PL
 |
EN
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 13

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  microsystems
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Nowoczesne metodologie projektowania mikrosystemów opartych na przepływach elektrokinetycznych
100%
Ślusarczyk K. , Napieralski A.
|
2007
|
tom Z. nr 7
175-182
PL
Tematem artykułu są nowoczesne metody projektowania mikrosystemów opartych na przepływach elektrokinetycznych, które coraz powszechniej stosowane są w medycynie, biotechnologiach czy chemii analitycznej. Autorzy koncentrują się nad przedstawieniem aspektów praktycznych metod projektowania, ułatwiajacych przewidzenie właściwości projektowanych mikrosystemów; rozważania poparte są rezultatami badań nad przykładowymi mikrosystemami. Artykuł ten jest podsumowaniem prac badawczych zawartych w rozprawie doktorskiej.
2
Content available remote Diagnostics of the electromechanical devices operational status with optical fiber vibration sensor
88%
Sikora A. , Wałecki M. , Karp Ł.
|
2008
|
tom Vol. 15, nr 3
359-365
EN
In the presented paper a prototype of an optical fiber vibration sensor is described as a tool for diagnosis of machines and electromechanical devices. The application of the optical fiber as a sensor allowed a design of simple construction, where such advantages like electromagnetic noise immunity, galvanic isolation and spark-safety are crucial. Due to those advantages this sensor can be applied in places where installation of an electrical sensor is not possible. The results of preliminary tests and measurements performed on a high voltage transformer and electrical engine confirmed the effectiveness of the sensor.
3
Zastosowanie mikrosystemów w motoryzacji
75%
Markowski J.
|
2001
|
tom Vol. 42, nr 3
36-41
PL
Od początku lat 1980 elektronika zaczęta szybko wkraczać do motoryzacji. Rozwój technologii elektronicznych umożliwił wykorzystanie niezwykle praktycznych i niezawodnych podzespołów elektronicznych w nowych konstrukcjach pojazdów. Kolejnym stopniem rozwoju sa mikrosystemy, integrujące systemy elektroniczne i mechaniczne w jedną całość. W artykule omówiono podstawowe systemy czujnikowe pojazdów, w których są już dzisiaj lub będą w najbliższej przyszłości stosowane mikrosystemy.
EN
Electronics made their debiut in commercial vehicles in the early 1980s. These systems have since been developed into utterly practical and reliable components in hightech vehicle design. The current stage of development are microsystems, where mechanical systems are integrated with electronics to form a functional untity. Main automotive sensory systems which are today or can be in the near future supported by microsystems are the subject of the paper.
4
Mikrosystemy zintegrowane w technologiach krzemowych
75%
Napieralski A.
|
2001
|
tom Vol. 42, nr 4
3-11
PL
W artykule omówiono aktualny stan wiedzy dotyczący projektowania i wykonywania mikrosystemów scalonych. Szczególna uwaga zwrócona została na narzędzia komputerowego wspomagania takich układów i na problemy, jakie mogą wystpić w przypadku niewłaściwego podtrawienia struktur. W najbliższej przyszłości możliwe będzie wykonywanie w jednej monolitycznej płytce krzemu bardzo skomplikowanych mikrosystemów elektro-termo-mechaniczno-chemicznych. Powoduje to konieczność nowego podejścia do projektowania tych układów i rozwój języków typu VHDL-AMS. Klasyczne podejście stosowa­ne przy symulacji elektrotermicznej nie jest już wystarczające. W artykule przedstawiono kilka przykładów nowoczesnych przyrządów i rozważono wpływ zjawisk fizycznych na ich działanie. Przedstawiono również wyniki symmulacji tych układów wykonane przy zastosowaniu pakietu programów firmy CFDRC.
EN
In the paper the current state of the art in the field of design and manufacturing of silicon integrated microsystems is presented. The paricular attention has been paid to the CAD tools necessary for the design of such kind of devices and the problems resulting from imperfect etching of the silicon structure. In the nearest future it ewill be possible to make in the single silicon die a very complicatyed electro-thermo-mechano-chemical Microsystem. Therefore it is necessary to design these kinds of devices with the application of VHDL-AMS languages. The classical approach which is still used for the electrothermal simulation in no longer good enough. In the paper some examples of modern silicon Microsystems are given. The discussion of the influence of physical phenomena on their properties has been presented. Some results of the simulation of the Microsystems with the application of CFDRC software have been included.
