Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 4

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: cadmium telluride

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Optical absorption and reflectivity spectra of highly chromium doped CdTe alloy and layer

100%

Potera P. , Stefaniuk I. , Kuzma M. , Virt I. , Pukowska B.

nr 2

299-303

In the present work, a CdTe alloy doped with a relatively high concentration of chromium (1%), and a CdTe:Cr layer, have been studied. Absorption and reflectivity spectra were measured at room temperature. They indicate the presence of chromium in the divalent state, both in the alloy and in the layer.

Determining energy production of CdTe photovoltaic system

63%

Šlamberger J. , Virtič P.

Przegląd Elektrotechniczny

2013

tom R. 89, nr 2b

84--87

This paper presents a method for determining energy production of Cadmium-Telluride photovoltaic system, which has a different working performance than the most used Silicon photovoltaic systems. The main difference is sensitivity to the temperature and the solar irradiance. The CdTe cells are less sensitive to the temperature and in contrast to the Si Cells they have a higher efficiency at lower irradiance.

W artykule przedstawiono metodę wyznania energii wytworzonej przez system paneli fotowoltaicznych z tellurku kadmu (CdTe), różniących się od klasycznych krzemowych. Głównymi różnicami między nimi jest wrażliwość na zmiany temperatury i nasłonecznienia, gdzie system CdTe wykazuje mniejszą wrażliwość na temperatury natomiast Si wyższą sprawność przy niskim nasłonecznieniu.

Wpływ trawienia plazmą na wybrane parametry cienkich warstw CdTe i SnO2 dla zastosowań fotowoltaicznych

51%

Lichograj R. , Olchowik J. M. , Lichograj P. , Czernik S.

tom z. 62, nr 2

275--287

Powszechnie wiadomo, iż w oddziaływaniu fotonów z materią może dojść do odbicia, absorbcji i przenikania. W rozwiązaniach fotowoltaicznych, możliwość pomiaru i kontroli tych zjawisk na poziomie badań i produkcji ma kluczowe znaczenie w odniesieniu do ich późniejszej wydajności. Możliwość kontroli grubości warstw w czasie ich nanoszenia metodą napylania magnetronowego, czy też ich redukowania stosując trawienie plazmą, pozwala na dobór optymalnych parametrów optycznych i elektrycznych tworzonych ogniw cienkowarstwowych. W niniejszej pracy trawiono plazmą cienkie warstwy CdTe i SnO2, naniesione we wcześniejszym etapie metodą rozpylania magnetronowego w próżni. Określono parametry technologiczne napylania magnetronowego i trawienia plazmą wpływające na właściwości warstw. Warstwy obrazowano przy użyciu AFM, natomiast pomiary grubości i pomiary współczynnika odbicia dokonano z wykorzystaniem elipsometrii. Przeprowadzone badania wykazały, że trawienie plazmą cienkich warstw w istotny sposób wpływa na zmianę ich refleksyjności (zarówno warstwy półprzewodnika ditlenku cyny jak i tellurku kadmu). Wykazano również ścisły związek użytej mocy i czasu trawienia z redukcją grubości warstwy. Obrazowanie AFM uwidoczniło zmiany w wielkości i ilości ziaren powierzchni trawionych warstw i wzrost ich nieregularności ułożenia, wraz ze zmieniającymi się parametrami procesu. Stwierdzono możliwość całkowitego usunięcia cienkich warstw w procesie trawienia plazmą i w efekcie możliwość uszkodzenia podłoża warstw trawionych co jednak wymaga dalszych badań w tym zakresie.

It is well known that the reaction of photons with matter may lead to reflection, absorption and permeation. In the photovoltaic solutions, the ability to measure and control these phenomena at the level of research and production is crucial in terms of their performance and quality. The ability to control the thickness of the layers at the time of applying magnetron sputtering method or the plasma etching using a reduction allows for selection of the optimum optical and electrical parameters of the formed thin-layer cells. In this study, plasma was digested with thin layers of CdTe and SnO2, deposited by magnetron sputtering in a vacuum. Technological parameters of magnetron sputtering and plasma etching affecting the properties of layers have been specified. The layers were imaged using AFM, and the measurements of the thickness and reflectance measurements were made with the use of ellipsometry. The study showed the plasma etching of thin layers is an important contribution to change their reflectivity (both layers of semiconductors - tin dioxide and cadmium telluride). It was demonstrated the close relationship of the applied power and etching time with the reduction of the layer thickness. AFM imaging revealed changes in the size and number of grains etched surface layers and an increase of their irregular arrangement, together with changing process parameters. The possibility of complete removal of thin layers of plasma etching process, resulting in possible damage to the substrate etched layers has been stated, however, it requires further research in this area.

Polycrystalline CdTe solar cells on elastic substrates

51%

Sibińksi M. , Lisik Z.