W pracy przedstawione zostały najważniejsze parametry technologii osadzania pod kątem GLAD (ang. Glancing Angle Deposition) z wykorzystaniem magnetronowego rozpylania jonowego w celu wytwarzania półprzewodnikowych, rezystancyjnych czujników gazów przeznaczonych do zastosowania w układach elektronicznego nosa (ang. e-nose) do analizy wydychanego powietrza.
EN
In this paper, the major parameters of the GLAD (Glancing Angle Deposition) technique with the utilization of the magnetron sputtering technology were presented. The GLAD technology was applied to deposition of resistive, semiconductor type gas sensors that will be applied to electronic nose (e-nose) for exhaled breath analysis in a portable device.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.