Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: nanostructured coating

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Mikrostruktura i właściwości mechaniczne nanostrukturalnych powłok WC12Co natryskanych naddźwiękowo

100%

Burakowski T. , Żórawski W.

tom Vol. 31, nr 4

905-908

Powłoka WC12Co została natryskana naddźwiękowo (HVOF) z proszku, którego ziarna zawierały nanometryczne cząstki węglika wolframu w osnowie kobaltowej. Nanostrukturalny proszek oraz natryskana powłoka były analizowane za pomocą mikroskopu elektronowego skaningowego (SEM) i mikroskopu elektronowego transmisyjnego (TEM). Stwierdzono, że w skład ziaren proszku oraz natryskanej powłoki wchodzą nanocząstki węglika wolframu. W przypadku kobaltu, ciepło naddźwiękowego strumienia natryskowego spowodowało utworzenie w wielu miejscach struktury amorficznej. Twardość powłoki natryskanej z proszku o budowie nanostrukturalnej, wynosząca 1159 HV, była wyższa o 20% niż powłoki natryskanej z proszku konwencjonalnego na takie samo podłoże. Powłoka nanostrukturalna miała również większą odporność na zużycie ścierne oraz mniejszą porowatość.

Nanostructured cermet coating was sprayed from agglomerated nanostructured WC12Co powder feedstock by means of hypersonic spray process (HVOF). Grains of tungsten carbide nanopowder were analyzed by scanning electron microscope (SEM) and transmission electron microscope (TEM). Investigations revealed that grains of powder and sprayed coating contain nanoparticles. In the case of cobalt matrix heat of the hypersonic stream cause create amprphous structure. Nanostructured sprayed coating exhibit hardness 1159 HV, which was 20 % higher than hardness of conventional coating sprayed on the same core. Nanostructured coating show higher wear resistance and lower porosity.

Supertwarde, nanostrukturalne powłoki TiN/a-Si3N4 na stali Vanadis 23 osadzone nową metodą rozpylania magnetronowego

51%

Wendler B. , Progalski I. , Moskalewicz T. , Pawlak W. , Rylski A. , Makówka M. , Włodarczyk-Kowalska K. , Nolbrzak P.

tom Vol. 34, nr 5

563--567

W artykule zamieszczono wyniki badań nanostrukturalnej powłoki TiN/a-Si3N4 osadzonej na stali Vanadis 23 metodą reakcyjnego rozpylania magnetronowego opracowaną w 2010 r. w Instytucie Inżynierii Materiałowej Politechniki Łódzkiej. Nowa metoda polega na nieciągłym (impulsowym, o czasie otwarcia mikrozaworu ~1 ms) wprowadzaniu do komory próżniowej niewielkiej masy (około kilkudziesięciu miligramów) sprężonego gazu, co powoduje gwałtowny wzrost ciśnienia gazu i zapłonu gęstej plazmy wyładowania magnetronowego i rozpylania targetu aż do zaniku wyładowania, gdy ciśnienie w komorze ulegnie obniżeniu poniżej progu gaśnięcia plazmy, po czym następuje kolejne otwarcie mikrozaworu i proces zapłonu plazmy i jej gaśnięcia powtarza się z częstotliwością ~1 HZ. Wytworzona powłoka składa się Z nanokrystalitów fazy TiN (osbornitu, o strukturze regulamej B1) i a-Si3N4 o symetrii trójskośnej i charakteryzuje się dużą twardością (47 GPa), dużym modułem Younga (560 GPa), bardzo silną teksturą osiową <111>, dużą zwartością powłoki, dużą adhezją do stalowego podłoża (LC = 118 N) oraz dużą gładkością powierzchni (Ra = 0,28 um). Ze względu na korzystne charakterystyki wytworzonej powłoki oraz prostotę nowej metody, niskie koszty inwestycyjne oraz korzystne cechy impulsowej plazmy wyładowania magnetronowego, autorzy artykułu są przeświadczeni o szerokich możliwościach aplikacyjnych tej nowej metody, chronionej szeregiem zastrzeżeń zgłoszonych do Urzędu Patentowego Rzeczypospolitej Polskiej.

Results of charaterization of a superhard, nanostructured TiN/a-Si3N4 coating deposited on Vanadis 23 HS steel with use of a new reactive magnetron sputtering technique elaborated in the Institute of Materials Science and Engineering of the Lodz University of Technology in 2010 are presented in the paper. The new technique consists in an inetermittent delivery of a small amount of a compressed gas into a vacuum chamber with magnetrons connected permanently to current sources. As a result an instantaneous magnetron sputtering discharge is being excited in the chamber of a high intensity of electromagnetic emission, which decreases incessantly until the plasma extinguishes due to permanent working pumping stand. The process repeats when the next gas impulse will be delivered to the vacuum chamber. The frequency of the magnetron discharges is of the order of magnitude of 1 HZ. The coatings deposited on the HS substrate is composed of TiN (osbornite) nanocrystallites of B1 cubic symmetry and of the a-Si3N4 ones of a triclinic symmetry and is characteristic of a superhardness (47 GPa), high Young's modulus (560 GPa), a strong axial texture <111>, high compacity, high adhesion to the HS steel substrate (LC = 118 N) and a low surface roughness (Ra = 0,28 um). In view ofthe useful properties of the deposited coating, simplicity of the deposition technique, low Investment costs and advantageous features of the pulse magnetron discharge plasma, the authors ofthe paper are persuaded of a broad range of possible applications of this new deposition method submitted for protection of numerous claims to the Polish Patent Ofﬁce in 2010 and 2012.