5
Miniaturowa pompa próżniowa
75%
Grzebyk T. , Górecka-Drzazga A.
|
2011
|
tom Vol. 52, nr 8
16-18
PL
W artykule przedstawiono problem wytwarzania wysokiej próżni w mikrourządzeniach o objętości roboczej mniejszej niż 1 cm³ oraz propozycję jego rozwiązania. Brak odpowiednich technik hamuje rozwój mikrosystemów próżniowych typu MEMS/MOEMS (Mikro-Elektro-Mechaniczne Systemy/ Mikro-Opto-Elektro-Mechaniczne Systemy) oraz uniemożliwia wytwarzanie złożonych urządzeń Mikro- i Nanoelektroniki Próżniowej. Wydaje się, że optymalnym rozwiązaniem byłoby wytworzenie mikropompy próżniowej, która mogłaby być w pełni zintegrowana z mikrourządzeniem próżniowym. Przedstawiono opisane w literaturze miniaturowe pompy próżniowe, które zostały wykonane z zastosowaniem technologii mikroelektronicznych i mikroinżynieryjnych. Żadne z opublikowanych rozwiązań nie pozwala na uzyskanie wysokiej i ultrawysokiej próżni Przedyskutowano możliwości miniaturyzacji różnych typów pomp, ze szczególnym uwzględnieniem pomp sorpcyjnych oraz związane z tym ograniczenia technologiczne. W pracy przedstawiono koncepcję konstrukcji krzemowo-szklanej mikropompy orbitronowej, która powinna umożliwić wytworzenie wysokiej próżni w mikroobjętości. Prace technologiczne rozpoczęto od opracowania głównego elementu mikropompy orbitronowej, czyli źródła elektronów. Wykonano polowe, planarne źródło elektronów oraz zmierzono jego właściwości emisyjne. Uzyskano napięcie progowe emisji poniżej 30 V oraz prąd elektronowy przekraczający 100 µA (przy ok. 100 V). Wydaje się, że opracowane źródło umożliwi wykonanie demonstratora orbitronowej mikropompy próżniowej. Rozpoczęto badania nad technologią mikropompy.
EN
In this article a problem of high vacuum generation in microdevices (with volume less then 1 cm³) has been introduced. The inability to obtain and maintain high vacuum level within a microcavities inhibits further development of complex vacuum microsystems and nanoelectronics devices. It is assumed that the optimal solution would be to fabricate a micropump fully integrated with other microdevices. MEMS-type micropumps presented in the literature are only able to generate low vacuum (pressure above 1 kPa). Possibilities of miniaturization of different kind of pumps (especially sorption pumps) and associated with it limitations have been described. In this article a novel concept of a silicon-glass orbitron micropump has been presented. In our opinion, it could be integrated with other microsystems and be able to generate high vacuum. The experimental work started with elaboration of a thin-film planar electron source, which is the most important element of a micropump. Obtained data: high current (over 100 µA) and low threshold voltage (less then 30 V) give a chance for future implementation in a complete micropump's structure.
6
Content available remote Modelowanie i wytwarzanie mikrosystemów dla zastosowań w chemii i diagnostyce biomedycznej
75%
Domański K. , Baraniecka A. , Ekwińska M. , Janus P. , Prokaryn P. , Sierakowski A. , Szmigiel D. , Zaborowski M. , Grabiec P.
|
2010
|
tom R. 86, nr 10
17-20
PL
W artykule przedstawiono procesy technologiczne mikroinżynierii krzemowej wykorzystane do wytwarzania przyrządów opracowywanych w ramach projektu MNS-DIAG. Kluczowymi procesami dla wytwarzania opracowywanych w ramach tego projektu demonstratorów są: głębokie plazmowe trawienie podłoża krzemowego, procesy łączenia płytek podłożowych z innymi płytkami krzemowymi, ceramicznymi lub szklanymi, procesy elektrochemicznego osadzania metali szlachetnych oraz procesy nakładania i kształtowania warstw polimerowych.
