Inżynieria i Aparatura Chemiczna - Tom Nr 3 (2000) - Biblioteka Nauki - Yadda

Nowa wersja platformy, zawierająca wyłącznie zasoby pełnotekstowe, jest już dostępna.
Przejdź na https://bibliotekanauki.pl

Tom - szczegóły

Tytuł artykułu

Nr 3

Czasopismo

Inżynieria i Aparatura Chemiczna

Wydawca

Rocznik

2000

Identyfikatory

Zawartość wolumenu

Nr 3
- artykuł: Komputerowa Inżynieria Procesowa - aspekty edukacyjne (Thullie J., Gierczycki A.), s. 3-6
- artykuł: Adsorpcyjne osuszanie n-butanolu na nieruchomym złożu sit molekularnych (Gabruś E., Paderewski M.), s. 6-9
- artykuł: Pomiar szerokości strefy metastabilnej wodnych roztworów soli za pomocą chłodzenia naturalnego (Machej K., Piotrowski K., Słuszniak K.), s. 10-14
- artykuł: Możliwości zastosowania współprądowych absorberów do absorpcji dwutlenku siarki w procesach oczyszczania spalin (Mokrosz W.), s. 14-20

rozwiń roczniki

JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.