Wyniki wyszukiwania - Biblioteka Nauki

1

Wytwarzanie cienkich warstw antyemisyjnych TiN na powierzchniach elementów mocy mikrofalowej i ich charakterystyka

100%

Lorkiewicz J. , Kula J. , Klimasz M. , Pszona S. , Sobczak J.

Inżynieria Materiałowa

|

2010

|

tom Vol. 31, nr 4

1068-1073

PL

Zjawiska elektronowej emisji wtórnej oraz multipaktoringu stanowią często poważne zagrożenie dla prawidłowej pracy mikrofalowych elementów mocy, takich jak klistrony, magnetrony, falowody i sprzęgacze. Z multipaktoringiem wiążą się efekty silnego wzrostu prądu elektronów wtórnych ze ścian układu próżniowego, desorpcji gazów powierzchniowych, lokalnego grzania powierzchni i powstania naprężeń cieplnych, które w przypadku izolacyjnych komponentów ceramicznych mogą doprowadzić do zniszczeń mechanicznych. Jednym ze środków zabezpieczających układy mocy wysokiej częstotliwości przed efektami multipaktoringu są pokrycia cienkimi warstwami materiałów o grubości rzędu kilku nanometrów, charakteryzujących się niską wartością wpółczynnika wtórnej emisji elektronowej SEY (ang. secondary ). Z uwagi na niską wartość SEY, jak również stabilność w polu mikrofalowym oraz w podwyższonej temperaturze związkiem często stosowanym do wykonywania tego typu pokryć jest azotek tytanu. Warstwy antyemisyjne TiN uzyskuje się obecnie dwiema metodami: metodą rozpylania katodowego oraz metodą naparowania tytanem w atmosferze rozrzedzonego amoniaku. Praca dotyczy zastosowania metody naparowania do wytwarzania warstw antyemisyjnych na ceramicznych lub metalowych powierzchniach elementów sprzęgaczy w ramach realizacji projektu badawczego Tesla Test Facility (TTF)/XFEL, realizowanego w Deutsches Elektronen Synchrotron (DESY) w Hamburgu oraz w Instytucie Problemów Jądrowych im. Andrzeja Sołtana (IPJ) w Świerku. Artykuł zawiera opis procedury nakładania warstw Tin oraz typowych wyników pomiarów SEY i składu chemicznego mierzonego metodą XPS.

EN

The performance of such RF power components as klystrons, magnetrons, wave-guides and couplers is often limited by secondary electron emission and multipacting. The latter results in the rise of secondary electron yield (SEY), residual gas desorption, local heating and thermal stresses which, particularly in ceramic elements, may lead to cracking. Surface coating with several nm thick films of low SEY materials is one of the most important anti-multipactor remedies. TiN surface layers are largely preferred for multipactor suppression due to their low secondary emission on the one hand and good stability in RF electromagnetic fields and in high temperatures on the other. Anti-multipactor TiN layers are usually reached using two methods: reactive magnetron sputtering or titanium evaporation in ammonia. This paper deals with TiN protective layers generation on ceramic or metal surfaces of RF couplers using evaporation technique developed within the frames of Tesla Test Facility (TTF)/XFEL project carried out in Deutsches Elektronen Synchrotron (DESY) in Hamburg and in The Soltan Institute for Nuclear Studies (SINS) at Świerk. The article describes the basics of the coating procedure, results of SEY coefficients measurements and XPS studies on TiN coated surfaces.

2

Rozwój techniki wytwarzania cienkowarstwowych wnęk rezonansowych dla akceleratorów liniowych

100%

Nietubyć R. , Sadowski M. J. , Mirowski R. , Witkowski J. , Lorkiewicz J.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2009

|

tom Vol. 50, nr 1

79-80

PL

Osadzanie cienkich warstw za pomocą wyładowania łukowego w warunkach ultrawysokiej próżni pozwala na otrzymywanie czystych warstw o zwartej strukturze. Przedstawimy zastosowanie tej techniki do otrzymywania nadprzewodzących warstw niobu znajdujących zastosowanie w technice przyspieszania cząstek. Celem prowadzonych badań jest zastąpienie wnęk rezonansowych akceleratorów liniowych z litego niobu, wnękami miedzianymi, których wewnętrzne ściany są pokryte mikrometrową warstwą Nb. Pozwoli to na uzyskanie silniejszego pola przyspieszającego poprzez poprawę własności nadprzewodzących warstwy Nb w porównaniu do niobu litego oraz poprzez poprawę wymiany ciepła dzięki zastosowaniu miedzianej konstrukcji.

