Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Moving from micro- to nanoworld in optical domain scanning probe microscopy

100%

Radojewski J.

|

2006

|

tom Vol. 54, nr 1

25-32

EN

In the article we described the evolution of optical technology tram lens-type microscopes working in far-field to SNOM (Scanning Near-Field Optical Microscopy) constructions. We considered two systems elaborated in our laboratory, namely PSTM system (photon Scanning Tunelling Microscope) and SNOM system. In both systems we obtained subwavelength resolution. Same details about optical point probe technology in both systems are given and experimental results presented.

2

Combined SNOM/AFM microscopy with micromachined nanoapertures

63%

Radojewski J. , Grabiec P.

Materials Science

|

2003

|

tom Vol. 21, No. 3

319-332

EN

We describe a new combined SNOM/AFM cantilever probe with the aperture FIB micromachined in a hollow metal pyramid fabricated on its end. The cantilever can be used in a microscopy set-up with the optical or piezoresitive AFM detection system. A processing sequence proposed in the article offers a high reproducibility in batch processing typical of semiconductor technology. Morover, the angle of the apex cone is closed to 50° which renders it possible to obtain a high-aperture optical throughoutput. The probe construction, manufacturing and its basic optical parameters are described.

3

Wytwarzanie ostrzy światłowodowych dla mikroskopii bliskiego pola optycznego

51%

Małozięć G. , Wałach L. , Radojewski J.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2009

|

tom Vol. 50, nr 9

98-99

PL

W pracy przedstawiono proces chemicznego trawienia ostrzy światłowodowych do zastosowań w skaningowym mikroskopie bliskiego pola optycznego (SNOM). Są one jednymi z najważniejszych elementów mikroskopu, gdyż od nich zależy rozdzielczość i jakość otrzymanych obrazów. Omówiono również budowę stanowiska do trawienia sond oraz zasadę jego działania. Jest ono w dużym stopniu zautomatyzowane i sterowane za pomocą komputera, co ogranicza do minimum kontakt operatora z niebezpiecznym roztworem trawiącym - kwasem fluorowodorowym.

EN

In the paper the chemical etching process of optical waveguide tips for scanning optical near-field microscopy (SNOM) was described. The waveguide tips are the most important microscope part because they are responsible for resolution and quality of obtained images. Set-up of optical waveguide tips etching apparatus was described. It is automatic in main part and driven by a computer. It makes it possible to remote operation with dangerous etching chemicals - HF acid.

4

Mikroskopia sił atomowych "Shear force" z interferencyjną detekcją ostrza skanującego

45%

Sikora A. , Sankowska A. , Gotszalk T. P. , Radojewski J. , Szeloch R. F.

|

2002

|

tom nr 9

11-12

5

Zastosowanie mikroskopii bliskich oddziaływań w pomiarach geometrii nanostruktur

45%

Marendziak A. , Gotszalk T. , Sankowska A. , Radojewski J. , Szeloch R.

|

2002

|

tom nr 7-8

51-53

6

Zastosowanie nowej metody sterowania procesem pomiarowym w statycznej mikroskopii sił atomowych

45%

Marendziak A. , Czarnecki P. , Szeloch R. , Radojewski J. , Rangelo I.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2004

|

tom Vol. 45, nr 6

39-41

PL

W artykule przedstawiono nową metodę umożliwiającą sterowanie mikroskopem sił atomowych, pracującym w trybie statycznym przy użyciu systemu DSP ADwinPro firmy Keithley. Opisano metodę pomiaru topografii powierzchni z wykorzystaniem cyfrowego regulatora PID pracującego przy wykorzystaniu dwóch wartości zadanych. Przedstawiono wyniki z pomiarów topografii powierzchni azotku aluminium, wykonane przy użyciu regulatora o jednej i dwóch wartościach zadanych.

EN

In this article we was introduced a new method of DSP ADwinPro based scanning probe microscopy (SPM) system control. We describe a new two set-point digital PID method elaborated for better control of near field interaction between surface and tip atoms. We show measurement results of nitride aluminium surface obtained with one and two set-point PID system.

7

Termograficzny system dalekiego i bliskiego pola

38%

Szeloch R. , Gotszalk T. , Radojewski J. , Janus P. , Orowski W. , Pędrak R. , Gumienny Z.

Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Wrocławskiej. Konferencje

|

2000

|

tom Vol. 37, nr 12

221-225

PL

Opracowano system termograficzny dla obserwacji próbek o rozmiarach milimetrowych zawierających struktury mikro i nanometrowe. Opcja dalekiego pola wyposażona jest w fotowoltaiczny czujnik podczerwieni pracujący w paśmie 3-12 nm co umożliwia rejestrację niewielkich gradientów temperatury oraz ułatwia rozpoznanie lokalnych niejednorodności i defektów. System umożliwia regulację i stabilizację temperatury stolika pomiarowego oraz dokonywanie, w czasie pomiarów zanim tejże temperatury według określonej funkcji czasowej. Również napięcia polaryzacji i wejściowe sygnały dochodzące do badanych obiektów mogą być kontrolowane w systemie np. Test Point lub LabView. Taki sposób pracy umożliwia pomiary zarówno amplitudowych jak i fazowych sygnałów termicznych a co za tym idzie system rozpoznaje stan nie tylko powierzchni, lecz również (tzw. opcja lock-in) przypowierzchniowej części wnętrza badanej próbki.

EN

Combined far-field and near-field thermographic system is presented. Due to wide band infrared detector and two versions of optical sets of the system we are able to detect small temperature gradients. One of these optical sets consists of Zn Se lenses and the second includes the mirror-like optical set. System allows stage temperature regulation and stabilisation according to determined function. System also controls sample voltage signals with TestPoint or LabView software. This procedure allows us to measure amplitude and detect inhomogeneity under surface of the sample.

8

Mikroskopia bliskiego pola optycznego na bazie rezonatorów kwarcowych

38%

Kulka T. , Gil P. , Woszczyna M. , Piotrowicz A. , Kowalska Z. , Radojewski J. , Gotszalk T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2009

|

tom Vol. 50, nr 9

53-55

PL

W artykule zaprezentowano sposoby wykorzystania rezonatorów kwarcowych wraz z ostrzami światłowodowymi do badań powierzchni w mikroskopii bliskiego pola optycznego. Celem prezentowanej pracy była analiza wpływu przyklejonych ostrzy na charakterystyki częstotliwościowe rezonatorów. Skupiono się również na ocenie przydatności jedno- i dwupunktowych połączeń światłowód-rezonator w mikroskopii bliskich oddziaływań. W wyniku przeprowadzonych eksperymentów stwierdzono: - zmniejszenie się częstotliwości rezonansowej oraz dobroci widelca kwarcowego z przyklejonym na końcu kamertonu ostrzem światłowodowym w stosunku do rezonatora bez dodatkowego obciążenia; - rozrzut częstotliwości rezonansowej, związany np. z długością wystającego ostrza czy ilością kleju użytego do połączenia elementów; - całkowite rozstrojenie podwójnie klejonych układów ze względu na wielokrotne rezonanse w szerokim zakresie częstotliwości (nieprzydatne w mikroskopii SNOM).

EN

This article presents quartz resonators together with glued fiber optic tips application in the near-field optical microscopy. The purpose of the study was to analyze the influence of connected tips on the frequency characteristics of resonators. Our work focuses also on the suitability of one-point and two-points connections between fiber and resonator in near-field microscopy. As a result of the experiments it was found: - a decrease in the resonance frequency and the quality factor of quartz fork with fiber tip glued at the end of resonator in relation to the resonator without the additional load; - resonant frequency change, associated with, for example: the length of waveguide tip or amount of glue used to connect components; - total detuning of double-glued systems because of the multiple resonances in a wide range of frequencies (not useful in SNOM microscopy).

9

Nanomiernictwo mikro- i nanostruktur metodami mikroskopii bliskich oddziaływań

32%

Gotszalk T. , Radojewski J. , Szeloch R. , Marendziak A. , Kolanek K. , Woszczyna M. , Masalska A. , Grabiec P. , Janus P. , Rangelow I.

|

tom Vol. 46, nr 6

6-10

PL

Przedstawiono zastosowanie mikroskopii bliskich oddziaływań (ang. Scanning Probe Microscopy - SPM) w miernictwie właściwości mikro- i nanostruktur. Omówiono uwarunkowania eksperymentalne i podstawowe metody, których celem jest przeprowadzenie ilościowej analizy parametrów badanych układów. Zaprezentowano również wyniki badań prowadzonych w trybie kalibrowanej mikroskopii sił atomowych (ang. Calibrated Atomie Force Microscopy- CD AFM), mikroskopii bliskiego pola optycznego (ang. Scanning Nearfield Optical Microscopy- SNOM) oraz mikroskopii sił atomowych z piezoelektrycznym rezonatorem kwarcowym, pełniącym rolę czujnika siły skupionej na mikroostrzu.

