Praca przedstawia nową, 2-stopniową metodę (PVD/CVD) wytwarzania nanoporowatych warstw węglowo-palladowych opracowaną w Instytucie Tele- i Radiotechnicznym oraz wpływ różnych parametrów procesu wytwarzania na strukturę uzyskanego materiału. Przedstawiono wyniki elektronomikroskopowych badań (SEM, TEM) powstałych w różnych warunkach termodynamicznych i na różnych podłożach nanoporowatych warstw zawierających węgiel i pallad. Badania pokazały, że stopień rozwinięcia powierzchni materiału porowatego silnie zależy od takich czynników jak wielkość i rozkład nanokrystalitów Pd w warstwie wyjściowej, otrzymanej metodą PVD oraz od temperatury i szybkości przepływu argonu w procesie CVD.
EN
This article we present new, 2-steps PVD/CVD technological method of nanoporous C-Pd film preparation. Method developed in Tele & Radio Research Institute allows for obtaining of films with various structures. SEM and TEM studies of nanoporous films prepared in different thermodynamical and chemical conditions on different substrates are presented. Our studies show, that materials nanoporosity depend such factors as: size and distribution of Pd nanocrystals in PVD films, temperature and rate of Arflow in CVD process.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.