Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Potokowe i wsadowe systemy w praktyce przemysłowej

100%

Leja E. , Marszałek K.

Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika

|

2005

|

tom z. 153

124-131

EN

The description of the new in-line system for deposition of thin films on large area substrates is presented in the paper. Some details used for increasing productivity, like rotatable cylindrical magnetron are shown. Also several batch vacuum installations are reviewed. The construction of such coaters as well as its application in different industrial processes is discussed.

2

Wilgoć w ścianach budynków w zależności od ich stateczności cieplnej

100%

Karyś J. , Marszałek K.

Warstwy, Dachy i Ściany

|

2012

|

tom nr 1

18-21

PL

Syndrom Chorego Budynku (SBS) związany jest z czterema głównymi czynnikami, a mianowicie fizycznymi, chemicznymi, biologicznymi i socjologiczno-psychologicznymi. Największe znaczenie jako przyczyny korozji biologicznej mają - z perspektywy mykologicznej oraz projektowania budowlanego - czynniki fizyczne, a wśród nich warunki cieplno-wilgotnościowe, charakterystyczne dla pomieszczeń i przegród budowlanych. W różny sposób decydują o tym przegrody budowlane, tak monolityczne, jak i warstwowe.

3

Industrial Arc based equipment for decorative coating deposition

100%

Marszałek K. , Leja E.

|

tom Vol. 44, nr 2

357-362

EN

This paper presents industrial arc based equipment for deposition of metallic or nitride coatings on the glass surface. The large size vacuum chamber (volume about 4 m3) with the sample holder is demonstrated. Pumping system consists of two rotary pumps BL90, the Roots pump WK4000 and the oil diffusion pump PDO 16 000. The arc source with Ti cathode of 180 cm length and electromechanical arc starter were used for coating deposition. The process is fully automated. The substrates are cleaned by means of ultrasound cleaning method in the four-step procedure.

PL

W pracy przedstawiono pierwszą zbudowaną w kraju próżniową linię technologiczną z zastosowaniem technologii naparowania łukowego do nakładania cienkich warstw dekoracyjnych. W procesie można pokrywać obiekty zarówno warstwami metali jak i ich związków, a w szczególności warstwami Ti oraz TiN. Zastosowano w systemie katodę tytanową o długości 180 cm. Opisano konstrukcję układu próżniowego oraz w pełni zautomatyzowanego wyposażenia technologicznego przystosowanego do produkcji masowej. We wdrożonym w firmie Zelmer systemie zastosowano ultradźwiękową metodę czyszczenia podłoży.

4

Distribution of the temperature factor in terms of building envelope protection against mould growth

100%

Boroń J. , Marszałek K.

|

tom Y. 112, iss. 1-B

3--16

EN

This paper describes the criterion for the protection of building envelopes against the growth of mould. As a criterion for assessing the risk to envelopes, the ƒRsi temperature factor is adopted. The paper provides the resultant temperature factor ƒRsi,max for the critical month in 61 areas in Poland for which typical year-long meteorological data is available on the website of the Ministry of Infrastructure and Development. While calculating the temperature factor, various room humidity classes were taken into account. The results of calculations of the temperature factor fRsi,max have been illustrated with isolines drawn for the whole area of Poland.

PL

W artykule opisano kryterium ochrony przegród budowlanych przed rozwojem grzybów pleśniowych. Jako kryterium oceny zagrożenia przegród przyjęto czynnik temperaturowy ƒRsi. Podano wyniki obliczeń wartości czynnika temperaturowego ƒRsi,max dla miesiąca krytycznego w 61 miejscach w Polsce, dla których dane dotyczące typowych lat meteorologicznych są dostępne na stronie internetowej Ministerstwa Infrastruktury. W obliczeniach czynnika temperaturowego uwzględniono różne klasy wilgotności pomieszczeń. Wyniki obliczeń wartości czynnika temperaturowego fRsi,max zilustrowano izoliniami sporządzonymi dla całego obszaru Polski.

