Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

1 Optica Applicata

1 2006

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: EUV spectroscopy

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

100%

Rakowski R. , Bartnik A. , Fiedorowicz H. , Jarocki R. , Kostecki J. , Krzywinski J. , Mikolajczyk J. , Pina L. , Ryc L. , Szczurek M. , Ticha H. , Wachulak P.

Optica Applicata

2006

tom Vol. 36, nr 4

s. 593--600

In this paper an application of a recently developed laser plasma source of extreme ultraviolet (EUV) for optical measurements of optical characteristics of Mo/Si multilayer mirrors is presented. The source is based on an xenon-helium double-stream gas puff target irradiated with laser pulses from a Nd : YAG laser system (E = 0.55 J, t = 3.9 ns, f = 10 Hz, M 2 = 2.5). The results show that the source can be useful for EUV lithography technologies as a metrology tool in the semiconductor industry.