W artykule zaprezentowano wyniki badań impulsowych procesów rozpylania targetów z grafitu pyrolitycznego (φ = 100 mm) za pomocą wyrzutni magnetronowej typu WMK-100. Mierzono charakterystyki rozkładów natężenia pola magnetycznego oraz określono stopień niezbalansowania magnetronu przy wykorzystaniu kilku wymiennych układów magnetycznych. Badano wpływ parametrów technologicznych (gęstość mocy wydzielanej w materiale rozpylanym, warunki chłodzenia targetu, odległość target podłoże, ciśnienie gazu roboczego Ar) na przebieg procesu rozpylania grafitu pyrolitycznego. Wstępne obserwacje wskazywały na otrzymywanie cienkich warstw składających się z fazy grafitowej i fazy diamentopodobnej.
EN
The article presents the results of investigations of pulsed magnetron sputtering processes from pyrolytic graphite targets (φ = 100 mm) using WMK-100 magnetron sputtering gun. Distributions of magnetic field were measured and magnetrons degrees of unbalance were established for several interchangeable magnetic assemblies. The influence of technological parameters (power density in the sputtered material, target cooling conditions, target substrate distance, working gas Ar pressure) on the pyrolytic graphite target sputtering process was investigated. Preliminary observations indicated that obtained thin films consisted of graphite phase and diamond like phase.
Badano proces osadzania cienkich warstw tlenku indowo-cynowego (ITO) na podłoża szklane metodą reaktywnego, impulsowego rozpylania magnetronowego targetu ITO (90% In₂O₃, 10% SnO₂) w temperaturze pokojowej. W celu poprawienia elektrycznych i optycznych właściwości napylonych warstw po procesie rozpylania wygrzewano je w próżni. Wygrzane warstwy charakteryzowały się niską rezystywnością około 10⁻⁴ Ω oraz wysoką transmisją światła w zakresie widzialnym, sięgającą 85%.
EN
Results of the room temperature deposition of indium-tin (ITO) layers from In₂O₃ : SnO₂ target (10% SnO₂) by pulsed magnetron sputtering are presented. ITO thin layers were deposited on the glass substrates. Sputtering process was performed in pure Ar and Ar + O₂ mixture. Post deposition vacuum annealing of ITO thin films caused meaningful decrease of their resistivity. The transparency of obtained layers was greater than 85% in visible spectrum.
Omówiono właściwości przetwornicy rezonansowej, kluczowanej w zerze, ze stabilizowaną dobrocią obwodu rezonansowego. Opisana przetwornica została zastosowana w wielu źródłach mocy pod ogólną nazwą Dora Power System. Podano kilka przykładów zastosowań w takich dziedzinach, jak: magnetronowe nanoszenie warstw cienkich czy spawanie wiązką elektronową, a także w konstrukcji wysokoprądowych zasilaczy z dużą stabilnością długoczasową.
EN
The paper describes the properties of a so called zero switching, switch mode rosonant converter with stabilized Q factor of the resonant circuit. The above converter has been applied in many power sources manufactured under the common mark Dora Power System. Examples of applications of this system in such area as magnetron sputtering and electron beam welding as well as in design of a very high long term stability high current power supplies are given.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.