Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  plasma enhanced CVD
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
100%
PL
Do powierzchniowej modyfikacji skrobi ziemniaczanej, polegającej na hydrofobizacji jej ziaren, zastosowany został obrotowy reaktor plazmochemiczny (PECVD) wysokiej częstotliwości. Czynnikami roboczymi użytymi w procesie modyfikacji był metan lub mieszanina tetrametylosilanu i argonu (TMS/Ar). Wydajność procesu hydrofobizacji badana była w zależności od takich parametrów procesu jak: typ gazu roboczego, szybkość przepływu gazu, wyjściowa moc wyładowania jarzeniowego.
EN
A rotating Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) reactor has been used for surface modification of potatoe starch, aimed at the hydrophobization of its grains. Two working media, such a tetramethylsilane (TMS)/argon mixture or methane have been used as working media. The results of the efficiency of surface hydrophobization of potatoe starch grains, as a function of such process parameters as: type of working gas, gas feed-in rate and RF power input are presented in this work.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.