Modification of silicon surface under the action of compression plasma flow

• Autorzy: Anishchik, V. , Uglov, V. , Astashynski, V. , Ananin, S. , Askerko, V. , Kostyukevich, E. , Kuzmitski, A. , Kvasov, N. , Daniluk, A. , Astashynski, V. M.
• Konferencja: Techniki Próżni i Technologie Próżniowe (6; 7; 22-25.09.2002; Korbielów, Polska)
• Języki publikacji: EN

Słowa kluczowe

PL

powierzchnie silikonowe; plazma

• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika
• Rocznik: 2002
• Tom: z. 143
• Strony: 175-178
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., schem., rys.

Twórcy

autor

Anishchik, V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Uglov, V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Astashynski, V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Ananin, S.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Askerko, V.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kostyukevich, E.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kuzmitski, A.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kvasov, N.

• Białoruski Państwowy Uniwersytet Informatyki i Radioelektroniki

autor

Daniluk, A.

• Białoruski Państwowy Uniwersytet Informatyki i Radioelektroniki

autor

Astashynski, V. M.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

Bibliografia

• 1. V.V. Uglov, V.M. Anishchik, V.V. Astshynski, et al. JETP Letters, 74(2001)234.
• 2. A.I. Morozov. Sov. J. Plasma Phys. 1(1975)95.
• 3. V.M. Astashinskii, V.V. Efremov, E.A. Kostyukevich, et al. Sov. J. Plasma Phys. 17(1991)545.
• 4. V.M. Astashinskii, G.i. Bakanovich, A.M. Kuz’mitskii, et al. J. Engineering Physics and Thermophysics 62(1992)281.