Artykuł jest prezentacją nowej metody badań stabilności termicznej cienkich jedno- lub wielowarstwowych powłok przeciwzużyciowych osadzanych na materiałach narzędziowych. Metoda polega na cieplnej aktywacji w powłoce procesów makro- i mikroskopowych, których skutki zwykle wpływają na trwałość eksploatacyjną tworzonych struktur przeciwzużyciowych. Jednocześnie z tym zabiegiem cieplnym realizowana jest rejestracja zmian warunków wzajemnych oddziaływań termomechanicznych między powłoką a podłożem. Przedmiotem pomiarów są zmiany odkształceń liniowych podłoża w standardowym dla tej metody, fizycznym modelu danego układu podłoże-powłoka przeciwzużyciowa. Praca zawiera opis zasady metody oraz jej fizyczne i technologiczne uwarunkowania. Ponadto przytoczono przykłady rezultatów badań wdrożoną metodą oraz ich interpretacje, które umożliwiają różnicowanie zastosowanych technologii powłok przeciwzużyciowych.
EN
New method for investigation of thermal stability of thin multilayer wear resistance coatings deposited on tools is described. The principle of the method is a thermal activation of microscopic and then macroscopic processes, which have significant influence on wear resistance properties of the coating resulting in extended time of exploitation of tools. Using physical model of the substrate-coating system the changes of thermomechanical interactions between substrate and coating are recorded simultaneously with the thermal process. In this testing the linear deformation of the substrate are recorded. Principles of the method, their physical and technical relationships are described. Apart from that the work contains examples from investigation by implemented method enabling controlled changes in technology of deposition of wear-resistance coatings.
The two-dimensional contact problem of elasticity connected with an indentation of a rigid cylinder in an elastic semi-space covered by an elastic layer is considered. The detailed analysis of the stress distribution produced by contact pressures and tangential forces is presented. The obtained results for stresses are compared with ones obtained within the framework of theory of elasticity for a half-space loaded by the Hertz pressure.
PL
Rozpatrzono dwuwymiarowe zagadnienie kontaktowe teorii sprężystości dotyczące wciskania nieodkształcalnego walca w półprzestrzeń sprężystą pokrytą sprężystą warstwą. Przeprowadzono szczegółową analizę rozkładu naprężeń wywołanego naciskami kontaktowymi i powiązanymi z nimi siłami tarcia. Otrzymane wyniki porównano z wynikami, które otrzymuje się w zagadnieniu teorii sprężystości dotyczącym obciążenia powierzchni rozpatrywanej półprzestrzeni niejednorodnej naciskami Hertza.
W pracy przedstawiono budowę stanowiska technologicznego przeznaczonego do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane. Do budowy stanowiska wykorzystano standardowe urządzenie próżniowe produkcji TEPRO Koszalin NA501A. Elementem z węglików spiekanych były wymienne końcówki wierteł do głębokiego wiercenia φ = 22,50. Zastosowano technologię impulsowego rozpylania magnetronowego MF (Medium Frequency) z wyrzutnią typu WMK50. Rozpylanie prowadzono z pojedynczej wyrzutni z tarczą wykonaną ze spieku TiAl. Spiek ten otrzymano stosując proces prasowania na gorąco mikroproszku otrzymanego w wyniku procesu SHS (Self-propagation High-temperature Synthesis). Proces nanoszenia prowadzono na podłoża utrzymywane w temperaturze ok. 900 K. Do uzyskania niezbędnej wartości temperatury podłoży skonstruowano stolik z elementem grzejnym wykonanym z materiałów ceramicznych na bazie węglika krzemu. Przeprowadzono obserwacje morfologii warstwy mikroskopem skaningowym oraz wykonano analizy składu chemicznego warstw. W celu oceny jakości pokrycia przeprowadzono badania adhezji.
EN
Design of the technological equipment for deposition of the (TiAl)N coatings on sintered carbide is presented. The standard vacuum evaporator NA501A produced by TEPRO Koszalin company was adopted. The covered parts were heads of drills for deep boring with diameter of φ = 22.5 mm. Pulsed magnetron sputtering MF (Medium Frequency) with WMK50 magnetron gun was used as deposition technology. Deposition was provided with single magnetron gun with sintered TiAl target. Target was produced by high temperature pressing of micropowder after SHS process. Deposition was carried out at high temperature of substrate (about 900K). For heating the substrates high temperatures table was made from ceramic materials based on silicon carbide. Scanning Electron Microscopy for morphology measurement and EDS for Chemical analysis were used. Adhesion of the coating was measured by scratch tests.
4
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
In the work the brittleness study of BN coatings deposited by pulse-plasma method (PPD) on cutting edges made of cemented carbides is presented. Influence of selected technological parameters of BN formation by pulse-plasma method taking into account the method of substrate preparation and discharge voltage are shown. Usefulness of Palmqvist's method for measurement of coating susceptibility to brittle cracking has been confirmed.
PL
W artykule przedstawiono badania kruchości powłok BN osadzonych metodą impulsowo--plazmową (IP) na ostrzach skrawających z węglików spiekanych. Przeanalizowano wpływ wybranych parametrów technologicznych procesów wytwarzania powłok azotku boru metodą IP na ich kruchość z uwzględnieniem sposobu przygotowania podłoża i zastosowanego napięcia wyładowania. Uzyskano potwierdzenie przydatności metody Palmqvista do pomiarów podatności materiałów powłokowych na kruche pękanie.
The reactive magnetron sputtering of Cr and CrSi targets having from 2 to 30 at. % Si was applied to deposit coatings on silicon substrates heated up to 600°C. The coating microstructure was characterized using TECNAI FEG (200 kV) transmission electron microscope equipped with EDS attachment. Thin foils were prepared showing coating microstructure both in plan-view and cross-section. The investigations showed that coatings of up to 2 um thickness were all characterized by a columnar microstructure. The analysis of the electron diffractions indicated only presence of the cubic CrN phase. The high resolution observation confirmed presence of high defect density in all coatings, but excluded presence of amorphous phase at crystallites boundaries. The EDS analysis helped to prove, that silicon was distributed uniformly within the coatings and its level exceed by 1÷3 at. % the one in the respective CrSi targets used for their deposition. The silicon additions resulted in decrease of the average column diameter from ~100 to ~25 nm accompanied by hardness increase from ~14 to ~37 GPa.
PL
Powłoki (Cr, Si)N osadzono na podłoża krzemowe techniką reaktywnego rozpylania magnetronowego tarcz Cr oraz CrSi zawierających do 30 at. % Si z wykorzystaniem podłoży wygrzewanych do 600°C. Obserwacje mikrostruktury prowadzono z wykorzystaniem mikroskopu TECNAI FEG (200 kV) wyposażonego w przystawkę EDS. Cienkie folie zostały wycięte w sposób prezentujący powłoki w przekroju poprzecznym i równoległym do powierzchni. Przeprowadzone badania wykazały, że powłoki o grubości <2 um charakteryzuje budowa kolumnowa. Analiza ich dyfrakcji elektronowych wskazała na wyłączną obecność fazy typu CrN. Obserwacje wysoko- rozdzielcze potwierdziły duże zdefektowanie krystalitów, ale wykluczyły obecność fazy amorficznej w ich granicach. Analizy składu chemicznego wykazały, że stosunek krzemu do chromu w powłokach jest zawyżony od 1 do 3 at. % Si względem tego w tarczach, z których były osadzane. Wprowadzanie krzemu spowodowało obniżenie średniej szerokości kolumn ze ~100 do ~20 nm oraz równoczesny wzrost twardości z ~14 do ~37 GPa.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.