W artykule opisano problemy związane z określeniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej.
EN
The paper describes problems that should be considered during the thickness investigation of thin, transparent, dielectric film, that are synthesized using vacuum systems. The most common used measurement methods are presented, but optoelectronic methods based on light interference on the sample spectral analysis and change of polarization of light illuminate the sample were the main topic.
2
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW