Ten serwis zostanie wyłączony 2025-02-11.
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
W niektórych rozdzielniach średniego napięcia typu RSL przy dużym zawilgoceniu po kilku latach eksploatacji na powierzchni płyt izolacyjnych pojawiły się ślady wyładowań niezupełnych, elementy miedziane pokryły się patyną. Przeprowadzono pomiary napięcia wyładowań niezupełnych i przeskoku iskry na płytach nowych i zdemontowanych z rozdzielnic dla powierzchni suchych i zawilgoconych. Podjęto próbę wskazania możliwości zapobiegania tym wyładowaniom.
EN
In some medium voltage RSL switchboards that have operated in a humid environment for a few years, at the surfaces of their insulating partitions traces of partial discharges have shown and patina has coated their copper elements. Voltage of partial discharges and spark-over has been measured for dry and damp surfaces at new partitions and used ones dismounted from switchboards. An attempt to indicate possibilities of preventing the occurrence of such discharges has been made.
PL
W pracy przedstawiono nową metodę modyfikowania techniką mieszania jonowego warstw wierzchnich materiałów stosowanych do wytwarzania styków wyłączników aparaturowych. Metodą tą wytworzono warstwy miedzi domieszkowane atomami złota i niklu z jednoczesną implantacją jonów N2+ o energii 50 oraz 95 keV i dawkami w zakresie 5 x 1016 ÷ 5 x 1017 jonów/cm2. Zamieszczono opis i podstawowe charakterystyki pracy stosowanego stanowiska badawczego oraz przedstawiono wyniki badań wybranych właściwości zmodyfikowanych warstw.
EN
The paper presents a new method that consists in an application of the dynamic ion mixing technique to the modification of surface layers of materials used to produce contacts in switches. The method has been applied to produce copper surfaces doped with atoms of gold and nickel with simultaneous implantation of N2+ ions of 50 kV and 95 kV of energy with doses within the range of 5 x 1016 ÷ 5 x 1017 ions/cm2. A description and basic operation characteristics of the research stand have been presented together with the obtained test results concerning chemical composition and microhardness of the modified layers.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.