Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Seasonal variation of physicochemical parameters of reedbed habitats of several water bodies in Ełk Lakeland and their dominant macrophytes in 2006-2007

100%

Panek P.

|

tom 06

2

The Influence of the Base Material Parameters on Quantum and Photoconversion Efficiency of the Si Solar Cells

63%

Panek P.

|

nr 4

3

Ogniwa fotowoltaiczne na bazie krzemu krystalicznego w aspekcie technologii przemysłowych

51%

Drabczyk K. , Panek P. , Lipiński M. , Zięba P.

|

2010

|

tom Vol. 51, nr 5

105-109

PL

W pracy przedstawiono kompletny proces wytwarzania ogniw fotowoltaicznych opracowany i realizowany w Laboratorium Fotowoltaicznym IMIM PAN (LF IMIM PAN) w Kozach wraz z komplementarnymi metodami pomiarowymi, pozwalającymi na wyznaczanie parametrów ogniwa na każdym z etapów procesu. Opracowana technologia pozwala na wytwarzanie ogniw słonecznych o sprawności konwersji fotowoltaicznej 16% na krzemie monokrystalicznym i 13% na krzemie polikrystalicznym na Si o powierzchni 100 cm2. Szczegółowo opisano każdy z siedmiu podstawowych etapów procesu technologicznego ze szczególnym uwzględnieniem fizycznych podstaw implikujących parametry materiału bazowego i gotowego ogniwa słonecznego. Opisano bazę pomiarowo-diagnostyczną IMIM stosowaną w obszarze fotowoltaiki. Proces wytwarzania ogniw słonecznych opisano w oparciu o serię eksperymentalną zrealizowaną podczas zajęć laboratoryjnych ze studentami biorącymi udział w projekcie: "Upowszechnianie osiągnięć polskiej oraz światowej fotowoltaiki w procesie kształcenia na poziomie wyższym". W artykule dokładnie opisano takie procesy jak: dyfuzji ze źródła POCl 3 , pasywacji powierzchni, nakładania warstw antyrefleksyjnych z tlenku tytanu TiO 2 oraz metalizacji kontaktów w piecu taśmowym IR z past naniesionych sitodrukiem. Zamieszczono również wyniki pomiarów rezystancji powierzchniowej warstw dyfuzyjnych, charakterystyki spektralnej oraz wartości współczynnika odbicia światła. Parametry prądowo-napięciowe gotowych ogniw zmierzono dla standardowego promieniowania AM 1.5. Przedstawiony proces wytwarzania ogniw ma szczególne znaczenie w aspekcie technologii przemysłowych gdyż opisywane technologie są tanie i łatwe do automatyzacji.

EN

In this paper we present the complete technological process of manufacturing crystalline silicon solar cells using screen-printed technology realised in the Photovoltaic Laboratory of Institute of Metallurgy and Materials Sciences of the Polish Academy of Sciences (PL IMMS PAS) - Photovoltaic Laboratory at Kozy. The described process is based on diffusion from POCl 3 resulting in emitter with a sheet resistance on a level 60 ohm/square and screen printed contacts fired trough a TiO x antireflection coating layer. Secondary ion mas spectrometry (SIMS) and electrochemical profilometry (ECP) have been employed for appropriate distinguishing the total and active phosphorous in donor doped profile. The solar cells parameters have been characterized by current-voltage characteristics, spectral response (SR) methods. The measurement techniques to determine them are presented. We have achieved average efficiencies 16% on 1 ohm * cm textured monocrystalline silicon and 13% on multicrystalline silcon. The total number of processing steps has been reduced to seven so this cell efficiency of 16% and 13% has been obtained in a simple cell processing sequence. Some aspects playing a role in suitable manufacturing process are discussed. Summarising, this paper gives also o brief overview on the research activities of the Photovoltaic Laboratory of PAS and their research and development equipment.

4

Wytwarzane metodą laserową kontakty punktowe Al-Si w aspekcie zastosowania w ogniwach słonecznych na bazie krzemu krystalicznego

51%

Panek P. , Drabczyk K. , Kwiatkowska J. , Socha P. R.

