Włókiennicze materiały barierowe do ochrony przed działaniem pola elektromagnetycznego (PEM) otrzymywane metodą rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Wiśniewski, B. , Koprowska, J.

Warianty tytułu

EN

Textile barrier materials protecting against electromagnetic field (EMF) radiation obtained by magnetron sputtering method

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

EN

Magnetron sputtering is one of the methods which can be used for materials metallization. This paper demonstrates the construction of magnetron device and results of electromagnetic field attenuation by barrier materials obtained according to this method. Polypropylene nonwoven with deposited thin metal layers is the base of barrier material. The results of surface resistance showed that composite textile materials conduct electricity depending on the type of deposited metal alloys. Obtained metallic coatings are uniform on the whole surface of textile material. Barrier materials attenuate electromagnetic field (EMF) radiation of a broad frequency range (from a few MHz to several GHz). The best results of shielding effectiveness were obtained for the following coatings on polypropylene nonwoven: Cu/Sn (44-52 dB) and Cu/Zn/Ni (37-38 dB) for the frequency 27,12 MHz. This publication was prepared within the key project ENVIROTEX-PO IG no. 01.03.01-00-006/08 co-financed from the funds of European Regional Development Fund within the framework of the Operational Programme Innovative Economy 2007 - 2013.

Słowa kluczowe

PL

pole elektromagnetyczne; materiały włókiennicze; materiały barierowe

• Czasopismo: Przegląd Włókienniczy - Włókno, Odzież, Skóra
• Rocznik: 2014
• Tom: nr 2
• Strony: 29--32
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Wiśniewski, B.

• Instytut Włókiennictwa w Łodzi

autor

Koprowska, J.

• Instytut Włókiennictwa w Łodzi

Bibliografia

• 1. Młynarczak A., Jakubowski J.: Obróbka powierzchniowa i powłoki ochronne. Wydawnictwo Politechniki Poznańskiej, Poznań 1998.
• 2. Kocemba W.: Powłoki PVD BALINIT®. Wybrane zastosowania. Inżynieria Powierzchni, 2005, nr 2, str. 57-61.
• 3. Kelly P. J., Arnell R. D.: Magetron sputtering: a review or recent developments and applications, Vacuum, 2000, 56, str. 159-172.
• 4. Xiang Y., Chengbiao W. L. Yang L. i wsp.: Recent Developments In Magnetron Sputtering, Plasma Science & Technology, 2006, vol. 8, nr 3, str. 337-343.
• 5. Ziaja J., Koprowska J., Janukiewicz J.: Using plasma metallisation for manufacture of textile screens against electromagnetic fields, Fibres & Textiles in Eastern Europe, 2008, vol. 16, nr 5, str. 64-66.
• 6. Stec A.: Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania magnetronowego, PAK 1/2005, str. 53-55, Politechnika Rzeszowska.
• 7. Zhang S., Fu Y., Zeng X. T. i wsp.: Magnetron sputtering of nanocomposite (Ti,Cr) CN/DLC coatings, Surface and Coatings Technology 2002, 162, str. 42-48.
• 8. Dobrzański L. A.: Kształtowanie struktury i własności powierzchni materiałów inżynierskich i biomedycznych. Instytut Materiałów Inżynierskich i Biomedycznych, Politechnika Śląska, Gliwice 2009.
• 9. Ozimek M., Wilczyński W.: Zastosowanie cienkich warstw Ni-Fe w ekranowaniu pól elektromagnetycznych, PRACE INSTYTUTU ELEKTRONIKI, 2009, zeszyt 241, str. 40-50.
• 10. Stec W.: Metoda bezstykowego wyznaczania rezystancji cienkich warstw przewodzących, rozprawa doktorska, AGH Kraków 2008.
• 11. http://www.mif.pg.gda.pl/homepages/maria/pdf/MF_warstwy.pdf.
• 12. Zradziński P., Gryz K., Karpowicz J. i wsp.: Profilaktyka zagrożeń elektromagnetycznych - symulacje komputerowe i badania osłon ekranujących, CIOP -PIB, Bezpieczeństwo Pracy 10/2003.