Trawienie i wspomaganie jonowe w procesie PA PVDArc - źródło jonów AIDA

• Autorzy: Betiuk, M. , Szudrowicz, M.

Warianty tytułu

EN

Ion etching and ion assisted in PAPVD-Arc process - AIDA ions source

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka Powierzchniowa" (VI; 20-23.09.2005; Kule k. Częstochowy, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W nowoczesnych technologiach PA PVD dodatkowe strumienie jonów pierwiastków gazowych, wytwarzanych w niezależnych źródłach plazmy, wspomagają proces przygotowania powierzchni i uczestniczą w syntezie powłok np. TiN, TiAlN. Trawienie jonowe, które jest procesem fizycznym lub fizykochemicznym stosowane jest do oczyszczenia i ujednorodnienia podłoża z warstw zanieczyszczeń i zdefektowania. Uczestnictwo jonów w procesie wzrostu powłok umożliwia uzyskiwanie materiału warstwy 0 mniejszym zdefektowaniu. W artykule, opisano zasadę działania generatora jonów 0 nazwie AIDA. Przedstawiono wyniki badań wpływu oddziaływania strumienia jonów reaktywnych N2+ z powierzchni Fe, Al, Cu oraz z warstwami otrzymanymi w procesie regulowanego azotowania gazowego. przedstawiono również porównawcze wyniki badań spektralnych plazmy azotowej źródła jonowego i plazmy anomalnego wyładowania jarzeniowego.

EN

In new P APVD methods additional gas ions steams from independent of plasma sources assisted in TiN, TiAlN synthesis process and also in surface prepared process. Ion etching is a physical or chemical-physical process used to surface cleaning. Another apply of ion etching is homogenizing of surface structure and eliminate of defects and impurities. The ions being in layers growth, make a possibility to obtain the layer with lower defect contamination. In the paper are presented the mechanism of AlDA ions generator. Here are presented the results how steam of reactive ions N2+ influence on surface obtain in gas nitriding process and Fe, Al., Cu surfaces. There are showed also the comparative diagrams of spectral investigation of nitriding plasma source and anomaly glow discharge plasma .

• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 26, nr 5
• Strony: 277-280
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., rys.

Twórcy

autor

Betiuk, M.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej

autor

Szudrowicz, M.

• WITiPS

Bibliografia

• [1] Burakowski T. Wierzchoń T.: „Inżynieria powierzchni metali” WNT Warszawa 1995.
• [2] Zdanowski J Oleszkiewicz W.: „Rola jonów w procesach nanoszenia warstw cienkich z fazy gazowej.”, 12 th Summmer School Kołobrzeg ‘2000 Modern Plasma Surface Technology, s. 75-133.
• [3] Smolik J.,Walkowicz J., Miernik K.:”Badanie fizykochemicznych podstaw regulacji procesu azotowania jarzeniowego z wykorzystaniem diagnostyki plazmy”, Problemy eksploatacji 2-200, s. 335-347.
• [4] Koval I.M., Langner J., Sadowski M.: „Use a low-pressure nonself-sustained ARC discharge for plasma ion treatment of materials.”, ION 2000 Ion Implantation and Other Applications of Ions and Electrons”, Kazimierz Dolny, June 12-15, 2000.