Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

1 2006

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: osadzanie na układzie lasera ArF

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wpływ temperatury podłoża (stali 316L) na strukturę fazową warstw typu DLC (diamond like carbon) osadzonych metodą laserowej ablacji na układzie lasera ArF

100%

Mróz W. , Burdyńska S. , Kasuya K. , Prokopiuk A. , Wierzchoń T.

Inżynieria Materiałowa

2006

tom Vol. 27, nr 5

1148-1150

W opracowaniu zostało przedstawione porównanie warstw z węgla amorficznego - typu DLC osadzonych na układzie lasera ArF (X = 193 nm) przy częstotliwości pracy lasera f = 10 Hz, na podłożu ze stali 316L (z warstwą azotowaną wytworzoną wcześniej metodą azotowania jarzeniowego). Fluencja promieniowania laserowego podczas osadzania wynosiła F = 13.9 J/cm2. W trakcie trwania procesów ciśnienie w komorze eksperymentalnej było rzędu 8x 10'5 mbar. Celem przeprowadzonego eksperymentu było osadzenie cienkich warstw diamentopodobnych o wysokiej zawartości twardej fazy regularnej z wiązaniami o hybrydyzacji typu sp na podłożach o temperaturach Ts = 20° C i Ts = 100° C. Badania osadzonych warstw zostały przeprowadzone na mikroskopie sił atomowych (AFM) oraz na fourierowskim spektrometrze w podczerwieni (FTIR).

In the paper surface characterization of diamond like carbon thin films are presented. Films were deposited by laser ablation with ArF excimer laser (A, = 193 nm), working with frequency f = 10 Hz. Films deposited onto steel 316L (with nitride diffusion interlayer). Laser fluency was 13.9 J/cm2. Process was carried out in a vacuum chamber with pressure p = 8x 10"5 mbar at room temperature Ts = 20° C and heated up to 100°C. The main aim of our experimental was to deposite a diamond like carbon films with high concentration of hard cubic phase with sp3 bonds hybrydyzation. An investigation of deposited films were studied by use of Atomic Force Microscopy and by Fourier Transform Infrared Spectrometry (FTIR).