Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Właściwości optyczne i strukturalne warstw elektrochromowych WO₃

100%

Marszałek K. , Jankowski H. , Swatowska B. , Perzanowski M. , Stapiński T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

tom Vol. 52, nr 11

39-40

PL

Warstwy elektrochromowe są przedmiotem zainteresowania ze względu na szeroką gamę potencjalnych zastosowań w elektronice, architekturze oraz szeregu dziedzin, gdzie stosuje się filtrację promieniowania elektromagnetycznego w obszarze widzialnym. W pracy opisano technologię nanoszenia warstw WO₃ metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego przy częstotliwości 13,56 MHz. Przedstawiono ich właściwości optyczne i strukturalne, a w szczególności zmiany tych własności w wyniku wygrzewania warstw amorficznych.

EN

Electrochromic thin films are intensively investigated due to their potential application in electronics, architecture and in all fields where filtering of electromagnetic radiation in the visible range is important. A reactive magnetron deposition with a RF of 13.56 MHz is described. Optical and structural properties of WO ₃ thin films are described for as deposited and annealed films.

2

Structural characterization and properties of M-WO3 (M = Au, Pt) thin films prepared by pulsed laser deposition

86%

Kopia A. , Maziarz W.

Inżynieria Materiałowa

|

2014

|

tom Vol. 35, nr 2

154--157

EN

The M-WO3 (M-Au, Pt) films were grown by pulsed laser deposition (PLD) using an Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm) and sputtered using Sputter Coated K575X on Si [100] substrate. The TEM, AFM and XRD was used to characterize the structure and morphology of the surface. The resistances of the thin films in atmosphere CO, NO2 gases were examined as function of temperature. The XRD analysis showed that the layers consist of WO3, Au, Pt phases with crystallites size of WO3 25 nm. Highly developed layer surface was observed in AFM microscope. The TEM cross-section observation of the layers showed column-shaped structure of 20÷50 nm in the width. The resistance measurements R of the Pt-WO3 thin film, in air, CO and NO2 atmospheres showed stronger signals for both gases (NO2, CO) at higher temperature T = 300°C.

PL

Cienkie warstwy M-WO3 (M = Au, Pt) wytworzono metodą ablacji laserowej stosując laser Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm), na podkładkach Si [100]. Warstwy Au i Pt nałożono przez rozpylanie za pomocą Sputter Coated K575X. Analizę struktury wytworzonych warstw przeprowadzono za pomocą TEM, AFM i XRD. Badania rezystancji warstw w atmosferze NO2 i CO przeprowadzono w funkcji temperatury. Badania rentgenowskie wykazały krystaliczną budowę warstw WO3 oraz warstw Au i Pt o średniej wielkości krystalitów WO3 25 nm. Obserwacje powierzchni warstw za pomocą AFM wykazały rozwinięcie powierzchni. Obserwacje przeprowadzone za pomocą TEM na przekrojach warstw wykazały kolumnowy charakter o szerokości kolumn 20÷50 nm. Pomiary rezystancji przeprowadzono jedynie dla warstw Pt-WO3. Warstwa była czuła na oba gazy, przy czym większe zmiany rezystancji zaobserwowano w wyższej temperaturze T = 300°C.

3

Wpływ wygrzewania na właściwości powierzchni cienkich warstw na bazie wybranych tlenków metali

58%

Obara K. , Kaczmarek D. , Pierściński R. , Poniedziałek A. , Domanowski P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2017

|

tom Vol. 58, nr 7

8--13

PL

W pracy zbadano wpływ wygrzewania w wysokiej temperaturze na właściwości powierzchni cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i wolframu. Cienkie warstwy dwutlenku tytanu (TiO2) i trójtlenku wolframu (WO3) naniesiono na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO2) metodą parowania wiązką elektronową. Następnie próbki poddano wygrzewaniu w powietrzu atmosferycznym, do temperatury 800°C. Właściwości strukturalne powłok cienkowarstwowych TiO2 i WO3 określono przy użyciu metody dyfrakcji rentgenowskiej. Natomiast właściwości powierzchni cienkich warstw TiO2 i WO3 po naniesieniu oraz po wygrzewaniu, zbadano z wykorzystaniem mikroskopu optycznego, profilometru optycznego oraz stanowiska do pomiaru zwilżalności powierzchni. Pod wpływem wygrzewania poprocesowego nastąpiło przejście TiO2 i WO3 z fazy amorficznej w strukturę polikrystaliczną. W wypadku TiO2 otrzymano fazę anatazu, natomiast w wypadku WO3 strukturę jednoskośną. Cienkie warstwy TiO2 były jednorodne i ciągłe zarówno po naniesieniu, jak i po wygrzewaniu. Z kolei cienkie warstwy WO3 były jednorodne i ciągłe wyłącznie po naniesieniu, ponieważ po wygrzewaniu wystąpiła rekrystalizacja struktury powłoki. Zaobserwowano także znaczne zmiany topografii powierzchni oraz profili wysokości i chropowatości wygrzewanych powłok TiO2 i WO3. Zarówno po naniesieniu, jak i po wygrzewaniu, powierzchnie cienkich warstw TiO2 i WO3 były hydrofilowe.

