PL
 |
EN
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 6

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  MOEMS
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available Model mikrokrzemowego czujnika z cewką planarną do pomiaru indukcji pola magnetycznego
100%
Prohuń T. , Rybak M.
|
|
tom R. 53, nr 9
78-80
PL
W artykule przedstawiono model czujnika do pomiaru indukcji stałego (jednorodnego) pola magnetycznego w postaci belki krzemowej z nanie-sionym płaskim uzwojeniem. Prąd przepływający przez uzwojenie cewki wytwarza strumień oddziałujący z zewnętrznym polem magnetycznym. Koniec belki ulega odkształceniu w kierunku osi z. Kąt ugięcia belki jest miarą indukcji zewnętrznego pola magnetycznego. Do analizy zastosowano metodę elementów skończonych oraz metodę pól sprzężonych ze względu na anizotropowość i niejednorodność struktury krzemowej. W pracy opisano charakterystyki wyjściowe czyli kąta ugięcia belki w funkcji indukcji B zewnętrznego pola magnetycznego. Przeanalizowano wpływ wymiarów geometrycznych belki na jej ugięcie.
EN
In the article a magnetic flux density sensor was described. The sensor consist of silicon cantilever and planar coil. Current flowing by the coil produce magnetic flux around the coil. Influence of magnetic flux with external magnetic field causes cantilever deform. The angle of cantilever deformation in z axis means external magnetic field induction. In cause of magnetic anisotropy and heterogeneous of analyzed silicon structure the FEM method and couple field method was applied in simulation. The influence of dimensions of beam on beam-end deformation was described.
2
Content available Modelowanie przestrzennego rozkładu pola magnetycznego przetwornika elektromagnetycznego do pomiaru indukcji zewnętrznego pola magnetycznego
100%
Prohuń T. , Gołębiowski J.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2007
|
tom R. 53, nr 9 bis
265--268
PL
W referacie przedstawiono model czujnika do pomiaru indukcji pola magnetycznego w postaci belki krzemowej z naniesionym płaskim uzwojeniem. Prąd przepływający przez uzwojenie cewki wytwarza strumień oddziałujący z zewnętrznym polem magnetycznym. Koniec belki ulega odkształceniu w kierunku osi z. Kąt ugięcia belki jest miarą indukcji zewnętrznego pola magnetycznego. Model czujnika składa się z belki wykonanej z krzemu monokrystalicznego oraz płaskiego uzwojenia wykonanego z aluminium. Ze względu na wielowarstwową, anizotropową budowę przetwornika do budowy modelu zastosowano metodę elementów skończonych (metodą pól sprzężonych i oprogramowanie COMSOL). W referacie pokazano rozkład przestrzennego pola magnetycznego cewki płaskiej i jego wpływ na zewnętrzne (mierzone) pole magnetyczne. W pracy przedstawiono wyniki symulacji dla różnych wartości parametrów konstrukcyjnych przetwornika w celu uzyskania zakładanej czułości dla wybranego zakresu pomiarowego indukcji zewnętrznego pola magnetycznego.
EN
In the article a magnetic flux density sensor was described. The sensor consist of silicon cantilever and planar coil. Current flowing by the coil produce magnetic flux around the coil. Influence of magnetic flux with external magnetic field causes cantilever deform. The angle of cantilever deformation means external magnetic field induction. The influence of shape and dimensions of planar coil on magnetic energy density was described. In cause of magnetic anisotropy and heterogeneous of analyzed silicon structure the FEM method and couple field method was applied in simulation.
3
Content available remote Konstrukcja mikroprzełącznika elektrostatycznego do aplikacji OXC
85%
Sulima R.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2009
|
tom R. 85, nr 9
350-354
PL
Prezentowany artykuł przedstawia opis modelu kompleksowego elektrostatycznej mikrostruktury grzebieniowej MEMS. Układ taki wykorzystywany może być jako przezroczysty przełącznik w sieciach optycznych DWDM. Przedstawiono opis modelu obwodowego oraz analizę mechaniczną z uwzględnieniem tłumienia w ośrodkach lepkich takich jak powietrze. Mikroprzełącznik charakteryzuje znikomymi oscylacjami podczas przełączania, przy odpowiednim doborze rozmiarów elementów sprężystych oraz elementów napędowych charakterystyka przełączania jest aperiodyczna.