EN
The development of silicon technology over the last few decades has enabled production of complex integrated circuits and has also contributed to the development of microsystems containing sensors, actuators, and signal processing circuits. Currently, microsystems based on silicon technology, complemented by processes specific to MEMS technology, are widely used in both automotive as well as in chemistry, biology or medicine. The paper presents processes used to manufacture silicon microsystems developed in the fame of the project “Microsystems for biology, chemistry and medical applications”. The project goal is to develop a range of biomedical devices and chemical sensors: lab on a chip for determination of psychotropic drugs in saliva samples, diagnostic instruments for analysis of body secretion for fertility and pathological states monitoring, diagnostic instruments for evaluation of bovine embryos, microreactors for cell culture, arrays of chemical sensors for detection of Gramnegative bacteria and MEMS for medical diagnostic equipment. Key manufacturing processes used for fabrication of these devices are: deep plasma etching of silicon substrate, bonding of silicon, ceramic or glass substrates, electrochemical deposition and patterning of noble metals and coating and patterning of polymer layers on silicon and glass substrates.
7
Rozwój mikrosystemów, czujników pomiarowych i systemów pomiarowych w Instytucie Systemów Elektronicznych PW
75%
Jachowicz R.
|
2009
|
tom Vol. 50, nr 8
149-152
PL
Rozwój czujników, czujników półprzewodnikowych a następnie mikrosystemów następował nieprzerwanie od lat 70 ubiegłego wieku. Postęp w dziedzinie mikroczujników i mikrosystemów przyczynił się również do znacznego postępu w rozwoju komputerowych systemów pomiarowych, dla których te pierwsze były źródłami informacji on-line. W Instytucie Systemów Elektronicznych (ISE) Politechniki Warszawskiej (PW) rozwój ten następował również, chociaż jego skala i tempo była znacznie mniejsza niż w krajach o wysokim poziomie technologii. Artykuł przedstawia krótką informację nt. ewolucyjnych zmian zakresu prac badawczych w omawianej tematyce w Zakładzie Mikrosystemów i Systemów Pomiarowych ISE PW.
EN
The fast development of sensors, semiconductor sensors and microsystems has been noticed since beginning of 70 of last century. That process had also contribution to very intensive progress in computer based measurement systems because sensors and microsystems were on-line Information sources. These two types of development took place also in the Institute of Electronic Systems, Warsaw University of Technology although with smaller scale and with some time delay than In other countries of high technology. A short review of evolution changes of scientific topics in Microsystems and Measurement Systems Division, ISE PW are discussed in the paper.
8
Productronica 2001 : trendy i innowacje w produkcji sprzętu elektronicznego
75%
Gromek J. , Hackiewicz H.
|
2002
|
tom Vol. 43, nr 1
3-6
9
Content available remote Nowa metoda detekcji kondensatu w higrometrze punktu rosy ze zintegrowanym detektorem półprzewodnikowym
63%
Paczesny D. , Iwaszko R. , Mikłaszewicz F. , Weremczuk J. , Tarapata G. , Jachowicz R.
|
2011
|
tom R. 87, nr 9a
49-52
PL
W artykule został przedstawiony higrometr punktu rosy z półprzewodnikowym mikrosystemem detekcji punktu rosy. Przedstawiona została również budowa zintegrowanego mikrosystemu. Znaczna część pracy jest poświęcona algorytmowi detekcji temperatury punktu rosy. System został sprawdzony na laboratoryjnym stanowisku testowym a otrzymane wyniki prezentują się bardzo obiecująco.
EN
A system of dew point temperature measurement, based on semiconductor microsystem detector is presented. Many details of semiconductor microsystem are described in the report. More attention is devoted to algorithm for dew point temperature detection. Experimental results obtained from laboratory test stand are very promising and are described in the report.