EN

Ultra high vacuum cathodic arc deposition of thin, superconducting niobium layers has been recognized as a promising procedure for resonant cavities preparation for high gradient linear accelerators. We report the progress achieved in optimization of deposition process. The aim of undertaken studies is to adapt the copper cavities coated with thin Nb layer for use in a routine procedure and replace the bulk niobium cavities.

3

Superconducting niobium layers reached by using vacuum are technique in INFN-Roma Tor Vergata

72%

Lorkiewicz J. , Nietubyć R. , Sadowski M. J. , Di Giovenale D. , Catani L. , Cianchi A. , Tazzari S. , Polini R. , Russo R.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2009

|

tom Vol. 50, nr 1

110-112

EN

We describe the present status of research and development of superconducting niobium layers' generation by using UHV are method in INFN Roma Tor Vergata carried out as a realization of the Work Package 4 (thin Film Cavity Production) of the Joint Research Activity (JRA-1) in a frame of the Coordinated Accelerator Research in Europe (CARE) project. The paper contains descriptions of two coating stands of planar are geometry: a device for coating sapphire and glass substrates and a stand destined for niobium deposition on the inner surfaces of 1.3 GHz RF cavities with celi geometry used in TTF and X-FEL accelerating structures. The surface layers reached in different deposition conditions are characterized for their microstructures and static superconducting parameters. They are compared with bulk niobium features and with niobium layers obtained at CERN by using sputtering method within the previous decade.

PL

Zaprezentowano obecny stan prac nad wytwarzaniem nadprzewodzących warstw niobu metodą łuku próżniowego przeprowadzonych w INFN-Roma Tor Vergata w Rzymie w ramach programu CARE-JRA1-WP4. Praca zwiera opis dwóch stanowisk do pokryć cienkimi warstwami niobu z wykorzystaniem łuku płaskiego: stanowiska do pokryć próbek szafirowych i szklanych oraz stanowiska do depozycji niobu na wewnętrznej powierzchni wnęk rezonansowych 1,3 GHz o geometrii celi stosowanej w strukturach przyspieszających TTF oraz X-FEL. Scharakteryzowano warstwy powierzchniowe uzyskane w różnych warunkach depozycji pod względem ich mikrostruktury oraz parametrów nadprzewodnictwa. Przytoczono wyniki pomiarów RRR, stałej sieciowej jak również scharakteryzowano morfologię warstw niobu uzyskanych na próbkach szafirowych i miedzianych i porównano je z właściwościami litego niobu wysokiej czystości oraz warstw niobu uzyskanych w ubiegłej dekadzie w CERN metodą sputteringu.

4

Cienkie warstwy nadprzewodzące struktur RF do akceleratorów

58%

Langner J. , Mirowski R. , Sadowski M. J. , Strzyżewski P. , Witkowski J. , Tazzari S. , Catani L. , Cianchi A. , Lorkiewicz J. , Russo R. , Tazzioli F. , Proch D.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2005

|

tom Vol. 46, nr 7

6-11

PL

Przedstawiono stan badań nad wytwarzaniem cienkich warstw nadprzewodzących w strukturach przyspieszających RF, prowadzonych w IPJ Swierk i INFN Roma2 w ramach Programu CARE-JRA-1-WP4. Prace te ukierunkowane są, na rozwój nowej metody wytwarzania cienkich warstw niobu za pomocą wytedowah lukowych przeprowadzanych w warunkach ultra- wysokiej próżni.

EN

The paper describes efforts of institutions which are engaged in the realization of the Work Package 4 (Thin Film Cavity Production) of the Joint Research Activity (JRA-1) within a frame of the Coordinated Accelerator Research in Europe (CARE) program. JRA-1 is aimed at developing superconducting RF technology, mainly methods for producing superconducting Nb coated copper cavities which might ensure higher accelerating fields, lower RF losses and possibly reduction of costs compared to present state of the art. WP4 is thus focused on the development of a new method to produce thin Nb-coatings by means of arc discharges performed under ultra-high vacuum (UHV) conditions.