EN

In this article we describe application of Scanning Probe Microscopy in measurements of micro- and nanostructures. We will describe the experimental setup and principles of methods and techniques, which are devoted to quantitative investigations of nanostructures. In our work we will present the results of measurements using Calibrated Atomic Force Microscopy, Scanning Nearfield Optical Microscopy and Scanning Probe Microscopy with piezoelectrical quartz resonator as a detector of forces acting at the microtip.

10

Diagnostyka materiałów i układów mikro- i nanolektronicznych metodami modularnej mikroskopii bliskich oddziaływań

32%

Gotszalk T. , Radojewski J. , Szeloch R. , Marendziak A. , Sikora A. , Hasek T. , Kolanek K. , Grabiec P. , Rangelow I.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2004

|

tom Vol. 45, nr 12

29-33

PL

Przedstawiono możliwości obserwacji właściwości układów i materiałów mikro- i nanometrowych oraz nanoelektronicznych metodami mikroskopii bliskich oddziaływań. Omówiono podstawowe tryby pomiarowe tej metody badawczej, jej możliwości pomiarowe i zasadnicze ograniczenia. Zaprezentowano również rodzinę modularnych mikroskopów bliskich oddziaływań skonstruowanych w Politechnice Wrocławskiej oraz wyniki badań topografii powierzchni, rozkładu napięć elektrycznych i temperatury występujących na powierzchni mikroelektronicznych ukladów mikrometrowych i mikrosystemów.

EN

In this article we describe the application of Scanning Probe Microscopy (SPM) in high resolution diagnostics of microelectronical devices and materials. In this experimental method the interactions between microtip with the tip radius of 10 nm located above the investigated structure surface are monitored. Based on this measurements various mechanical, thermal and electrical surface properties can be resolved within several nanometers. We will present results of thermal and electrical surface characterization using Scanning Thermal Microscopy (SThM) and Electrostatic Force Microscopy (EFM). We will also describe the sensor technology, which was developed in our group and which enables us to observe the surface thermal conductivity, electrical potentials and dopant profiles in micro- and nanostructures.

11

Wybrane zagadnienia metrologii mikro- i nanostruktur

32%

Gotszalk T. , Jóźwiak G. , Kowalski Z. , Nitsch K. , Piasecki T. , Radojewski J. , Sankowska A. , Serafińczuk J. , Szecówka P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2012

|

tom Vol. 53, nr 2

40-47

PL

W artykule przedstawione zostały metody i techniki badań materiałów stosowanych we współczesnej mikro- i nanoelektronice oraz konstruowanych obecnie przyrządów i podzespołów. Metody bazujące na spektroskopii impedancyjnej, skaningowej mikroskopii elektronowej, mikroskopii bliskich oddziaływań, technikach jonowych, dyfraktometru rentgenowskiej, optoelektronice i technice światłowodowej, przetwarzaniu sygnałów i cyfrowych układach sterujących są rozwijane w Zakładzie Metrologii Mikro- i Nanostruktur od 2006. Dzięki integracji wspomnianych technik i ich odmian, dodatkowo z wykorzystaniem układów mikroelektromechanicznych, możliwe jest rozwiązanie wielu problemów, stojących przed współczesną metrologią mikro- i nanostruktur.

EN

In this paper, new methods of investigation of novel materials used and new tools and systems constructed in the course of the development of micro- and nanotechnology. Methods based on impedance spectroscopy, scanning electron microscopy, scanning probe microscopy, ion techniques, X-ray diffraction, optoelectronics and fiber techniques, signal processing and digital control devices have been developed in the Division of Metrology of Micro- and Nanostructures since 2006. By combining above-mentioned methods and their variations and including usage of microelectromechanical systems it is possible to solve various problems of modern metrology of micro- and nanostructures.