5

Stanowisko do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane

100%

Marszałek K. , Mania R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

tom Vol. 52, nr 8

70-72

PL

W pracy przedstawiono budowę stanowiska technologicznego przeznaczonego do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane. Do budowy stanowiska wykorzystano standardowe urządzenie próżniowe produkcji TEPRO Koszalin NA501A. Elementem z węglików spiekanych były wymienne końcówki wierteł do głębokiego wiercenia φ = 22,50. Zastosowano technologię impulsowego rozpylania magnetronowego MF (Medium Frequency) z wyrzutnią typu WMK50. Rozpylanie prowadzono z pojedynczej wyrzutni z tarczą wykonaną ze spieku TiAl. Spiek ten otrzymano stosując proces prasowania na gorąco mikroproszku otrzymanego w wyniku procesu SHS (Self-propagation High-temperature Synthesis). Proces nanoszenia prowadzono na podłoża utrzymywane w temperaturze ok. 900 K. Do uzyskania niezbędnej wartości temperatury podłoży skonstruowano stolik z elementem grzejnym wykonanym z materiałów ceramicznych na bazie węglika krzemu. Przeprowadzono obserwacje morfologii warstwy mikroskopem skaningowym oraz wykonano analizy składu chemicznego warstw. W celu oceny jakości pokrycia przeprowadzono badania adhezji.

EN

Design of the technological equipment for deposition of the (TiAl)N coatings on sintered carbide is presented. The standard vacuum evaporator NA501A produced by TEPRO Koszalin company was adopted. The covered parts were heads of drills for deep boring with diameter of φ = 22.5 mm. Pulsed magnetron sputtering MF (Medium Frequency) with WMK50 magnetron gun was used as deposition technology. Deposition was provided with single magnetron gun with sintered TiAl target. Target was produced by high temperature pressing of micropowder after SHS process. Deposition was carried out at high temperature of substrate (about 900K). For heating the substrates high temperatures table was made from ceramic materials based on silicon carbide. Scanning Electron Microscopy for morphology measurement and EDS for Chemical analysis were used. Adhesion of the coating was measured by scratch tests.

6

Rozwój cienkowarstwowych ogniw fotowoltaicznych

100%

Marszałek K. , Stapiński T.

Prace Instytutu Elektrotechniki

|

2014

|

tom Z. 266

199--206

PL

Fotowoltaika cienkowarstwowa jest jednym z najbardziej dynamicznie rozwijających się obszarów techniki ostatnich lat. W artykule przedstawiono rozwój ogniw fotowoltaicznych, w szczególności drugiej i trzeciej generacji, oraz zmiany, jakie się dokonują w produkcji paneli fotowoltaicznych z korzyścią dla paneli cienkowarstwowych. Opisano również szereg elementów cienkowarstwowych, będących elementem paneli fotowoltaicznych, w znaczący sposób wpływających na podstawowy parametr służący do oceny jakości ogniwa, jakim jest jego efektywność, jak również zmiany, jakie następują w rodzaju podłoży, będących elementami nośnymi każdej ze struktur cienkowarstwowych. Przedstawiono wpływ, jaki mają elektrody przewodzące, pasywacyjne, czy antyrefleksyjne na wydajność panelu fotowoltaicznego.

EN

Thin film photovoltaics is one of the fastest growing industrial field in the last few years. The development of the second and third generation of the solar cells is presented in this work, especially changes and a fast growing production of the thin film panels. All other thin film components which influenced the efficiency of solar panels are presented as well as the changes in substrates for thin film solar cell technology. The influence of the conductive transparent electrodes, passivation and antireflective films on efficiency of the solar panel is shown.

7

Ochrona przegród budowlanych przed rozwojem pleśni

100%

Marszałek K. , Boroń J.

Materiały Budowlane

|

2015

|

tom nr 10

58--60

PL

W artykule podjęto próbę zdefiniowania kryterium ochrony przegród budowlanych przed rozwojem grzybów pleśniowych. Do oceny zagrożenia przyjęto wartości czynnika temperaturowego fRsi z uwzględnieniem różnej klasy wilgotności pomieszczeń. Obliczenia dotyczyły miesiąca krytycznego w tych miejscach w Polsce, dla których dane meteorologiczne są dostępne na stronie internetowej Ministerstwa Infrastruktury i Rozwoju. Zaproponowano zilustrowanie wyników izoliniami stref sporządzonymi dla całego obszaru Polski.

