Warianty tytułu
FTIR and Raman studies of C-Ni films prepared by PVD method
Konferencja
Konferencja Techniki Próżni. 9 ; Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials ; 6-9.06.2011; Cedzyna, Polska
Języki publikacji
Abstrakty
W pracy zastosowano spektroskopię FTIR oraz Ramana do charakteryzacji struktury molekularnej nanostrukturalnych warstw węglowo-niklowych. Techniki te pozwoliły na potwierdzenie obecności w badanych warstwach octanu niklu oraz fullerenu, które nie uległy całkowitemu rozkładowi podczas procesu PVD. Spektroskopia FTIR umożliwiła również określenie wpływu parametrów technologicznych osadzania warstw na ich strukturę molekularną.
In this work FTIR and Raman spectroscopy was used for characterization of the molecular structure of nanostructural carbonaceous-nickel films. These techniques allowed to confirm the presence of not completely decomposed nickel acetate and fullerene in the investigated films. FTIR spectroscopy has also enabled to determine the influence of technological parameters of PVD process on the films molecular structure.
Rocznik
Tom
Strony
37-38
Opis fizyczny
Bibliogr. 7 poz., wykr.
Twórcy
autor
autor
autor
- Instytut Tele- i Radiotechniczny, Warszawa
Bibliografia
- [1] Czerwosz E., Kozłowski M., Kowalska E., Radomska J., Rymarczyk J., Wronka H.: Elektronika 7 (2009), 117-119.
- [2] Czerwosz E., Kowalska E., Kozłowski M.: Elektronika 7 (2008), 46-48.
- [3] Czerwosz E.: Elektronika 1 (1998), 17-20.
- [4] Guan H., Zhou W., Fu S., Shao C., Liu Y.: J. Phys. Chem. Solids 70 (2009), 1374-1377.
- [5] Byszewski R., Klusek Z.: Opto-Electron. Rev. 9(2) (2001), 203-210.
- [6] Kuzmany H., Pfeiffer R., Hulman M., Kramberger Ch.: Phil. Trans. R. Soc. Lond. A 362 (2004), 2375-2406.
- [7] Lebedkin S., Gromov A., Giesa S., Gleiter R., Renker B., Rietschel H., Kratschmer W.: Chemical Physics Letters vol. 285, Issues 3-4 (1998), 210-215.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikatory
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWAD-0025-0010