10
Content available remote Zastosowanie nanosekundowej mikroobróbki laserowej do wykonywania metalowych elementów urządzeń MEMS
63%
Tański M. , Barbucha R. , Janke M. , Garasz K. , Kocik M. , Mizeraczyk J.
|
2010
|
tom R. 86, nr 11a
211-213
PL
W niniejszym artykule omówiono zastosowanie mikroobróbki laserowej impulsami nanosekundowymi do wykonywania metalowych elementów urządzeń MEMS (microelectromechanical systems). Omówiono ogólnie nanosekundową mikroobróbkę laserową materiałów metalowych oraz przedstawiono przykłady elementów urządzeń MEMS wykonanych tą techniką. Przedstawiono także problem degradacji obrabianego materiału podczas nanosekundowej mikroobróbki laserowej. Rozwiązaniem tego problemu może być zastosowanie do mikroobróbki laserowych impulsów femtosekundowych.
EN
In this article we present the possible application of nanosecond laser micromachining in fabrication of metal MEMS element. We describe the process of laser micromachining of materials and present few examples of metal MEMS elements. We also focus on the problem of thermal degeneration of material during process of nanosecond laser micromachining. This problem is to be avoided when femtosecond laser pulses are used in MEMS laser manufacturing.
11
Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
63%
Jakubowski A. , Łukasiak L. , Szczepański P. , Beck R. , Galwas B. , Kuźmicz W. , Malinowski M. , Szmidt J. , Woźnicki J.
|
2006
|
tom nr 10
296-301
PL
Przedstawiono główne kierunki badań prowadzonych w Instytucie Mikroelektroniki i Optoelektroniki w dziedzinie mikroelektroniki, optoelektroniki i fotoniki oraz mikrosystemów.
EN
The paper presents the main areas of research carried out in the Institute of Microelectronics and Optoelectronics in the domain of microelectronics, optoelectronics, photonics and microsystems.
12
Content available remote Fizyczne aspekty niezawodności w modelowaniu zintegrowanych mikrosystemów
51%
Bieniek T. , Janczyk G. , Grabiec P. , Szynka J.
|
2010
|
tom R. 86, nr 10
9-12
PL
Intensywny rozwój technologii w przemyśle półprzewodnikowym wymusza adekwatne tempo rozwoju narzędzi wykorzystywanych do projektowania układów i mikrosystemów scalonych. Jednocześnie do procesu projektowania wprowadzane są dedykowane metody projektowania i współpracy skracające czas projektowania i poprawiające końcową niezawodność układów. Przyczynia się to do redukcji kosztów projektowania oraz czyni bardziej wiarygodnymi symulacje służące weryfikacji poprawności projektu. W ostatecznym rozrachunku ograniczony zostaje również ostateczny koszt produkcji przedmiotowych układów i mikrosystemów scalonych.
EN
Intensive development of semiconductor fabrication technologies simultaneously stimulates evolution of applied methods and tools. Novel methods applied to keep abreast of progress in IC, and microsystems technology shorten time to market and improve final device reliability. It contributes to reduction of design expenses, and makes simulations of the design used for verification more reliable and accurate. Finally, the ICdevice/ MEMS-microsystem fabrication cost is also reduced.
13
Zastosowanie tomografii komputerowej do oceny jakości mikrostruktur elektronicznych
51%
Matkowski P. , Fałat T.
|
2012
|
tom Vol. 53, nr 2
48-51
PL
Od ponad 40 lat tomografia komputerowa jest z powodzeniem stosowana w medycynie jako technika diagnostyczna. Nieustanny rozwój konstrukcji tomografów i algorytmów rekonstukcyjnych umożliwił zastosowanie tomografów komputerowych w dziedzinie nauk technicznych, między innymi elektroniki. W artykule zostanie zaprezentowany zarys historyczny tomografii, systematyka metod tomograficznych, zasada działania i konstrukcje tomografów oraz przykłady zastosowań tomografu do diagnostyki wybranych mikrostruktur elektronicznych.
EN
Since 40 years computed tomography has been successfully applied in medicine as diagnostic method. Continuous design development of computed tomography (CT) equipment and progress in image reconstruction algorithms enabled application of CT in technical sciences, including electronics. Within the frame of this paper historical outline of computed tomography, systematics of tomographic methods, basic principles and designs of CT equipment, and examples of application of computed tomography in diagnostics of selected electronic microstructures.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.