EN

This paper describes the criterion for the protection of building envelopes against the growth of mould. For assessing the risk for envelopes, the fRsi temperature factor has been adopted. While calculating the temperature factor various room humidity classes have been taken into account. The calculations were performed for the critical month in these areas in Poland, for which typical meteorological year data are available on the website of the Ministry of Infrastructure and Development. The results of calculations have been illustrated with isolines drawn for the whole area of Poland.

8

Wirtualny przyrząd do pomiaru profili bocznych pojazdów z wykorzystaniem czujnika laserowego

100%

Marszałek K. , Sroka R.

|

tom R. 56, nr 9

1035-1038

PL

W pracy przedstawiono aplikację wirtualnego przyrządu przeznaczonego do współpracy z laserowym czujnikiem CM2-30 firmy Noptel. Umożliwia ona pełną konfigurację i obsługę czujnika. Podstawowym przeznaczeniem prezentowanego systemu są pomiary i rejestracja profili bocznych pojazdów będących w ruchu. Rejestrowane profile pojazdów są podstawą do określania ich klas, a tym samym umożliwiają analizę parametrów ruchu drogowego. Przedstawiany system może pracować jako stacjonarny lub mobilny. W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości metrologicznych czujnika laserowego oraz właściwości i cechy aplikacji współpracującej z tym czujnikiem. Przedstawiono również wyniki pomiarów wykonanych w rzeczywistym ruchu drogowym.

EN

The paper presents an application of a virtual instrument destined for cooperation with a laser sensor CM2-30's Noptel [3, 4, 5] (see Fig. 1). The application of the virtual instrument was developed in LabView environment. It enables the full configuration and operation of the sensor. Mode and sensor operating parameters can be specified by a user manually by using the available commands and by a set of possible to adjust parameters (see Fig. 2, 3, 4). Primary purpose of the presented system are measurements and registration of the side profiles of vehicles in motion (Fig. 5). Recorded profiles of the vehicles are the basis for determining their class, which is one of the most important parameters in the measurement of traffic parameters [1, 2]. Presented system can operate as a stationary or a mobile one. The paper presents the principle of operation, results of the metrological characteristics of a laser sensor (range, uncertainty, sampling frequency etc.), and features of applications working with this sensor (ten different options in which the sensor can operate). It also presents measurement results collected in real traffic (see Fig. 6, 7).

9

Problemy konstrukcyjne i technologiczne urządzeń próżniowych do nanoszenia struktur warstwowych na duże powierzchnie w systemie in-line

100%

Leja E. , Marszałek K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2006

|

tom Vol. 47, nr 4

15-17

PL

Przedstawiono współczesne linie technologiczne do nakładania powłok na duże powierzchnie, których wydajności sięgają kilkunastu milionów m2/rok. Obecnie funkcjonują na polskim rynku dwie linie o długości ponad 100 m z zainstalowanymi kilkudziesięcioma magnetronami w części próżniowej, w każdej z nich. Przedstawiono problemy techniczne występujące przy instalacji i użytkowaniu tak wysokowydajnych urządzeń, wytwarzających warstwy nanometrowej grubości i jednorodne optycznie na powierzchniach kilkunastu m2.

EN

In this paper current technological lines for coating deposition on large surface are presented. A few years ago all the problems with large area deposition were discussed only theoretically, while the largest technological line in Poland was about 15m long. We can add that it was designed by the authors of this paper. Today, on a Polish market two over 100 m length line with a few tens of magnetron sources in each one are installed. It is one of the main reason that the authors are interested in the large area coating deposition field. The authors could now transfer their knowledge on technological problems of large area deposition not only to students but also to engineers working in this new in our country production.

10

Energy generation analysis of crystalline and thin-film silicon photovoltaic panels in the local conditions of the Southern Poland

100%

Małek A. , Marszałek K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2016

|

tom Vol. 57, nr 1

65--70

EN

In this work the analysis of performance of crystalline and thin film silicon solar cell was performed based on a daily profiles of output power and annual gain of energy generated by particular PV modules installed in Miekinia AGH PV Laboratory nearby Krakow. The obtained results were normalized to the unit of surface area of PV module and to the 1 kWp of nominal power. It turned out that in relation to unit of surface area of PV module mono- and polycrystalline solar cells produced the greatest amount of energy. The micromorph modules gives two times less energy than crystalline solar cell, but approximately 27% more than amorphous silicon solar cell. In regarding to 1 kWp of nominal power the micromorph modules achieved the best results. In the carried out studies temperature influence on performance of PV modules were also analyzed. The results revealed that crystalline solar cells heat up to higher temperature than thin film solar cell in the same weather condition. In the case of crystalline silicon solar cell increase of PV module temperature caused significant loss of efficiency. For micromorph modules PCE was nearly the same in the whole range of temperature. Based on obtained date values of power conversion efficiency and performance ratio were also determined and it was turn out that in the weather condition of Southern Poland the polycrystalline solar cells achieved the best result.

