Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Diody Schottky’ego i tranzystory MESFET na bazie In-Ga-Zn-O z przezroczystą bramką Ru-Si-O

100%

Kaczmarski J. , Grochowski J. , Kamińska E. , Taube A. , Kozubal M. , Jung W. , Piotrowska A. , Dynowska E.

tom Vol. 55, nr 9

24-26

Kontakty prostujące stanowią główny element w konstrukcji diod Schottky’ego i tranzystorów MESFET zapewniających niski pobór mocy układów scalonych i płaskich wyświetlaczy z aktywnymi matrycami. W niniejszej pracy proponujemy wytworzenie bariery Schottky’ego do a-IGZO w oparciu o przezroczysty tlenek przewodzący (ang. Transparent Conductive Oxide, TCO) Ru-Si-O. Skład atomowy i amorficzna mikrostruktura tego TCO są skuteczne w zapobieganiu reakcjom międzyfazowym w obszarze złącza, pozwalając na uniknięcie wstępnej obróbki powierzchni półprzewodnika. Kontakty Ru-Si-O/In-Ga-Zn-O zostały wykonane za pomocą reaktywnego magnetronowego rozpylania katodowego. Przedstawiamy wyniki badań nad wpływem składu chemicznego Ru-Si-O na właściwości elektryczne i optyczne kontaktu do a-IGZO. Określono okno procesowe wytwarzania Ru-Si-O, w którym warstwy tworzą przezroczystą barierę Schottky’ego do a-IGZO bez wstępnej obróbki powierzchni tego półprzewodnika. Przezroczysta bariera Schottky’ego została wykorzystana w konstrukcji tranzystora MESFET.

In the following reposrt we propose utilization of transparenct conductive oxide as Schottky contact to transparent amorphous oxide semiconductor. Ru-Si-O Schottky contacts to In-Ga-Zn-O have been fabricated by means of reactive sputtering without neither any annealing processes nor semiconductor surface treatments. The ideality factor, effective Schottky barrier height and rectification ratio are equal to < 2, > 0.9 eV and 105 A/A, respectively. We employed Ru-Si-O/In-Ga-Zn-O Schottky barriers as gate electrodes for In-Ga-Zn-O metal-semiconductor field-effect transistors (MESFETs). MESFET devices exhibit on-to-off current ratio at the level of 103 A/A in a voltage range of 2 V and subthreshold swing equal to 420 mV/ dec. Channel mobility of 7,36 cm2/Vs was achieved.

Raman scattering studies of MBE-grown ZnTe nanowires

100%

Szuszkiewicz W. , Morhange J. F. , Dynowska E. , Janik E. , Zaleszczyk W. , Presz A. , Domagała J. Z. , Caliebe W. , Karczewski G. , Wojtowicz T.

tom Vol. 26, No. 4

1054--1059

We report on the first studies of the optical properties of MBE-grown ZnTe nanowires (NWs). The growth of ZnTe NWs was based on the Au-catalyzed vapour–liquid–solid mechanism and was performed on (001), (011), or (111)B-oriented GaAs substrates. Investigated NWs have a zinc-blende structure, the average diameter of about 30 nm, and typical length between 1 and 2 μm. Their growth axes are oriented along <111>-type directions of the substrate. The structural characterization of the NWs was performed by means of X-ray diffraction, using the synchrotron radiation corresponding to the wavelength of CuKα1 radiation W1 beamline at Hasylab DESY). The macro-Raman spectra of either as-grown NWs on GaAs substrate or of NWs removed from substrate and deposited onto Si were collected at temperatures from 15 K to 295 K using Ar+ and Kr+ laser lines. Strong enhancement of ZnTe-related LO-phonon structure was found for an excitation close to the exciton energy. Our studies revealed also the presence of small trigonal Te precipitates, typical of tellurium compounds.

Technologia cienkich warstw tlenku cynku o kontrolowanych własnościach strukturalnych, transportowych i optycznych

80%

Borysiewicz M. A. , Kamińska E. , Wojciechowski T. , Gołaszewska K. , Dynowska E. , Wzorek M. , Kruszka R. , Pągowska K. D. , Kwoka M. , Szuber J. , Boll T. , Stiller K. , Wojtowicz T. , Piotrowska A.

2016

tom Vol. 57, nr 8

75--80

W ramach artykułu zaprezentowaliśmy wyniki prac dotyczących kontroli struktury, morfologii, własności transportowych i optycznych cienkich warstw tlenku cynku (ZnO) wytwarzanych na drodze magnetronowego rozpylania katodowego. Wykorzystując zaawansowany reaktor rozpylania katodowego umożliwiający kontrolę parametrów procesu osadzania takich, jak temperatura podłoża, przepływ gazów, ciśnienie gazów, moc podawana na katody pokazujemy jaką rolę odgrywają poszczególne parametry w kontroli własności wytwarzanego materiału. Prezentujemy zarówno badania z zakresu podstawowego dotyczące domieszkowania monokrystalicznych cienkich warstw ZnO przy pomocy akceptorów Ag, jak i badania stosowane dotyczące inżynierii przerwy energetycznej w celu opracowania przezroczystych elektrod dla diod elektroluminescencyjnych UV czy prace nad wzrostem nanoporowatego ZnO dla zastosowań w czujnikach gazowych, biochemicznych oraz urządzeniach do magazynowania energii.

In this work we present the results of studies on the control of structure, morphology, transport and optical properties of zinc oxide (ZnO) thin films fabricated by means of magnetron sputtering. using a state-of-the-art sputtering reactor enabling the control of such process parameters as: substrate temperature, gas flow, gas pressure and cathode power, we show the role of each parameter in controlling the properties of the deposited material. We present both basic research on doping monocrystalline ZnO films with Ag acceptors as well as applied research on band gap engineering for the development of transparent electrodes for UV LEDs or on the growth of nanoporous ZnO for applications in gas and biochemical sensors and energy storage devices.