Badanie procesu nanoszenia cienkich warstw węgla otrzymywanych metodą impulsowego magnetronowego rozpylania

• Autorzy: Posadowski, W. , Gruszka, M.

Warianty tytułu

EN

Investigation of the deposition process of carbon thin films obtained using pulsed magnetron sputtering method

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule zaprezentowano wyniki badań impulsowych procesów rozpylania targetów z grafitu pyrolitycznego (φ = 100 mm) za pomocą wyrzutni magnetronowej typu WMK-100. Mierzono charakterystyki rozkładów natężenia pola magnetycznego oraz określono stopień niezbalansowania magnetronu przy wykorzystaniu kilku wymiennych układów magnetycznych. Badano wpływ parametrów technologicznych (gęstość mocy wydzielanej w materiale rozpylanym, warunki chłodzenia targetu, odległość target podłoże, ciśnienie gazu roboczego Ar) na przebieg procesu rozpylania grafitu pyrolitycznego. Wstępne obserwacje wskazywały na otrzymywanie cienkich warstw składających się z fazy grafitowej i fazy diamentopodobnej.

EN

The article presents the results of investigations of pulsed magnetron sputtering processes from pyrolytic graphite targets (φ = 100 mm) using WMK-100 magnetron sputtering gun. Distributions of magnetic field were measured and magnetrons degrees of unbalance were established for several interchangeable magnetic assemblies. The influence of technological parameters (power density in the sputtered material, target cooling conditions, target substrate distance, working gas Ar pressure) on the pyrolytic graphite target sputtering process was investigated. Preliminary observations indicated that obtained thin films consisted of graphite phase and diamond like phase.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie magnetronowe; cienkie warstwy; węgiel; diamentopodobne; DLC

EN

magnetron sputtering; thin films; carbon; diamond-like; DLC

• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2014
• Tom: Vol. 55, nr 10
• Strony: 37-40
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Posadowski, W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Zakład Technologii Próżniowych i Plazmowych

autor

Gruszka, M.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Zakład Technologii Próżniowych i Plazmowych

Bibliografia

• [1] S. Aisenberg, R. Chabot, Ion beam deposition of thin films of diamondlike carbon, J. Appl. Phys., vol. 42, no. 7, June (1971), 2953.
• [2] B. Window and N. Savvides, Charged particle fluxes from planar magnetron sputtering sources, Journal of Vacuum Science & Technology, A 4, (1986), 196.
• [3] http://www.gencoa.com/.
• [4] W. M. Posadowski, A. Wiatrowski, J. Dora, Z. J. Radzimski, Magnetron sputtering process control by medium-frequency power supply parameter, Thin Solid Films, 516, (2008), 4478.

Identyfikatory

DOI

10.15199/ELE-2014-167