PL

Przedmiotem pracy była analiza działania krystalicznych i cienkowarstwowych krzemowych modułów fotowoltaicznych. W ramach badań wykonano porównanie uzysków energetycznych oraz mocy generowanych przez monokrystaliczne, polikrystaliczne, amorficzne i mikromorficzne panele PV zainstalowane na terenie Laboratorium Edukacyjno- Badawczego Odnawialnych Źródeł i Poszanowania Energii AGH w Miękini koło Krakowa. Otrzymane wyniki zostały znormalizowane poprzez przeliczenie na jednostkę powierzchni modułu oraz 1 kWp zainstalowanej mocy. Okazało się, że w odniesieniu do jednostkowej powierzchni moduły krystaliczne uzyskały najlepsze rezultaty. Moduły mikromorficzne wygenerowały dwa razy mniej energii niż moduły krystaliczne ale o 27% więcej niż moduły amorficzne. W przeliczeniu na 1 kWp mocy nominalnej najlepszy wynik uzyskały moduły mikromorficzne. W ramach przeprowadzonych badań analizowano również wpływ temperatury modułu na efektywność jego pracy. Otrzymane wyniki pokazują, że moduły krystaliczne nagrzewają się do wyższych temperatur niż ogniwa cienkowarstwowe w tych samych warunkach pogodowych. W przypadku ogniw krystalicznych wzrost temperatury ogniwa powoduje znaczące pogorszenie parametrów ich pracy. Moduły mikromorficzne natomiast okazały się być nie wrażliwe na zmiany temperatury modułu. Na podstawie uzyskanych wyników obliczono również efektywność konwersji energii oraz współczynniki wydajności (Performance ratio) dla poszczególnych modułów. Okazało się, że w warunkach klimatycznych południowej Polski najlepiej pracują moduły polikrystaliczne.

11

Modyfikacja betonu proszkiem gumy wtórnej

80%

Rzymski W. M. , Czwianianc A. , Marszałek K.

Inżynieria i Aparatura Chemiczna

|

2005

|

tom Nr 3s

70-71

EN

The replacement of 25 wt. % sand in concrete mortal with ground vulcanized rubber wastes does not change its workability and dispersability of the mortal components. The incorporation of 5-10 wt.% ground rubber waste, characterized by the particles size of 1-2 or 2-3 mm, into concrete mortal icreases the bending strength of concrete obtained.

12

Computer Controlled System for the Magnetron Sputtering Deposition of the Metallic Multilayers

80%

Marszałek K. , Stępień J. , Mania R.

International Journal of Electronics and Telecommunications

|

2014

|

tom Vol. 60, No. 4

291-298

EN

Deposition of the metallic multilayers is a part of the scientific program on the chemical reaction leading to intermetallic compound formation. This reaction is known as self propagation high temperature synthesis (SHS). The key problem in this investigation is to produce the metallic multilayer system with good repeatability of thin films thicknesses. Thin should be thin, parallel and with low volume of intermixing region between components. Computer control system for the pulsed (mid frequency MF) magnetron sputtering equipment dedicated for metallic multilayers deposition is presented in this paper. The rotation velocity of the sample holder and the gas inlet through membrane valves are the main parameters controlled by the system. Parameters of the magnetron gun power supply, sample temperature and technological gas pressure are registered. The process cards which define all process parameters are collected for each dedicated process type. All cards are collected in a process cards library which permits for full automatization of all operations. Software was written in a graphical LabVIEW environment.

