Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

The main properties of amorphous antireflective coating for silicon solar cells

100%

Swatowska B. , Stapiński T.

Materiały Elektroniczne

|

2008

|

tom T. 36, nr 3

128-137

EN

Modification of solar cells by the use of antireflective coating (ARC) is very important for their final properties. Last time more frequently hydrogenated amorphous materials, for example silicon-nitrogen (a-Si:N:H) and silicon-carbon (a-Si:C:H), were applied as ARC on silicon solar cells. The authors developed the Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition Method (RF PECVD) for preparation this films for potential optoelectronic applications. To obtain a-Si:N:H and a-Si:C:H films the gaseous mixtures SiH4+CH4 and SiH4+NH3 were used. On base of optical and structural research the main properties of amorphous films like: refractive index, reflection coefficient, thickness and hydrogen bondings content were found. Film structure was determined by the use Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) and morphology was determined using a Scanning Electron Microscopy (SEM). The silicon substrates for solar cell constructions with discussed ARC revealed a considerable decrease in reflection coefficient. The results indicated that a-Si:N:H and a-Si:C: H are promising materials for improvement of solar cells efficiency.

PL

Modyfikowanie ogniw słonecznych z użyciem warstw antyrefleksyjnych (ARC - antireflective coating) jest bardzo ważnym procesem w aspekcie ich finalnych właściwości. W ostatnich latach coraz częściej stosuje się jako pokrycia antyrefleksyjne amorficzne warstwy uwodornione, np. warstwy a-Si:C:H lub a-Si:N:H. Do wytwarzania takich warstw autorzy wybrali metodę Chemicznego Osadzania z Fazy Gazowej, wspomaganego falami radiowymi (RFCYD - Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Yapour Deposition). W procesie otrzymywania warstw a-Si:C:H i a-Si:N:H zastosowano następujące mieszaniny gazowe: SiH4+CH4 oraz SiH4+NH3. Na podstawie optycznych i strukturalnych badań określono najważniejsze właściwości warstw antyrefleksyjnych: współczynnik załamania, współczynnik odbicia, grubość oraz rodzaj i koncentrację wiązań wodorowych. Struktura warstw była badana przy użyciu metody spektroskopii w podczerwieni (FTIR), a morfologia - mikroskopii skaningowej (SEM). Podłoża krzemowe do ogniw słonecznych, pokryte takimi warstwami, cechuje znaczna redukcja wartości współczynnika odbicia. Analiza charakterystyk prądowo-napięciowych ogniw słonecznych, zmodyfikowanych warstwami ARC, pokazuje znaczne zwiększenie ich sprawności i parametrów prądowych. Otrzymane rezultaty wskazują, że warstwy typu a-Si:C:H oraz a-Si:N:H są bardzo obiecującymi materiałami do tego typu zastosowań.

2

Sol-gel derived antireflective coating with controlled thickness and reflective index

100%

Beganskiene A. , Sakirzanovas S. , Kazadojev I. , Melninkaitis A. , Sirutkaitis V. , Kareiva A.

Materials Science Poland

|

2007

|

tom Vol. 25, No. 3

817--824

EN

Optical properties and structure of antireflective coatings (AR) deposited from hydrolysed TEOS sol have been characterized in detail. The influence of various parameters on the formation of colloidal silica antireflective coatings by the dip-coating technique has been investigated. For the characterization of colloidal silica films, the UV-visible spectroscopy, laser ellipsometry, and atomic force microscopy were used. Using optimal sol-gel processing conditions (dipping rate - 40 mm/min, coating time - 20 s, and temperature - 20 oC), the colloidal silica coatings were obtained and characterized in comparison with non-coated glass substrate. The reflectance of AR coatings increased with increasing the temperature of sol-gel processing. The laser damage threshold of as deposited films was measured at 1064 nm (1H) and 335 nm (3H) wavelength using a Nd:YAG lasers. The laser damage threshold of AR coating exceeded 15.22 J/cm2 at 1064 nm and 26.82 J/cm2 at 355nm.

