Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Analysis of the electrodeposited ZnO as photo anode for solar cells
100%
EN
There are many methods to deposit a photoanode layer of DSSC, such as doctor blade, sputtering and spin coating. However, there are limitations for each of the methods. Electrochemical deposition is a three-electrode, cost-effective method for depositing metal, metallic oxide, and composites. The three-electrode method can also control the coating thickness and chemical composition by varying the deposition potential/current. Zinc Oxide (ZnO) is an n-type semiconductor with a wide bandgap energy value lying in the range of 3.37 eV. In this work, ZnO layers were deposited using an electrodeposition method by varying the time and molarity of the solution. The potential difference used in this experiment was - 0.61 V based on the cyclic voltammetry and chronoamperometry using a potentiostat and NOVA software. The qualities of the deposited ZnO have been studied using Scanning Electron Microscopy (SEM) and Ultraviolet-Visible Spectroscopy (UV-Vis) to determine their characterizations.
PL
Istnieje wiele metod osadzania warstwy fotoanody DSSC, takich jak rakla, napylanie katodowe i powlekanie wirowe. Istnieją jednak ograniczenia dla każdej z metod. Osadzanie elektrochemiczne to opłacalna metoda osadzania metali, tlenków metali i kompozytów za pomocą trzech elektrod. Metoda trójelektrodowa może również kontrolować grubość powłoki i skład chemiczny poprzez zmianę potencjału/prądu osadzania. Tlenek cynku (ZnO) to półprzewodnik typu n o wartości energetycznej szerokiego pasma wzbronionego mieszczącej się w przedziale 3,37 eV. W tej pracy warstwy ZnO osadzano metodą osadzania elektrolitycznego, zmieniając czas i molarność roztworu. Różnica potencjałów zastosowana w tym eksperymencie wynosiła -0,61 V w oparciu o cykliczną woltamperometrię i chronoamperometrię z użyciem potencjostatu i oprogramowania NOVA. Właściwości osadzonego ZnO badano za pomocą skaningowej mikroskopii elektronowej (SEM) i spektroskopii w zakresie widzialnym i ultrafioletowym (UV-Vis) w celu określenia ich charakterystyki.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.