13

Termooptyczne właściwości warstw a-C:N:H

80%

Tkacz-Śmiech K. , Jaglarz J. , Pieczyńska E. , Marszałek K.

|

tom Vol. 35, nr 5

423--426

PL

W pracy przedstawiono wyniki pomiarów elipsometrycznych dla amorficznych warstw a-C:N:H, osadzonych na monokrystalicznych waflach krzemowych Si(001) z zastosowaniem metody PACVD (13,56 MHz). Pomiary wykonano w szerokim zakresie widmowym, 300÷1700 nm, podczas grzania próbki od temperatury pokojowej do 300°C oraz w powtórnym wygrzewaniu po wcześniejszym schłodzeniu próbki do temperatury pokojowej. Do otrzymanych dyspersyjnych zależności kątów elipsometrycznych, Ψ(λ) i Δ(λ), dopasowano model warstwy i wyznaczono dyspersję współczynników załamania i ekstynkcji, szerokość przerwy optycznej oraz grubość warstwy w różnej temperaturze. Wyniki pokazują, że wszystkie wyznaczone parametry są zasadniczo różne dla warstwy w temperaturze pokojowej nie poddanej wygrzewaniu, oraz dla warstwy w 300°C i warstwy wygrzanej po schłodzeniu do temperatury pokojowej. Ponowne wygrzanie warstwy prawie nie zmienia parametrów warstwy. Ponadto stwierdzono, że wszystkie zmiany mają miejsce w pierwszym wygrzewaniu w zakresie temperatury 250÷270°C. W tej temperaturze następuje zmiana grubości warstwy do około 50% wartości początkowej. Jednocześnie współczynniki termooptyczne, dn/dT i dk/dT, wykazują skokowe zmiany od wartości ujemnych do dodatnich. Na podstawie uzyskanych wyników sformułowano wniosek, że w temperaturze 270÷300°C ma miejsce stopniowa grafityzacja struktury, o charakterze nieodwracalnym. Dowodzą tego zmiany szerokości przerwy optycznej od wartości 2,45 eV (przed wygrzewaniem), charakterystycznej dla warstw z małym udziałem fazy C-sp2 (około 20%) do 0,7 eV (dla próbki w 300°C i po schłodzeniu), charakterystycznej dla warstw o dominującym udziale fazy C-sp2 (50÷70%). Wniosek ten został poparty zmianami w widmie Ramana, w którym zaobserwowano wzrost intensywności pasma G przy około 1620 cm–1 względem intensywności pasma D przy 1360 cm–1, od ID/IG W pracy przedstawiono wyniki pomiarów elipsometrycznych dla amorficznych warstw a-C:N:H, osadzonych na monokrystalicznych waflach krzemowych Si(001) z zastosowaniem metody PACVD (13,56 MHz). Pomiary wykonano w szerokim zakresie widmowym, 300÷1700 nm, podczas grzania próbki od temperatury pokojowej do 300°C oraz w powtórnym wygrzewaniu po wcześniejszym schłodzeniu próbki do temperatury pokojowej. Do otrzymanych dyspersyjnych zależności kątów elipsometrycznych, Ψ(λ) i Δ(λ), dopasowano model warstwy i wyznaczono dyspersję współczynników załamania i ekstynkcji, szerokość przerwy optycznej oraz grubość warstwy w różnej temperaturze. Wyniki pokazują, że wszystkie wyznaczone parametry są zasadniczo różne dla warstwy w temperaturze pokojowej nie poddanej wygrzewaniu, oraz dla warstwy w 300°C i warstwy wygrzanej po schłodzeniu do temperatury pokojowej. Ponowne wygrzanie warstwy prawie nie zmienia parametrów warstwy. Ponadto stwierdzono, że wszystkie zmiany mają miejsce w pierwszym wygrzewaniu w zakresie temperatury 250÷270°C. W tej temperaturze następuje zmiana grubości warstwy do około 50% wartości początkowej. Jednocześnie współczynniki termooptyczne, dn/dT i dk/dT, wykazują skokowe zmiany od wartości ujemnych do dodatnich. Na podstawie uzyskanych wyników sformułowano wniosek, że w temperaturze 270÷300°C ma miejsce stopniowa grafityzacja struktury, o charakterze nieodwracalnym. Dowodzą tego zmiany szerokości przerwy optycznej od wartości 2,45 eV (przed wygrzewaniem), charakterystycznej dla warstw z małym udziałem fazy C-sp2 (około 20%) do 0,7 eV (dla próbki w 300°C i po schłodzeniu), charakterystycznej dla warstw o dominującym udziale fazy C-sp2 (50÷70%). Wniosek ten został poparty zmianami w widmie Ramana, w którym zaobserwowano wzrost intensywności pasma G przy około 1620 cm–1 względem intensywności pasma D przy 1360 cm–1, od ID/IG W pracy przedstawiono wyniki pomiarów elipsometrycznych dla amorficznych warstw a-C:N:H, osadzonych na monokrystalicznych waflach krzemowych Si(001) z zastosowaniem metody PACVD (13,56 MHz). Pomiary wykonano w szerokim zakresie widmowym, 300÷1700 nm, podczas grzania próbki od temperatury pokojowej do 300°C oraz w powtórnym wygrzewaniu po wcześniejszym schłodzeniu próbki do temperatury pokojowej. Do otrzymanych dyspersyjnych zależności kątów elipsometrycznych, Ψ(λ) i Δ(λ), dopasowano model warstwy i wyznaczono dyspersję współczynników załamania i ekstynkcji, szerokość przerwy optycznej oraz grubość warstwy w różnej temperaturze. Wyniki pokazują, że wszystkie wyznaczone parametry są zasadniczo różne dla warstwy w temperaturze pokojowej nie poddanej wygrzewaniu, oraz dla warstwy w 300°C i warstwy wygrzanej po schłodzeniu do temperatury pokojowej. Ponowne wygrzanie warstwy prawie nie zmienia parametrów warstwy. Ponadto stwierdzono, że wszystkie zmiany mają miejsce w pierwszym wygrzewaniu w zakresie temperatury 250÷270°C. W tej temperaturze następuje zmiana grubości warstwy do około 50% wartości początkowej. Jednocześnie współczynniki termooptyczne, dn/dT i dk/dT, wykazują skokowe zmiany od wartości ujemnych do dodatnich. Na podstawie uzyskanych wyników sformułowano wniosek, że w temperaturze 270÷300°C ma miejsce stopniowa grafityzacja struktury, o charakterze nieodwracalnym. Dowodzą tego zmiany szerokości przerwy optycznej od wartości 2,45 eV (przed wygrzewaniem), charakterystycznej dla warstw z małym udziałem fazy C-sp2 (około 20%) do 0,7 eV (dla próbki w 300°C i po schłodzeniu), charakterystycznej dla warstw o dominującym udziale fazy C-sp2 (50÷70%). Wniosek ten został poparty zmianami w widmie Ramana, w którym zaobserwowano wzrost intensywności pasma G przy około 1620 cm–1 względem intensywności pasma D przy 1360 cm–1, od ID/IG = 0,8 do prawie ID/IG = 0,45. 0,8 do prawie ID/IG = 0,45. 0,8 do prawie ID/IG = 0,45.

