Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 4

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  plasma sheet
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
This paper presents utilization of argon plasma for gradual etching of calcium carbonate crystals. The plasma treatment has been chosen as it appears to be the technique that enables removal of following material layers, thus, the access to the inside of crystals is possible. Examples of investigations of the morphology and mechanical properties of surfaces of calcium carbonate crystals are presented. The impact of plasma treatment has been verified in terms of roughness and volume changes investigated using atomic force microscopy technique in a multi-step experiment. Therefore, we were able to observe the crystal degradation process, revealing the spatial inhomogeneity of the calcium carbonate crystals resulting from their core-shell structure.
2
Content available remote Compact microwave plasma device for surface treatment
75%
EN
Currently, plasma systems for plastic, metal, glass and composite surface modifications are of high interest from industry point of view. In addition, attention is paid to the reduction of investment as well as operating costs of the process. According to this, to meet industry expectations a novel compact microwave plasma device for surface treatment was designed, built and tested. The major advantage of the device is a unique shape of the generated plasma having a form of a plasma sheet suitable for surface treatment.
PL
Wychodząc naprzeciw oczekiwaniom przemysłu zainteresowanego tanim urządzeniem do modyfikacji powierzchni tworzyw sztucznych, metali, szkła i kompozytów zaprojektowano, zbudowano i przeprowadzono testy nowego kompaktowego mikrofalowego źródła plazmy do obróbki powierzchni. Główną zaletą urządzenia jest unikalny kształt generowanej plazmy tzw. płaszczyzny plazmowej dogodny w obróbce powierzchni.
EN
In this paper, results of optical emission spectroscopy OES study of plasma generated in waveguide-supplied plasma-sheet microwave (2.45 GHz) plasma source (MPS)are presented. The plasma gas temperature inferred from rotational temperature of heavy species (assumed to be close to gas temperature) ranged from 800 up to 1300 K and the electron number density ranged from 3.3 * 1014 up to 6.1 * 1014 cm-3. Moderate plasma gas temperature as well as high electron density makes presented plasma device attractive tool for different surface treatment.
PL
W tej pracy prezentujemy wyniki spektroskopowych badań plazmy wytwarzanej przez mikrofalowe (2,45 GHz), zasilane falowodowo, źródło płaszczyzny plazmowej. Temperatura cząstek ciężkich gazu (zakłada się, że jest ona bliska temperaturze gazu) wynosiła od 800 do 1300K natomiast koncentracja elektronów wahała się od 3.3 * 1014 do 6.1 * 1014 cm-3. Umiarkowana temperatura gazu oraz wysoka koncentracja elektronów czyni z prezentowanego urządzenia atrakcyjne narzędzie obróbki różnorakich powierzchni.
4
Content available remote Urządzenie mikrofalowe do generacji płaszczyzny plazmowej
63%
PL
W niniejszym artykule prezentowane jest nowe urządzenie mikrofalowe pracujące na częstotliwości 2,45 GHz, które służy do wytwarzania płaszczyzny plazmowej. Unikalny kształt generowanej płaszczyzny plazmowej jest bardzo dogodny do obróbki powierzchni, a więc atrakcyjny dla zastosowań w przemyśle. Prezentowany mikrofalowy generator płaszczyzny plazmowej jest urządzeniem wytwarzającym plazmę nietermiczną w argonie pod ciśnieniem atmosferycznym.
EN
In this paper, a new microwave device operated at 2.45 GHz for generation of plasma sheet is presented. The unique shape of generated plasma sheet is very convenient for surface treatment, thus it is attractive for industry. Presented microwave generator of plasma sheet produces non-thermal plasma in argon at atmospheric pressure.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.