W pracy przedstawiono nową metodę modyfikowania techniką mieszania jonowego warstw wierzchnich materiałów stosowanych do wytwarzania styków wyłączników aparaturowych. Metodą tą wytworzono warstwy miedzi domieszkowane atomami złota i niklu z jednoczesną implantacją jonów N2+ o energii 50 oraz 95 keV i dawkami w zakresie 5 x 1016 ÷ 5 x 1017 jonów/cm2. Zamieszczono opis i podstawowe charakterystyki pracy stosowanego stanowiska badawczego oraz przedstawiono wyniki badań wybranych właściwości zmodyfikowanych warstw.
EN
The paper presents a new method that consists in an application of the dynamic ion mixing technique to the modification of surface layers of materials used to produce contacts in switches. The method has been applied to produce copper surfaces doped with atoms of gold and nickel with simultaneous implantation of N2+ ions of 50 kV and 95 kV of energy with doses within the range of 5 x 1016 ÷ 5 x 1017 ions/cm2. A description and basic operation characteristics of the research stand have been presented together with the obtained test results concerning chemical composition and microhardness of the modified layers.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.