EN

Amorphous a-C:N:H layers, deposited on monocrystalline silicon Si(001) by PACVD (13.56 MHz), were subjected to ellipsometric studies. The measurements were performed in a broad spectrum, 300÷1700 nm, at heating from the room temperature to 300°C and at the reheating after earlier cooling the sample. The layer model was fitted to the recorded dispersion dependencies of ellipsometric angles, Ψ(λ) and Δ(λ). Hence, the dispersion of refractive and extinction indices, optical gap and thicknesses of the layer at various temperatures were determined. The results show that all these parameters are essentially different for the unheated layer and the layer heated to 300°C, as well as for the same layer cooled down the room temperature. The re-heating hardly changes the layer parameters. All observed changes occur during first heating, at the temperatures 250÷270°C. Starting from the temperature 250°C the layer thickness decreases to 50% of the initial value. Simultaneously, the thermo-optical parameters, dn/dT i dk/dT, show abrupt changes from negative to positive values. On the basis of the obtained results a conclusion has been formulated that at the temperature 250÷300°C a partial graphitization of the structure of a-C:N:H layer takes place. The structure transformation is irreversible. It is demonstrated mainly by the changes of the optical gap, from 2.45 eV (for the unheated sample), characteristic for the layers with small fraction of C-sp2 phase (about 20%) to 0.7 eV (for the sample at 300°C and after cooling down), typical for the layers with prevailing C-sp2 phase (50÷70%). Such conclusion has been additionally confirmed by the changes in Raman spectrum, in which an increase of the intensity of G band, at about 1620 cm–1 with respect to the intensity of D band at 1360 cm–1, from ID/IG = 0.8 to ID/IG = 0.45 has been found.

