Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

1 Polish Journal of Applied Chemistry

1 2005

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: SiO2 layers

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Thin films deposited in barrier discharge under atmospheric pressure

100%

Rżanek-Boroch Z. , Lamenta A. , Górska A.

Polish Journal of Applied Chemistry

2005

tom Vol. 49, nr 1-2

49-51

A laboratory scale plasma enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD) process was developed for obtaining thin films from tetramethoxysilane (TMOS) in mixtures with He and O2 on silicon single crystals using electric discharges, stabilized with a dielectric barrier under atmospheric pressure. The films deposited were of a good adhesion to the substrate and smooth. The rate of films deposition was measured and their composition was determined by infrared spectroscopy with Fourier transformation (FTIR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The topography of the films was determined using atomic force microscope (AFM).