Niniejszą praca zawiera wyniki badań dotyczące otrzymywania amorficznych warstw typu (a-C:H) i (a-C:N:H), na poliwęglanie, metodą RF CVD. Warstwy te otrzymano w temperaturze nie przekraczającej 80 °C przy użyciu reakcyjnych mieszanin gazowych zawierających w swym składzie CH4, H2, Ar i N2 podawanych do reaktora w różnych proporcjach. Określono optymalne parametry procesu w którym otrzymuje się warstwy dobrze przyczepne do podłoża. Badania nanostruktury warstw wykonano metodą mikroskopii sił atomowych (Explorer AFM firmy VEECO). Współczynnik tarcia, odporność na zużycie i odporność na zarysowanie wyznaczono przy użyciu urządzenia Mikro-Combi-Tester firmy CMES.
EN
This work contains the results of investigations a-C:H and a-C:N:H layers obtained on polycarbonate substrates using Radio Frequence Chemical Vapour Deposition (RFC VD) method. The layers were deposited at the temperature not higher then 80°C, using CH4, H2, Ar and N2 which were provided in different ratio to reactor. The optimum process parameters were defined in which the layers well adhesive to the substrate can be obtained. The investigations of nanostructure of these layers were carried out by atomic force microscopy (AFM). The tribological properties were investigated by Mikro-Combi-Tester.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.