14

Właściwości optyczne pokryć antyrefleksyjnych dla zastosowań fotowoltaicznych

80%

Stapiński T. , Marszałek K. , Jaglarz J.

|

2014

|

tom R. 90, nr 9

91-93

PL

W pracy przeanalizowano wpływ pokryć antyrefleksyjnych zarówno na powierzchni szkła modułu fotowoltaicznego jak i stosowanych warstw ARC na powierzchni ogniw słonecznych na bazie krzemu na właściwości optyczne systemu. Wyznaczono rekomendowane wartości współczynników załamania oraz grubości pokryć. Wyliczone wartości pozostają w zgodności z wynikami pomiarów optycznych.

EN

In this paper authors analyzed the influence of antireflective coatings on glass surface of PV module and influence of ARC deposited on silicon surface of solar cells on optical properties of the system. The recommended values of thicknesses and refractive indices were estimated. These values are in a good agreement with results of optical measurements.

15

Zasilacz dużej mocy do wielkogabarytowej wyrzutni magnetronowej

80%

Marszałek K. , Dziadecki A. , Grzegorski J. , Skotniczny J.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2008

|

tom Vol. 49, nr 1

41-42

PL

Przedstawiono konstrukcję zasilacza dużej mocy do procesów jonowego rozpylania magnetronowego o regulowanych parametrach wyjściowych: napięcie oraz prąd. Cechą charakterystyczną zasilacza jest moduł sterownika tyrystorowego sterowanego napięciowym sygnałem zadającym, otrzymywanym automatycznie z nadrzędnego układu regulacji (komputer PC, sterownik programowalny PLC, dowolny układ mikroprocesorowy) lub ręcznie z potencjometru zadającego. Zasilacz jest odporny na wyładowania łukowe występujące w plazmie w procesie formowania katody (np. podczas procesów reaktywnych), jak i w awaryjnych stanach pracy.

EN

A high power supply with controlled output parameters: UH - output voltage and I - output current for magnetron sputtering processes is presented in this paper. The most characteristic feature is a tyristor module controlled by voltage signal from higher level control unit (personal computer PC, programmable controller PLC or any other microprocessor controller) or manually from variable resistor. The main feature of this power supply is to prevent any arc discharge occurring during the sputtering process.

16

LabVIEW controller for storage results and control parameters of low thickness antireflection coatings deposition processes

80%

Marszałek K. , Małek A. , Winkowski P. , Woźny K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2016

|

tom Vol. 57, nr 2

31--34

PL

W artykule przedstawiono system do kontroli, wizualizacji i zapisu danych procesów PVD. System został zaprojektowany w oparciu o środowisko LabVIEW i został z powodzeniem zastosowany w przemyśle optycznym. Wizualizacja jest bardzo intuicyjna dla operatora daje łatwą możliwość kontroli wszystkich parametrów procesu. Zapisane dane pomagają w polepszeniu jakości powłok i dają możliwość analizy procesów. Niski koszt wprowadzenie systemu czyni go również bardzo użytecznym narzędziem do modyfikacji starszego typu napylarek próżniowych oraz daje szansę stopniowej jego rozbudowy.

EN

System for control, visualization and storage of PVD processes data is presented in this paper. The system has been designed in LabVIEW environment and has been implemented successfully in optical industry. Visualization is very intuitive for the operator and gives easy control of all important process data. Stored process data help improve the quality of the coatings and provide the ability to analyze processes. Low cost of implementation of the system also makes it a very useful tool for modifying older types of vacuum coaters and gives a possibility of gradual further expansion of systems.

17

Computer controlled setup for thin film magnetoresistance measurements

80%

Marszałek K. , Kray S. , Marszałek M.

Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika

|

2005

|

tom z. 153

121-131

EN

The paper presents design and properties of the system for measuring of the magnetoresistance of multilayers and thin films. The measurement is automated using a computer with LabVIEW programming environment. labVIEW is a commercial high level praphical programming language that is designed for data acquisition and control. This paper discusses the applicability of LabVIEW in programming data acquisition systems in the physical experiments and demonstrates its utility in magnetoresistance measurements.

