Powłoki CrN na wewnętrznych powierzchniach rur i cylindrów

• Autorzy: Betiuk, M.

Warianty tytułu

EN

CrN coatings on inner surface of tubes and cylinders

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Rozpylanie magnetronowe znajduje zastosowanie w technologii inżynierii powierzchni. Proces ten pozwala wytwarzać powłoki o nowych własnościach tribologicznych, elektrycznych, optycznych, korozyjnych. W pracy przedstawiono syntetycznie obecny stan wiedzy na temat magnetronowych źródeł plazmy o geometrii liniowej i cylindrycznej oraz cylindryczno-prętowej, stosowanych w technologiach PA PVD. Omówiono badania prowadzone w kraju, których celem było wytworzenie odpornych na zużycie eksploatacyjne warstw i powłok na wewnętrznych powierzchniach cylindrów i rur z zastosowaniem technologii azotowania jarzeniowego i MS PVD. Pokazano obszary zastosowań technologii plazmowych w ograniczonej przestrzeni reakcyjnej. Omówiono wyniki badań prowadzonych w Instytucie Mechaniki Precyzyjnej nad technologią otrzymywania powłok MS PVD na wewnętrznych powierzchniach rury z wykorzystaniem długiego magnetronu cylindrycznego.

EN

Magnetron sputtering technology is used in a wide area of surface engineering technology. Coatings with new tribological, electrical, optical and corrosion properties can be produced in that way. The paper presents synthetically the current state of knowledge on magnetron plasma sources with linear geometry and cylindrical, cylindrical rod used in technologies PA PVD. Researches, on national level, aimed to producing wear and tear resistant films and coatings on the inner surfaces of cylinders or tubes using technology of plasma nitriding and PVD MS are discussed. Areas of application of plasma technology in confined spaces reaction are shown. The results of technology research on the preparation of IMP MS PVD coatings on the inner surface of the tube using a long cylindrical magnetron are presented.

Słowa kluczowe

PL

PA PVD; magnetron cylindryczny; MS PVD; magnetron; CrN; plazma

EN

coatings; PA PVD; cylindrical magnetron; MS PVD; magnetron; CrN; plazma

• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2013
• Tom: Vol. 34, nr 6
• Strony: 631--634
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., rys.

Twórcy

autor

Betiuk, M.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa,

Bibliografia

• [1] Sokołowska A.: Niekonwencjonalne środki syntezy materiałów. PWN, Warszawa (1991).
• [2] Czernietski A. : Wstęp do fizyki plazmy. PWN, Warszawa (1971).
• [3] Celiński Z.: Plazama. Biblioteka problemów, PWN, Warszawa (1980).
• [4] Kordus A.: Właściwości i zastosowania w technice. WNT, Warszawa (1982).
• [5] Miernik K.: Magnetron liniowy, teoria, konstrukcja, charakterystyki. Materiały III Szkoły Mielno’92 159÷188.
• [6] Miernik K.: Działanie i budowa magnetycznych urządzeń rozpylających. ITE Radom (1997).
• [7] Angstrom Sciences – Magnetron Sputtering Technology & Sputtering Materials – www.angstromsciences.com
• [8] Patent: Sposób stosowania katody napylającej z targetem z rotacją. 04.07.2007 Europejski Biuletyn Patentowy EP 1722005 B12007/27.
• [9] Walkowicz J.: Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni. Studia i rozprawy, ITeE-PIB, Radom (2003).
• [10] Betiuk M.: Badanie charakterystyki pracy magnetonu rurowego. Prace stautowe, IMP (2011).
• [11] Posadowski W.: Nowoczesne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław (2001).
• [12] Brudnik A.: Otrzymywanie warstw TiN z zastosowaniem optycznej kontroli procesu reaktywnego rozpylania. Rozprawa doktorska, Akademia Górniczo-Hutnicza, Kraków (1993).
• [13] Michalski A.: Fizykochemiczne podstawy otrzymywania powłok z fazy gazowej. Wydawnictwa Politechniki Warszawskiej, Warszawa (2000).