Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Temperature dependence of galvanomagnetic properties of undoped n-type GaA/GaAs and n-type InGaAs/InP layers

100%

Wolkenberg A. , Przesławski T. , Regiński K. , Kaniewski J.

|

tom Vol. 34, nr 1

1-4

EN

The magnetoresistance (MR) and the Hall-effect measurements in undoped n-type GaAs/GaAs and n-type In₀.₅₃Ga₀.₄₇As/InP samples in the temperature range 3.5 ÷ 300 K were carried out. We have obtained magnetoresistance data on the samples of n-type epilayers on SI GaAs and SI InP substrates made MBE technology. Magnetoresistance by measurements in constant magnetic fields vs. temperature are completed. The measurements reveal that the magnetoresisance of the samples strongly depends on the temperature and magnetic field.

2

The influence of MBE growth conditions on optical properties of InGlGaAs/AlGaAs structures

88%

Kosiel K. , Regiński K. , Szerling A. , Piwoński T. , Bugajski M.

|

tom Vol. 36, nr 4

1-3

EN

Optical properties of compressively strained In₀.₂₄Al₀.₁₉Ga₀.₅₇As layers were investigated as a function of the MBE growth conditions. The optimum temperature of the crystal surface (Ts) for MBE growth of this quaternary layer as well as the optimal cooling down process necessary for achieving appropriate Ts for InAlGaAs were experimentally found.

3

Problemy epitaksji antymonków grupy III-V

75%

Jasik A. , Regiński K. , Sankowska I. , Kubacka-Traczyk J. , Jakieła R. , Kaniewski J.

|

2010

|

tom Vol. 51, nr 10

90-92

PL

W pracy przedstawiono wyniki dotyczące optymalizacji technologii epitaksji z wiązek molekularnych związków antymonkowych oraz supersieci drugiego rodzaju. Kluczowym w procesie wzrostu warstw GaSb były dwa etapy: wygrzewanie podłoża poprzedzające wzrost oraz studzenie struktury po zakończonym wzroście. Istotnym problemem okazało się zanieczyszczanie warstw antymonkowych arsenem. W wyniku badań wpływu obszaru międzyfazowego na jakość SL II rodzaju otrzymano krzywą kalibracyjną, która pozwala uzyskać SL 10 ML InAs/10 ML GaSb dopasowaną sieciowo do podłoża GaSb.

EN

We present the results of the growth optimization of both GaSb and related compounds and type-II superlattices grown by molecular beam epitaxy. The key issues in the epitaxial growth of GaSb layers were an annealing of a substrate before growth and post-growth cooling of a structure. A crucial problem of GaSb layer growth is its arsenic contamination. We have investigated the influence of interface type on the ąuality of type-II SL. We received a calibration curve, which allows to obtain the lattice matched of 10 ml InAs/10 ML GaSb superlattice.

4

Detektory na bazie supersieci II rodzaju InAs/GaSb dla zakresu promieniowania średniej podczerwieni

63%

Kaniewski J. , Jasik A. , Sankowska I. , Czuba K. , Papis-Polakowska E. , Jureńczyk J. , Sakowicz M. , Regiński K.

|

tom Vol. 57, nr 8

27--34

PL

Fotodetektory średniej podczerwieni wykorzystywane są w wielu zastosowaniach, np. wojskowych, medycznych czy przemysłowych. W ostatnich latach supersieci II rodzaju InAs/GaSb wykazały ogromny potencjał pozwalający na zastąpienie powszechnie wykorzystywanych przyrządów bazujących na HgCdTe. Niestety pomimo starań wielu grup badawczych nadal nie udało się w pełni wykorzystać ich możliwości. W pracy zaprezentowano obecny stan technologii wytwarzania fotodetektorów na bazie supersieci II rodzaju InAs/GaSb, pracujących w zakresie od 3 do 5 μm, w Instytucie Technologii Elektronowej (ITE). Opisane zostały kolejne etapy: krystalizacja supersieci, charakteryzacja struktur epitaksjalnych, technologia przyrządów oraz charakteryzacja elektryczna i optyczna detektorów. Na koniec porównano uzyskane parametry użytkowe fotodetektorów dostępnych komercyjnie i wytwarzanych w ITE.

EN

Mid-infrared photodetectors are used in many industrial, medical and military applications. In recent years type II InAs/GaSb superlattices have shown great potential, which could allow them to substitute commonly used HgCdTe devices. Despite the effort of many research groups full capabilities of this material have not been utilized yet. In this paper an overview of type II InAs/GaSb photodetector (3–5 μm) technology in Institute of Electron Technology (IET) is presented. The following stages have been described: epitaxy of superlattices, characterization of epitaxial structures, processing and characterization of devices. At the end parameters of photodetectors manufactured in IET have been compared with those of commercially available devices.