18

Warstwy TiN-Si3N4 nanoszone na tkaniny ochronne techniką magnetronową

80%

Mania R. , Marszałek K. , Morgiel J. , Wolański R.

|

2014

|

tom Vol. 55, nr 2

19-22

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań nad nanoszeniem i własnościami warstw ceramicznych TiN- Si3N4 na tkaninach technicznych. Do nanoszenia warstw użyto impulsowego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości (MF). Tarcze wykonano ze spieków tytanowo-krzemowych zawierających do 10% at. krzemu. Spieki otrzymano techniką prasowania na gorąco. Naniesione cienkie warstwy zawierały azotek tytanu oraz azotek krzemu. Przeprowadzone badania przy użyciu mikroskopu elektronowego Philips CM20 potwierdziły nanokrystaliczno-amorficzną strukturę warstw. Przebadano dwa rodzaje tkanin technicznych firmy DuPont tj. nomex i kevlar, metodą termograficzną. Wykonano badania odporności uzyskanych pokryć na tkaninach. Stwierdzono, że pokrycie tkanin warstwami ceramicznymi TiN- Si3N4 zdecydowanie zwiększa odporność tych tkanin na strumień energii cieplnej.

EN

The paper presents the investigations of ceramic films deposition on textiles. Pulsed medium frequency (MF) sputtering was used to deposit the TiN- Si3N4 films. Targets were obtained from the titanium-silicon sinters containing up to10at.% of the silicon. The sinters were prepared by the hot pressing technique. Titanium nitride and silicon nitride were detected in the sputtered thin films. The amorphous-nanocrystalline films structure was confirmed with use of the electron microscope Philips CM20. The thermal resistance investigation of these films on textiles such as DuPont Kevlar and Nomex, was performed using thermographic method. It was found that the ceramic films greatly increase the textiles resistance to a heat flux.

19

The GdF3/MgF2 bilayer as an antireflective narrow-band ultraviolet filter

80%

Marszałek K. , Małek A. , Winkowski P.

|

tom Vol. 46, nr 2

187--197

EN

The effective work of optical systems, applied in advanced optic and optoelectronic devices, requires antireflective coatings. In this work we focus on designing the bilayer system dedicated to work as a narrow-band filter within UV range of electromagnetic spectrum. Such coatings are applied in lasers where reduction in reflection to a small value at any single wavelength is needed. The bilayer system is based on GdF3 and MgF2 used as materials with middle and low refractive index. The multilayers were obtained by thermal evaporation on a highly purified CaF2 substrates. The spectral dispersion of the refractive index of single layers has been determined by ellipsometric measurements. Thicknesses of single layers included in the bilayer system, aimed to work at specific wavelength, have been optimized based on optical characteristics simulation, including experimentally measured values of the refractive indices. During the deposition, layer thickness and deposition rate were controlled with Inficon XTC/2 thickness measuring system. Optical properties of obtained GdF3/MgF2 bilayer systems have been determined based on spectral dependences of reflectance and transmittance measured with the application of a spectrophotometer. The crystal structure and phase composition of the films have been examined by X-ray diffraction. The result of studies revealed that proper optimization of thicknesses of individual layers creating GdF3/MgF2 bilayer systems makes it possible to obtain the antireflective coating for desired wavelength of electromagnetic spectrum. The GdF3/MgF2 antireflective bilayer will be applied as a narrow-band filter for 238 nm irradiation produced by gas-ion/BBO crystal laser.

20

Computer controlled system for residual gas analysis in ultrahigh vacuum

80%

Marszałek K. , Sulkio-Clef B. , Macuda R. , Marszałek M.

Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika

|

1999

|

tom z. 123

187-190

EN

The paper presents computer controlled system for residual gas analysis in ultrahigh vacuum. System consists ofthe Penningvac vacuum meter for the total pressure measurements, the quadrupole mass spectrometer Quadruvac Q200 for residual gas pressure measurements and personal computer IBM PC 486 with data acquisition card CIO-DAS08-AOH. Using described system one can measure total and partial pressure during the pumping or process time in UHV system equipped in analytical instrumentation. System operates under control of WINQUAD package written in Turbo Pascal for Windows (v.7.0).