metali wchodzących w skład osadzanej supersieci. Na podstawie badań polaryzacyjnych określono zakresy potencjałów osadzania poszczególnych warstw supersieci. Na podstawie badań składu chemicznego pojedynczych warstw stwierdzono, iż możliwe jest otrzymanie praktycznie czystych warstw miedzi (-99,8 % at. Cu) i warstw stopu Co-Cu (bądź Ni-Cu) o zawartości Cu 25 % at. Powiązanie wyników badań składu chemicznego z wartościami prądu katodowego rejestrowanego w trakcie badań polaryzacyjnych pozwoliło na optymalny dobór potencjałów osadzania warstw miedzi i kobaltu (lub niklu).

In this work an electrochemical method for obtaining metallic superlattices is presented. The potentiostatic electrochemical method from single electrolyte bath, based on nickel sulphamate or cobalt sulphate and cooper sulphate, has been applied for Cu/Ni and Cu/Co superlattices deposition. The experimental setup used for preparation of Cu/Ni and Cu/Co systems is presented. The ranges of the deposition potential where Cu and Ni or Co ions are reduced were established based on the polarisation data for Cu substrate. The chemical compositions of single layers have been checked. For both systems subject to investigation the Cu layers deposited at chosen potentials were almost pure (99,8 % at. Cu) while Ni (or Co) layers contained 25% at. Cu. The correlation between the cathodic current and the Cu concentration in the single layers deposited at different potentials have been investigated.

Elektrochemiczne osadzanie na podłożu Cu wielokrotnych nanowarstw Ag-Ni z kąpieli cyjankowych i kwaśnych.

75%

Banaszkiewicz A. , Cimochowski D.

tom R. XXIII, nr 5

380-383

W niniejszej pracy przeprowadzono elektrolityczne osadzanie na podłożu miedzi wielokrotnych naprzemiennych warstw Ag (osadzanych z kąpieli cyjankowych) oraz Ni (osadzanych z kąpieli kwaśnych). Ustalono optymalny potencjał osadzania (-1000 mV w stosunku do nasyconej elektrody kalomelowej), przy którym osadzane warstwy były ciągłe i przyczepne do podłoża. Przy pomocy mikroskopu skaningowego zaobserwowano naprzemienne warstwy o grubości 50 nm każda. Podjęto próby obserwacji tych warstw na transmisyjnym mikroskopie elektronowym przy pomocy techniki triafolowych replik celowanych napylanych węglem i złotem. Uzyskano dobre odwzorowanie powierzchni, ale nie natrafiono na obserwowanych fragmentach replik na obszary obejmujące wielokrotne warstwy. Technika ta po jej dopracowaniu rokuje nadzieje na obserwację supersieci o grubości warstw rzędu 1 nm.

In this paper electrochemical deposition of Ag-Ni multilayers on the Cu substrate from cyanide and acid baths is presented. Optimal deposition potential (-1000 mV SCE) was determined, at which deposited layers were of good quality and adherence. Using scanning electron microscope, multilayers of 50 nm thick were observed. Some efforts were made to observe those layers in STM using the triafole replica technique (vacuum sputtered with carbon and gold). Satisfying representation of the surface was obtained but in the observed fragments one could not find superlattices. Nevertheless, after ameliorating, this technique may let us observe superlattices built from layers 1 nm thick.