|

2010

|

tom Vol. 51, nr 5

37-41

PL

Praca zawiera wyniki badań dotyczących właściwości i struktury kontaktów punktowych (LFC) wytworzonych za pomocą promieniowania laserowego pomiędzy warstwą naparowanego aluminium a krzemem krystalicznym w kontekście ich stosowania w ogniwach słonecznych. Stosując mikroskop skaningowy (SEM) przedstawiono zależności pomiędzy wartością energii promieniowania ELB w zakresie od 13 mJ do 848 mJ dla lasera duantel - YG980 QSwitched Nd:YAG generujący promieniowanie o długości fali 1064 nm i czasie pojedynczego impulsu 10 nanosekund a formą i strukturą punktu kontaktowego dla wybranych grubości naparowanej warstwy Al. Metodą mikroskopii transmisyjnej (TEM) zobrazowano przekrój kontaktu punktowego. Degradację sieci krystalicznej Si w zależności od ELB oraz konkretnego miejsca w obszarze LFC zanalizowano metodą spektroskopii Ramana. Metodą spektroskopii fotoelektronów (XPS) wyznaczono w obszarach LFC wartość stosunku atomowego Al/Si oraz stosunku stanów elektronowych dla różnych form Al i Si w zależności od energii wiązki. Wyznaczono energię ELB w granicach 260 mJ, dla której degradacja struktury sieci krystalicznej Si jest kompromisem wartości Si/AI i energii wiązania Al-Si.

EN

This paper reports an experimental investigations of the laser fired contacts (LFC) prepared on Al layers evaporated on the back side of the crystalline silicon. The LFC were obtained using 10 nanoseconds pulsed Nd:YAG laser of wavelength of 1064 nm and a pulse energy from 13 mJ to 848 mJ. The size, morphology and structure of the LFC contact regions were studied using Scanning Electron Microscopy (SEM) and Raman micro-spectroscopy. The transmission microscopy (TEM) was applied for analysis of the LFC cross-section. X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) measurements were used to evaluate the atomic ratio of the elements and the ratio of electronic states of Al and Si at the LFC local area in respect of the laser beam energy. An optimal value of laser beam energy as a balance between Si crystal degradation and the highest Si/Al ratio with the strongest Al-Si bonding was found at 260 mJ.

5

Właściwości elektryczne i optyczne fotoogniw wytworzonych z wykorzystaniem metody sitodruku

51%

Dobrzański L. A. , Musztyfaga M. , Drygała A. , Panek P.

|

2010

|

tom Vol. 51, nr 5

63-65

PL

W pracy przedstawiono wytworzenie ogniwa fotowoltaicznego z wykorzystaniem metody sitodruku oraz jego podstawowe własności elektryczne i optyczne. Pomiary rezystancji elektrody przedniej oraz strefy jej połączenia z podłożem krzemowym wykonano metodą linii transmisyjnych.

EN

The paper presented a manufacturing of photovoltaic cell by screen printing method and its electrical and optical properties. Resistance measurements of front contact and its connection zone with silicon substrate were investigated using Transmission Line Model (TLM).

6

Właściwości aplikacyjne amorficznych warstw na bazie krzemu podwyższające sprawność ogniw słonecznych

51%

Swatowska B. , Kluska S. , Panek P.

|

tom Vol. 54, nr 5

37-40

PL

W pracy przedstawiono omówienie najważniejszych, z punktu widzenia ich przyszłego zastosowania w ogniwach słonecznych, właściwości amorficznych warstw uwodornionych typu a-Si:C:H, a-Si:N:H czy też a-SiCN:H. Do wytwarzania wymienionych warstw zastosowano metodę chemicznego osadzania z fazy gazowej PECVD. Mieszaniny reakcyjne to: CH4+SiH4, NH3+SiH4 oraz CH4+SiH4+NH3. Analizie poddano właściwości strukturalne, morfologiczne i optyczne warstw. Określono zarówno ich skład chemiczny atomowy i wagowy, zawartość wiązań wodorowych, a także wyznaczono parametry optyczne:współczynnik załamania n, przerwę optyczną Eg oraz współczynnik odbicia efektywnego Reff. Uwzględniając rolę pokryć antyrefleksyjnych w ogniwach słonecznych analizowano wpływ wybranych parametrów warstw na właściwości aplikacyjne ogniw PV. Warstwa antyrefleksyjna o odpowiednim współczynniku załamania, grubości oraz współczynniku odbicia może podwyższyć sprawność ogniwa nawet o 30% względnych.

EN

This paper provides an overview of the most important characteristics of the hydrogenated amorphous layers type a-Si:C:H, a-Si:N:H and a-SiCN:H, of the points of view of their future applications in solar cells. For the preparation of these thin films was applied method of chemical vapor deposition PECVD. Gaseous mixtures used: CH4+SiH4, NH3+SiH4 and CH4+NH3+SiH4. The structure, morphology and optical properties of layers were analyzed. Defined in both their atomic and weight chemical composition, the content of hydrogen bonding, as well as optical parameters were determined: refractive index n, energy gap Eg, effective reflection coefficient Reff and thickness d. Taking into account the role of antireflective coatings for solar cells, the influence of selected parameters of layers on PV cells properties was analyzed. Antireflective coating of suitable refractive index, thickness and reflectance coefficient may increase cell efficiency by up to 30% relative.