3

Właściwości optyczne pokryć antyrefleksyjnych dla zastosowań fotowoltaicznych

63%

Stapiński T. , Marszałek K. , Jaglarz J.

Przegląd Elektrotechniczny

|

2014

|

tom R. 90, nr 9

91-93

PL

W pracy przeanalizowano wpływ pokryć antyrefleksyjnych zarówno na powierzchni szkła modułu fotowoltaicznego jak i stosowanych warstw ARC na powierzchni ogniw słonecznych na bazie krzemu na właściwości optyczne systemu. Wyznaczono rekomendowane wartości współczynników załamania oraz grubości pokryć. Wyliczone wartości pozostają w zgodności z wynikami pomiarów optycznych.

EN

In this paper authors analyzed the influence of antireflective coatings on glass surface of PV module and influence of ARC deposited on silicon surface of solar cells on optical properties of the system. The recommended values of thicknesses and refractive indices were estimated. These values are in a good agreement with results of optical measurements.

4

Właściwości fotokatalityczne wielowarstwowych powłok antyrefleksyjnych

63%

Wojcieszak D. , Mazur M. , Domaradzki J. , Kaczmarek D. , Placido F. , Song S.

|

2014

|

tom Vol. 55, nr 8

37-39

PL

W niniejszej pracy przedstawiono wyniki projektowania wielowarstwowej powłoki antyrefleksyjnej z dodatkową warstwą TiO2, której zadaniem było uzyskanie właściwości fotokatalitycznych. Wyniki pomiarów wielowarstwy wytworzonej metodą rozpylania magnetronowego wspomaganego mikrofalami na bazie TiO2i SiO2 pokazały, że powłoka ta miała takie parametry optyczne jak zaplanowano w projekcie. Poziom odbicia światła w zakresie od 430 do 760 nm był poniżej 1%, a w dla długości fali ok. 520 nm występowało tzw. odbicie resztkowe o zielonej barwie. Wyniki badań właściwości fotokatalitycznych pokazały także, że dzięki dodatkowej warstwie TiO2 powłoka ta była samoczyszcząca. Oprócz tego, charakteryzowała się ona jednorodną i gęsto upakowaną strukturą, a także miała właściwości hydrofobowe i oleofobowe. Z kolei badania odporności na zarysowania pokazały, że wielowarstwa ta miała również dużą odporność mechaniczną. Dlatego też można stwierdzić, że wytworzona powłoka może znaleźć praktyczne zastosowanie w konstrukcji paneli szklanych przeznaczonych do celów architektonicznych.

EN

In this paper the results of a multi-layer antireflection coating design with an additional layer of TiO2been presented. The measurement results of coating produced by microwave-assisted magnetron sputtering based on TiO2 and SiO2 have shown that the optical parameters were in good accordance with the project. The level of light reflection in the range of 430 to 760 nm was below 1%, and at wavelength of about 520 nm so called residual reflection of the green color occurred. The investigation of photocatalytic properties also revealed that with an additional film of TiO2 self-cleaning effect was obtained. Besides, the coating was characterized by a homogeneous and densely packed structure, and it had a hydrophobic and oleophobic properties. In turn, scratch resistance test showed that the multilayer had high mechanical resistance. Therefore, it can be concluded that manufatured coating may find practical application in the construction of glass panels for architectural purposes.

5

Reactive antireflective coatings for laser treatment of steels.

38%

Przybyłowicz K. , Przybyłowicz J. , Kusiński J.

Inżynieria Materiałowa

|

1998

|

tom R. XIX, nr 4

1047-1050

EN

In the paper experiments have been performed to find out composition of the coatings producing exothermic reaction in them under the influence of laser beam counteracting the change of steel composition and radiation of heat. The coatings are based on iron oxides mixed with carbon or metal powders of high reductive properties (silicon, magnesium, aluminium). The results have shown, that the coatings ensured high conductivity and absorptivity of heat and in many cases their neutral behaviour on heated surface has been stated.