EN
The presented paper describe complex model of electrostatic comb-drive microstructure MEMS. This system could be used for transparent optical cross connect for DWDM networks. This paper presents the description of a circuit model and mechanical analyses with viscous damping in viscous centers like air. The Microswitch has an aperiodic characteristic of switching.
4
Próżnia w mikrosystemach : nowe wyzwania
80%
Górecka-Drzazga A.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2011
|
tom Vol. 52, nr 8
13-15
PL
Burzliwy rozwój techniki Mikrosystemów oraz miniaturowych urządzeń Mikro- i Nanoelektroniki Próżniowej spowodował potrzebę opracowania nowych metod wytwarzania wysokiej i ultrawysokiej próżni w objętości mniejszej niż 1 cm³. Obecnie niską próżnię wytwarza się wykorzystując próżniowe procesy łączenia podłoży krzemowych i szklanych lub zintegrowany proces fabrykacji mikrourządzeń. Mikrosystemy próżniowe wytwarzane dla elektroniki, przemysłu samochodowego, lotniczego, kosmicznego muszą poprawnie pracować dłużej niż 10 lat. Dlatego zamknięte w hermetycznych obudowach w ostatnim etapie produkcji są sprawdzane na szczelność. Stosowane są różne metody, które mają jednak ograniczenia, gdy testowana objętość jest mniejsza niż 0,1 cm³. W pracy opisano stan wiedzy dotyczący metod badania nieszczelności, pomiaru próżni i wytwarzania próżni w mikroskali. Wydaje się, że dalszy rozwój techniki próżni jest ściśle związany z rozwojem technik mikroinżynieryjnych, które umożliwią budowę zintegrowanych miniaturowych urządzeń próżniowych. Mikrourządzenia te będą pracować jako czujniki, aktuatory, układy elektroniczne i jednocześnie posiadać elementy do wytwarzania i pomiaru wysokiej próżni.
EN
Rapid development of the microsystem technology and the miniature Micro- and Nanoelectronics devices resulted in the need to develop new methods of high and ultrahigh vacuum generation in a volume of less than 1 cm³. Currently, a low vacuum is produced using vacuum bonding processes for silicon and glass substrates or integrated fabrication process. Vacuum Microsystems manufactured for microelectronics, automotive, aviation, and space must work properly for more than 10 years. Therefore, enclosed in hermetic cases, in the final stage of production are tested for leaks. There are different methods that have limitations, when the test volume is less than 0.1 cm³. The paper describes the state of knowledge concerning the methods of leak testing, measurement of vacuum and vacuum generation in the microscale. It seems that the further development of vacuum technology is closely linked with the development microengineering techniques that will enable the construction of integrated miniature vacuum devices. These microdevices will operate as sensors, actuators, electronic circuits, and also have additional elements to generate and measure high vacuum.
5
Zastosowania światłowodów kapilarnych
71%
Romaniuk R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2006
|
tom Vol. 47, nr 4
5-9
PL
Dokonano aktualnego przeglądu zastosowań światłowodów kapilarnych. Niektóre z tych zastosowań wynikają z klasycznych właściwości kapilar i urządzeń kapilarowych, takich jak reometria, elektroforeza, chromatografia kolumnowa, ale niektóre są związane ściśle z kopropagacją mikromasy z falą optyczną zanikającą lub falą optyczną o znacznym natężeniu.
EN
The paper updates and summarizes contemporary applications of capillary optical fibers. Some of these applications are straight consequence of the classical capillary properties and capillary devices like: rheometry, electrophoresis, column chromatography (gas and liquid). Some new applications are tightly connected with co-propagation (or counter-propagation) of micromass together with optical wave evanescent or of considerable intensity. Optical capillaries, filamentary and embedded, are turning to a fundamental component of nano- and micro MOEMS.
6
Technika mikrosystemów i wybrane metody
60%
Kozak J.
|
2006
|
tom R. 1, nr 4-5
9-15
PL
W artykule przedstawiono wprowadzenie do techniki mikrosystemów oraz omówiono wybrane metody mikrotechnologii, w tym mikroobróbkę elektroerozyjną i elektrochemiczną.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.