Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
The technique of X ray topography with the asymmetric reflection geometry of X-ray diffraction presented in this paper as useful tool for structural characterization of materials, particularly, epitaxial thin films and semiconductor multi-layered crystal systems used for the optoelectronic devices. New possibilities of this technique for a layer-by-layer visualization of structural changes in the subsurface crystal layers are demonstrated for semiconductors after various types of surface treatment, such as chemical etching, laser irradiation and ion implantation.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.