Przedstawiono projekt generatora impulsów pikosekundowych na bazie tranzystorów MESFET. Kolejnymi etapami przy realizacji generatora było opracowanie modelu tranzystora MESFET na potrzeby symulacji komputerowej, optymalizacja parametrów podzespołów w celu maksymalnego skrócenia impulsu wyjściowego, realizacja praktyczna generatora i weryfikacja parametrów w rzeczywistym układzie.
EN
The article presents a design of picosecond pulse generator based on MESFET transistors. The consecutive stages of this project are MESFET transistor model elaboration for computer simulation, optimization of parameters of individual components in order to obtain a shortest possible output pulse, practical design of generator and verification of parameters in real circuit.
2
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
W artykule przedstawiono metodę unipolarnego zasilania impulsowego, hybrydowego akceleratora plazmy. W realizacji sprzętowej metody wykorzystano opracowany i wykonany moduł generatora impulsów dużej mocy. Opisano przebiegi sygnałów zasilających hybrydowe źródło plazmy oraz porównano je z przebiegami występującymi w standardowej metodzie zasilania tego typu źródła. Przedstawiono wyniki badań składu plazmy wytwarzanej przez źródło oraz składu otrzymywanych powłok. W opracowanej metodzie, w odróżnieniu od metody standardowej, oprócz zachowania jednokierunkowego przepływu prądu przez źródło plazmy można regulować częstotliwość, amplitudę i wartość współczynnika wypełnienia przebiegu zasilającego. Daje to szersze możliwości wpływania na parametry uzyskiwanych powłok przeciwzużyciowych.
EN
The paper presents new method of pulsed coaxial hybrid source unipolar power supply. Hardware part of the method was designed on the base of own high power pulse generator. An article described power supply signals and compared them with signals from standard power supply method. Results of measurements of plasma and layers composition obtained by unipolar supplied hybrid source are presented. The described method in contradistinction to standard method, was kept unidirectional flow of source current and possibility of amplitude, frequency, pulse duty factor setting. The new method enables the wider possibility to control of obtained layers parameters.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.