PL
 |
EN
Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Applicability of microwave plasma CVD and electrochemical process for deposition of diamond-related thin films
100%
Kulesza S. , Madaj D.
|
|
tom Vol. 50, nr 1
56-58
EN
Microwave plasma CVD and electrochemical method have been described and analyzed in the paper taking into consideration their feasibility of growing diamond-based structures.
PL
W pracy przedstawiono wykorzystanie metody osadzania chemicznego z fazy gazowej (MP-CVD) oraz metody elektrochemicznej pod kątem odkładania struktur węglowych o dominującej hybrydyzacji tetraedrycznej (diamentopodobnych).
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.