EN

The annealing influence on surface properties of titanium dioxide (TiO2) and tungsten trioxide (WO3) thin films obtained by electron beam evaporation method on fused silica substrates (SiO2) has been studied. TiO2 and WO3 thin films were annealed in atmospheric pressure at a temperature of 800°C. Structural properties of as-deposited and annealed samples were studied with the use of an X-ray diffractometer. Additionally, surface properties of as-deposited and annealed samples were examined by optical microscope, optical profilometer and tensiometer. TiO2 thin films were uniform and homogenous after deposition and annealing, contrary to WO3 thin films, which were uniform and homogenous only after deposition, annealing caused recrystallization of the thin film structure. Furthermore, significant changes to surface topography, altitude and roughness profiles of both annealed TiO2 and WO3 thin films have been observed. Either as-deposited and annealed TiO2 and WO3 thin films surfaces were hydrophilic.

4

Wyniki badań odpowiedzi gazochromowej na wodór cienkich warstw WO₃ naniesionych za pomocą parowania wiązką elektronową

51%

Weichbrodt W. , Mazur M.

Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej

|

2023

|

tom Vol. 72, nr 4

91--100

PL

Wśród materiałów chromowych dużym zainteresowaniem cieszy się trójtlenek wolframu (WO₃ ). Jest to bezbarwny półprzewodnik charakteryzujący się brakiem toksyczności oraz wysoką stabilnością chemiczną. WO₃ wykazuje właściwości gazochromowe, co oznacza, że materiał ulega odwracalnym zmianom właściwości optycznych pod wpływem gazu. te właściwości sprawiają, że trójtlenek wolframu jest odpowiednim materiałem do zastosowań czujnikowych. W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw trójtlenku wolframu wytworzonych metodą parowania wiązką elektronową i wygrzewanych w temperaturze od 400 do 800°C. Właściwości optyczne, w tym również właściwości gazochromowe, określono na podstawie widm transmisji światła w atmosferze zawierającej wodór o stężeniu od 50 do 500 ppm. Badano właściwości optyczne warstw WO₃ zarówno z naniesioną warstwą katalizatora w postaci palladu, jak i bez tej warstwy. Wygrzewanie próbek w temperaturze powyżej 400°C spowodowało krystalizację warstw, a dalsza modyfikacja poprocesowa w temperaturze 800°C spowodowała sublimację warstwy, stworzenie wysp krystalicznych ziaren o dużych rozmiarach oraz znaczne pogorszenie właściwości optycznych. Zmiana współczynnika transmisji światła nastąpiła we wszystkich próbkach z naniesioną warstwą katalizatora po ekspozycji warstw na wodór. Na podstawie zaprezentowanych wyników badań stwierdzono, że najlepszymi właściwościami gazochromowymi charakteryzują się warstwy wygrzewane w temperaturze 400°C, ponieważ wykazują największą zmianę transmisji światła pod wpływem wodoru. W pracy potwierdzono możliwość poprawy odpowiedzi gazochromowej cienkich warstw trójtlenku wolframu wytworzonych metodą parowania wiązką elektronową za pomocą wygrzewania, co zgodnie z bieżącą wiedzą nie zostało wcześniej osiągnięte.

EN

Among chromogenic materials, tungsten trioxide (WO₃) is of great interest. it is a colourless semiconductor characterised by a lack of toxicity and high chemical stability. WO₃ exhibits gasochromic properties, meaning that the material undergoes reversible changes in optical properties when it is exposed to gas. These properties make tungsten oxide a suitable material for sensing applications. This paper presents the results of an analysis of the surface, structural and optical properties of tungsten oxide thin films fabricated by electron beam evaporation and annealed at 400°C to 800°C. optical properties, including gasochromic properties, were determined from light transmission spectra in an atmosphere containing hydrogen at the concentrations ranging from 50 ppm to 500 ppm. The optical properties of WO₃ films without and with a palladium catalyst layer are applied. annealing the samples at temperatures above 400°C resulted in crystallisation of the layers, and further post-process modification at 800°C led to sublimation, the formation of islands of crystalline grains of large size and a significant deterioration in optical properties. a change in the light transmission coefficient occurred for all samples with the catalyst layer applied after the introduction of a hydrogen-argon mixture. Based on the results, it can be concluded that the layers annealed at 400°C had the best gasochromic properties due to the greatest changes in light transmission under hydrogen. The study confirms that it is possible to improve the gasochromic response of tungsten trioxide thin films produced by electron beam evaporation using thermal modification, which, to the best of current knowledge, has not previously been achieved.